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玻璃進(jìn)口管環(huán)境控制的制作方法

文檔序號(hào):11631714閱讀:210來源:國知局
玻璃進(jìn)口管環(huán)境控制的制造方法與工藝

本申請(qǐng)要求2014年09月29日提交的美國臨時(shí)申請(qǐng)?zhí)?2/056943的優(yōu)先權(quán),其全文通過引用結(jié)合于此。

背景

各種裝置例如液晶顯示器(lcd)、智能手機(jī)、平板電腦等可使用平坦玻璃片。制造此類平坦玻璃片的一種技術(shù)是熔合法。在熔合法中,通過使用含有貴金屬(例如,與熔融的玻璃形成界面的鉑或鉑合金)的玻璃制造容器來制造玻璃片。通常認(rèn)為貴金屬相對(duì)于大多數(shù)玻璃是惰性的,從而應(yīng)該不導(dǎo)致玻璃片中的任意內(nèi)含物。然而,這不是必然正確的。

例如,可在金屬/玻璃處進(jìn)行氧化反應(yīng),這導(dǎo)致在熔融的玻璃和后續(xù)的玻璃片中產(chǎn)生氣體內(nèi)含物。在金屬/玻璃界面處發(fā)生的多種常見的氧化反應(yīng)中的一種是帶負(fù)電荷的氧離子轉(zhuǎn)化成分子氧,這是由于熔融玻璃中的水和羥基物質(zhì)熱分解導(dǎo)致的。由于在玻璃熔化和傳遞的提升的溫度下,熔融玻璃中存在低分壓的氫,導(dǎo)致了該現(xiàn)象的發(fā)生。因此,當(dāng)氫與裝納熔融玻璃的貴金屬容器接觸時(shí),氫從玻璃制造容器快速滲透出來,耗盡金屬/玻璃界面處的氫。例如,每摩爾的氫離開玻璃制造容器,在玻璃/金屬界面處留下1/2摩爾的氧。因此,當(dāng)氫離開玻璃制造容器時(shí),金屬/玻璃界面處的氧分壓或者氧水平增加,這導(dǎo)致在熔融玻璃中產(chǎn)生氣泡或者氣體內(nèi)含物。此外,還存在涉及熔融玻璃中的其他物質(zhì)(例如鹵素,cl、f、br)的催化或氧化的其他反應(yīng),這會(huì)導(dǎo)致在熔融玻璃和得到的玻璃片中產(chǎn)生氣體內(nèi)含物。此外,可存在因在金屬/玻璃界面處的電化學(xué)反應(yīng)而導(dǎo)致發(fā)生的氧化反應(yīng)。這些電化學(xué)反應(yīng)還會(huì)與熱電池、原電池、高ac或dc電流施加和/或接地情況相關(guān)。

可使用常規(guī)方法來解決氣體內(nèi)含物的形成,包括在熔合法或其它玻璃形成工藝中使用砷作為澄清劑。砷是已知的最高溫度的澄清劑,將砷加入熔融玻璃浴時(shí),在高溫(例如,高于1450℃)下砷使o2從玻璃熔體釋放。這種高溫o2釋放有助于在玻璃制造的熔融階段和澄清化階段中除去氣泡,制得基本沒有氣態(tài)內(nèi)含物的玻璃片。此外,因?yàn)樵诶鋮s時(shí)從還原態(tài)到氧化態(tài)的轉(zhuǎn)變,任何殘留的氧氣泡可通過澄清劑再次吸收。然而,從環(huán)境角度來看,使用砷是不利的,因?yàn)樯槭怯泻Σ牧?。其它方法包括使用玻璃涂層以及dc保護(hù)。然而,本領(lǐng)域需要提供解決玻璃形成法中氣體內(nèi)含物的改善方法。

概述

本公開總體涉及玻璃制造系統(tǒng)以及用于控制繞著玻璃制造系統(tǒng)中進(jìn)口管的環(huán)境的系統(tǒng)和方法。

在一些實(shí)施方式中,提供一種系統(tǒng),所述系統(tǒng)用于控制繞著玻璃制造系統(tǒng)中進(jìn)口管(具有進(jìn)口主體,輸入開口,和輸出開口)的環(huán)境。所述系統(tǒng)包括圍繞進(jìn)口管的至少一部分且具有分別穿過那里的氣體進(jìn)口單元和氣體出口單元的電氣加熱單元,靠近輸入開口且在進(jìn)口主體的外部和電氣加熱單元之間的第一密封件,以及靠近輸出開口且在進(jìn)口主體的外部和電氣加熱單元之間的第二密封件。所述系統(tǒng)還包括圍繞電氣加熱單元和具有分別穿過那里的氣體進(jìn)口單元和氣體出口單元的耐火塔,以及控制系統(tǒng),所述控制系統(tǒng)將濕潤氣體混合物引導(dǎo)進(jìn)入氣體進(jìn)口單元從而濕潤氣體混合物在進(jìn)口主體上流動(dòng)并通過氣體出口單元排出耐火塔和電氣加熱單元。所述系統(tǒng)的優(yōu)勢在于所述系統(tǒng)可有效地抑制流經(jīng)進(jìn)口管的熔融的玻璃中氣體內(nèi)含物的形成。

