專利名稱：流體噴嘴的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種流體噴嘴，尤其涉及一種通過改善其結(jié)構(gòu)而能夠 均勻噴射藥液的流體噴嘴。
背景技術(shù)：
通常，流體噴嘴是向基板表面噴射藥液等流體的裝置。所述流體 噴嘴根據(jù)其用途可應(yīng)用于各種領(lǐng)域。即，所述流體噴嘴可應(yīng)用于在基 板上涂敷藥液而形成涂層的涂敷裝置、利用藥液對基板進(jìn)行顯影作業(yè) 的顯影裝置、以噴射清洗液來除去基板上異物的清洗裝置等種種裝置。圖1和圖2舉例示出了流體噴嘴用于顯影裝置上的示意圖。如圖1 所示，流體噴嘴1的噴嘴本體2設(shè)置于基板G的上部。而且，所述噴 嘴本體2上連接有用于供給藥液W的藥液供給管6。由此，藥液供給 管6所供給的藥液W通過噴嘴本體2的吐出口 N噴射到基板G上面。此時(shí)，噴嘴本體2由第一板體4及第二板體3構(gòu)成，且所述第一 板體4及第二板體3相隔預(yù)定距離設(shè)置，從而在所述兩個(gè)板體之間形 成流;洛，并在所述流;洛端部形成吐出口 N。藥液W則通過所述吐出口 N向外噴射?，F(xiàn)有技術(shù)的流體噴嘴通過噴嘴噴射藥液時(shí)，其藥液沿著直線軌跡 高速噴出后與基板相接觸。此時(shí)，由于高速噴出的藥液與基板點(diǎn)接觸， 因此在基板上面由吐出藥液所形成的表面不均勻且呈波紋狀，從而在 生產(chǎn)工序中會(huì)導(dǎo)致障礙。 為了克服上述問題，當(dāng)通過加大吐出口的橫截面來使藥液減速時(shí)， 吐出口內(nèi)表面和藥液之間的附著力減弱，而組成藥液的分子之間引力 相對變大，進(jìn)而使藥液相互凝聚，導(dǎo)致藥液以不均勻的狀態(tài)噴射。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明鑒于上述問題而作，其目的在于提供一種通過改善噴嘴結(jié) 構(gòu)來向基板均勾地吐出藥液的流體噴嘴。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種流體噴嘴，其包括噴嘴本體， 其由一對板體構(gòu)成，且具有向基板吐出流體的吐出口；流if各，其形成在所述噴嘴本體內(nèi)部，且用于朝所述吐出口方向引導(dǎo)流體。其中，所 述吐出口端部的吐出面面積大于所述流路的橫截面面積，此結(jié)構(gòu)可使 通過所述流路的流體減速后吐出。本發(fā)明所提供的流體噴嘴具有如下優(yōu)點(diǎn)。第一，由于形成在噴嘴內(nèi)部的流路寬度比較窄，所述流體對流路 內(nèi)表面的附著力比較大，因此可在關(guān)閉閥門時(shí)能夠使殘留的流體停止 流動(dòng)，從而防止不必要的流體吐出而減少流體使用量。第二，由于吐出口的吐出面積大于流3各的才黃截面面積，因此可以 使大量流體低速吐出。第三，由于在吐出口上形成曲面，流體可沿著所述曲面吐出，因 此可以使大量流體低速向基板吐出。第四，在流路上設(shè)置腔室的結(jié)構(gòu)，可以使流過所述流路的流體暫 時(shí)停留在腔室后再流出。因此此種結(jié)構(gòu)可以使流體在流^Ji均勻地流 動(dòng)。


圖1是現(xiàn)有流體噴嘴結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。圖2是圖1所示現(xiàn)有流體噴嘴結(jié)構(gòu)的主視圖。圖3是根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的流體噴嘴的立體圖。圖4是圖3所示流體噴嘴的主視圖。圖5是圖3所示流體噴嘴的側(cè)視圖。圖6是圖5所示流體噴嘴中吐出口的局部放大圖。標(biāo)記i兌明10:噴嘴12:噴嘴本體14:第二板體16:第一板體20:流路C:腔室具體實(shí)施方式
下面，參照附圖詳細(xì)說明本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的流體噴嘴結(jié)構(gòu)。所述流體噴嘴可適用于顯影裝置、涂敷裝置及清洗裝置，但下面 僅對其在顯影裝置上的應(yīng)用情況進(jìn)行說明。
圖3是本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的流體噴嘴的簡單立體圖，圖4是圖3所示流體噴嘴的正s見圖。如圖所示，本發(fā)明的流體噴嘴IO可配置于通過輥輪R輸送的基板 G的上方。所述流體噴嘴IO具有用于向基板G吐出流體W (以下稱為藥液) 的吐出口 N,并且包括用于向所述噴嘴10供給藥液W的流體供給管 18 (以下稱為藥液供給管)。設(shè)置后的所述流體噴嘴10與所述基板G具有一定的傾斜角度。因 此，通過所述流體噴嘴IO吐出的藥液W朝基板G前進(jìn)方向的相反方 向吐出。如圖4至圖6所示，本發(fā)明實(shí)施例的流體噴嘴10包括噴嘴本體 12，其由一對板體組成，且具有用于向基板G吐出藥液W的吐出口 N; 流路20，其形成在所述噴嘴本體12內(nèi)部，且用于朝所述吐出口 N方 向引導(dǎo)流體。組成所述噴嘴本體12的一對板體包括第一板體16與第二板體14, 其中所述第一板體16靠近所述基板G,而所述第二板體14則與所述 第一板體16相對地設(shè)置，并通過其它連接部件(未圖示)與所述第一 板體16相連接。所述板體的形狀為長方體狀。其中，所述第一板體16和第二板體14相隔預(yù)定距離設(shè)置，且兩 者之間形成流路20。
如上所述，所述流路20可將第一板體16及第二板體14這兩個(gè)板體通過連4姿部件相互連4姿而形成，也可以通過對 一個(gè)4反體內(nèi)部進(jìn)4亍加 工而形成。另外，所述多個(gè)藥液供給管18分別與所述噴嘴本體12相連通， 而所述長方體狀噴嘴本體12上，所述多個(gè)藥液供給管18之間最好具 有預(yù)定的間隔，以便向所述流路20供給均勻的藥液。此時(shí)，在預(yù)定范圍內(nèi)形成所述流路20的寬度t,例如，其寬度范 圍為O.lmm至1.9mm。即，所述寬度t窄于現(xiàn)有裝置的流路寬度2.0mm。如此，當(dāng)流路20的寬度t較窄時(shí)單位面積的流量就會(huì)減少，進(jìn)而 使流路20內(nèi)表面和藥液W之間的附著力增加。即，作用于藥液W和流路20內(nèi)表面之間的附著力將會(huì)克服作用 于藥液之間的引力。因此，通過所述流路20流出的藥液W之間互相凝聚的傾向不如 沿著扁平狀流路20內(nèi)表面流下的傾向占優(yōu)勢。因此，所述藥液W可 通過扁平狀流路20的內(nèi)表面均勻吐出。而且，向所述流路20供給藥液W的藥液供給管18通過開關(guān)功能 可有效地噴射流體。即，如果阻斷向噴嘴12的流路20供給的藥液W,由于藥液W得 不到繼續(xù)供給，流路20中的藥液W所受到的重力.小于其對流路20內(nèi) 表面的附著力。因此，殘留在流路20中的藥液W在所述附著力的作 用下停留在某一位置上。
通過所述噴嘴12的開關(guān)功能可防止不必要的藥液吐出，從而可節(jié)省約50%的藥液。 '另外，所述流路20上形成有腔室C，其對藥液W起著引導(dǎo)作用，從 而使藥液W噴射得更加均勻。即，所述腔室C是在所述第一板體16 表面上以預(yù)定深度形成的具有半圓型剖面的槽。所述腔室C在第一板 體16的表面橫向形成。因此，通過所述流路20流下的藥液W儲(chǔ)存在所述腔室C內(nèi)后， 在腔室C內(nèi)互相混合。并且，如果腔室C內(nèi)部儲(chǔ)存預(yù)定量的藥液W就 會(huì)溢出，從而使藥液W沿著流路20流下。如此，在藥液W通過腔室C的過程中，在流過流路20的上部區(qū) 域即流過腔室C上部區(qū)域時(shí)，由于藥液W與流路20內(nèi)表面接觸，因 此藥液W的流動(dòng)性增加，/人而會(huì)以不均勻的狀態(tài)流下。因此，設(shè)置所述腔室C,可在腔室C內(nèi)暫時(shí)儲(chǔ)存及混合流入的藥 液W后，再使其通過流路20的下部區(qū)域向下流。通過此過程，可使 藥液W互相混合，進(jìn)而可以在比較均勻的狀態(tài)下吐出。上述說明中，腔室C的剖面形狀為半圓形，但本發(fā)明并不局限于 上述形狀，也可以是三角形、四角形等，只要是能夠儲(chǔ)存藥液W都可 以。另外，如圖6所示，本發(fā)明實(shí)施例的吐出口 N由所述第一板體16 的端部25及第二板體14的端部22所形成。所述吐出口 N的寬度tl 大于所述流路20的寬度t。 由于吐出口 N端部的吐出面面積大于流^各20的4黃截面面積，因此可以-使通過所述流路20的藥液W減速后吐出。而且，本發(fā)明的實(shí)施例中，與第二板體14的端部22相比，所述 第一板體16的端部25向基板G方向更加凸出。優(yōu)選地，在所述第一 氺反體16的吐出口 N的端部25上形成曲面24。具體而言，將所述第一板體16的端部25設(shè)成比第二板體14的端 部22更向基板G方向凸出的原因是為了使第一板體16的端部25與第 二板體14的端部22之間具有預(yù)定的高度差t2,以便使藥液W沿著與 基板G相鄰設(shè)置的第 一板體16吐出。在所述第一板體16的端部25上形成曲面24,可使藥液W沿著曲 面24并由第一板體16的底面和基板G的上表面之間吐出。此時(shí)，所述第一板體16的底面可與吐出于基板G上的藥液上層接觸。因此，可使大量的藥液W在低速狀態(tài)下沿著所述第一板體16的 下端吐出后與所述基板G表面線接觸，從而均勻地分布于基板G上； 或者通過所述第一板體16的底面與藥液上層的接觸，使所述藥液W更 為均勻地分布于基板上。下面，參照附圖進(jìn)一步詳細(xì)說明本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的流體噴嘴的 操作過程。如圖3至圖6所示，通過藥液供給管18供給的藥液W供給到噴 嘴本體12的流路20中。此時(shí)，如果把所述流路20的寬度t設(shè)定得比 較窄，就可減少單位面積的流量，而增加流^各20內(nèi)表面和藥液W之 間的附著力。因此，通過所述流路20流出的藥液W之間互相凝聚的傾向不如沿著扁平狀流路20內(nèi)表面流下的傾向占優(yōu)勢。因此，所述藥液W可 通過扁平狀流^各20的內(nèi)表面均勻吐出。而且，流過所述流^各20的藥液W經(jīng)過腔室C可以均勻地混合。即，流過流路20的上部區(qū)域時(shí)，因流動(dòng)性增加而可能以不均勻狀 態(tài)向下流的藥液W,在腔室C內(nèi)暫時(shí)被儲(chǔ)存及混合之后，再經(jīng)過流路 20的下部區(qū)域流出，因此藥液W可以在經(jīng)過混合后更為均勻的狀態(tài)下 流出。如此，藥液W可以均勻的狀態(tài)經(jīng)由所述流;洛20內(nèi)部，并通過所 述。土出口 N 。土出。另外，所述藥液供給管18通過開關(guān)功能可有效地噴射流體。即，如果阻斷向噴嘴12的流路20供給的藥液W，由于藥液W得 不到繼續(xù)供給，所述藥液W的重力將小于其對流路20內(nèi)表面的附著 力。因此，殘留在流路20內(nèi)部的藥液W在所述附著力的作用下將停 止流動(dòng)而停留在某一位置上。通過所述噴嘴12的如上開關(guān)功能可防止不必要的藥液W吐出， 從而可節(jié)省約50%的藥液W。這樣，流過所述流路20的藥液W可通過吐出口 N吐出在基板G 表面。此時(shí)，所述吐出口 N的寬度tl大于所述流路20的寬度t。即， 所述吐出口 N的吐出面面積大于流路20的橫截面面積，從而使通過所述流路20的藥液W減速后再吐出。此外，與第二板體14的端部22相比，所述第一板體16的端部25 向基板G方向更加凸出，而且在所述第一板體16的吐出口 N端部25 上形成有曲面24。通過這一結(jié)構(gòu)，經(jīng)吐出口N吐出的藥液W可由第一^反體16的一 側(cè)口土出。此時(shí)，吐出的藥液W沿著形成在所述第一板體16端部25上的曲 面24并通過第一板體16的底面和基板G上面之間吐出。此時(shí)，所述第一板體16的底面可與吐出于基板G上的藥液上層接觸。因此，可使大量的藥液W在低速狀態(tài)下沿著所述第一板體16的 下端吐出后與所述基板G表面線接觸，從而均勻地分布于基板G上； 或者通過所述第一板體16的底面與藥液上層的接觸，使藥液W更為 均勻地分布于基板上。經(jīng)上述過程，藥液W能夠以均勻的狀態(tài)分布于基板上。
權(quán)利要求
1、一種流體噴嘴，其特征在于，包括噴嘴本體，其由一對板體構(gòu)成，且具有向基板吐出流體的吐出口；流路，其形成在所述噴嘴本體內(nèi)部，且用于朝所述吐出口方向引導(dǎo)流體；其中，所述吐出口端部的吐出面面積大于所述流路的橫截面面積，以使通過所述流路的流體減速后吐出。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體噴嘴，其特征在于，所述噴嘴本體 包括第一板體，其設(shè)置在鄰接于基板的位置上；第二板體，其設(shè)置在所述第一板體的上側(cè)，并與所述第一板體相 連接；其中，與所述第二板體的端部相比，所述第一板體的端部向基板 方向更加凸出。
3、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的流體噴嘴，其特征在于 所述第一板體的吐出口端部為曲面。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體噴嘴，其特征在于所述流路具有這樣的寬度當(dāng)阻斷所述流體的流動(dòng)時(shí)，通過流體 與流路內(nèi)表面之間的附著力停止流體流動(dòng)。
5、 根據(jù)權(quán)利要求1至4中任何一項(xiàng)所述的流體噴嘴，其特征在于， 進(jìn)一步包括腔室，所述腔室形成在所述流路上，并具有預(yù)定容積，其 可以暫時(shí)儲(chǔ)存流過所述流路的流體，之后再使所述流體流下。
6、 根據(jù)權(quán)利要求3所述的流體噴嘴，其特征在于通過所述吐出口噴射的流體沿曲面吐出，并與所述基板線接觸， 而所述第一板體的下端與所述基板上的流體接觸，從而使流體均勻地 涂覆于基板上。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種流體噴嘴。所述流體噴嘴包括噴嘴本體，其由一對板體構(gòu)成，且形成有向基板吐出流體的吐出口；流路，其形成在所述噴嘴本體內(nèi)部，且用于向所述吐出口引導(dǎo)流體，其中，所述吐出口的吐出面積大于所述流路的橫截面，此結(jié)構(gòu)使通過流路的流動(dòng)流體的流速降低，之后再吐出。所述流體噴嘴具有以下優(yōu)點(diǎn)由于形成在噴嘴內(nèi)部的流路寬度比較窄，而增加了流體和流路內(nèi)表面之間的附著力，從而在關(guān)閉閥門時(shí)殘留的流體停止流動(dòng)，進(jìn)而防止不必要的流體吐出并可節(jié)省流體。
文檔編號(hào)B05C5/02GK101209437SQ20071019494
公開日2008年7月2日 申請日期2007年12月5日 優(yōu)先權(quán)日2006年12月28日
發(fā)明者李尚旭, 李敦衡, 金銀洙 申請人:顯示器生產(chǎn)服務(wù)株式會(huì)社