在其它實(shí)施方式中,提供一種方法,所述方法用于控制繞著玻璃制造系統(tǒng)中進(jìn)口管(具有進(jìn)口主體,輸入開口,和輸出開口)的環(huán)境。所述方法包括提供圍繞進(jìn)口管的至少一部分且具有分別穿過那里的氣體進(jìn)口單元和氣體出口單元的電氣加熱單元,安裝靠近輸入開口且在進(jìn)口主體的外部和電氣加熱單元之間的第一密封件,以及安裝靠近輸出開口且在進(jìn)口主體的外部和電氣加熱單元之間的第二密封件。所述方法還包括提供圍繞電氣加熱單元和具有分別穿過那里的氣體進(jìn)口單元和氣體出口單元的耐火塔,以及提供控制系統(tǒng),所述控制系統(tǒng)將濕潤氣體混合物引導(dǎo)進(jìn)入氣體進(jìn)口單元從而濕潤氣體混合物在進(jìn)口主體上流動(dòng)并通過氣體出口單元排出耐火塔和電氣加熱單元。所述方法的優(yōu)勢在于所述方法可有效地抑制流經(jīng)進(jìn)口管的熔融的玻璃中氣體內(nèi)含物的形成。

又在其它實(shí)施方式中,提供玻璃制造系統(tǒng),所述玻璃制造系統(tǒng)包括進(jìn)口管,形成容器,和多個(gè)加熱元件,其中進(jìn)口管接收熔融的玻璃,形成容器接收來自進(jìn)口管的熔融的玻璃并形成玻璃片,且加熱元件繞著形成容器發(fā)射熱量。玻璃制造系統(tǒng)還包括用于控制繞著進(jìn)口管環(huán)境的系統(tǒng),所述進(jìn)口管包含進(jìn)口主體,輸入開口,和輸出開口。所述系統(tǒng)可包括圍繞進(jìn)口管的至少一部分且具有分別穿過那里的氣體進(jìn)口單元和氣體出口單元的電氣加熱單元,靠近輸入開口且在進(jìn)口主體的外部和電氣加熱單元之間的第一密封件,以及靠近輸出開口且在進(jìn)口主體的外部和電氣加熱單元之間的第二密封件。所述系統(tǒng)還可包括圍繞電氣加熱單元和具有分別穿過那里的氣體進(jìn)口單元和氣體出口單元的耐火塔,以及控制系統(tǒng),所述控制系統(tǒng)將濕潤氣體混合物引導(dǎo)進(jìn)入氣體進(jìn)口單元從而濕潤氣體混合物在進(jìn)口主體上流動(dòng)并通過氣體出口單元排出耐火塔和電氣加熱單元。所述玻璃制造系統(tǒng)的優(yōu)勢在于所述玻璃制造系統(tǒng)可有效地抑制流經(jīng)進(jìn)口管的熔融的玻璃中氣體內(nèi)含物的形成。

在以下的詳細(xì)描述中給出了本文的其他特征和優(yōu)點(diǎn),其中的部分特征和優(yōu)點(diǎn)對(duì)本領(lǐng)域的技術(shù)人員而言,根據(jù)所作描述就容易看出,或者通過實(shí)施包括以下詳細(xì)描述、權(quán)利要求書以及附圖在內(nèi)的本文所述的方法而被認(rèn)識(shí)。

應(yīng)理解,前面的一般性描述和以下的詳細(xì)描述給出了本文的各種實(shí)施方式,用來提供理解權(quán)利要求的性質(zhì)和特性的總體評(píng)述或框架。包括的附圖提供了對(duì)本文的進(jìn)一步的理解,附圖被結(jié)合在本說明書中并構(gòu)成說明書的一部分。附圖以圖示形式說明了本文的各種實(shí)施方式,并與說明書一起用來解釋本文的原理和操作。

附圖簡要說明

結(jié)合以下附圖閱讀本文,便可以最好地理解下文中的發(fā)明詳述,只要可能,圖中相同的結(jié)構(gòu)用相同的附圖標(biāo)記表示:

圖1是示例性玻璃制造系統(tǒng)的示意圖;

圖2是根據(jù)一些實(shí)施方式的示例性環(huán)境控制系統(tǒng)的示意圖;

圖3是圖2所示系統(tǒng)的一部分的橫截面?zhèn)纫晥D;

圖4是圖2所示系統(tǒng)的一部分的橫截面俯視圖;以及

圖5是流程圖,其顯示根據(jù)本公開的一些實(shí)施方式的示例性方法。

具體描述

本公開的一些實(shí)施方式使用濕度受控的外殼,其環(huán)繞玻璃制造系統(tǒng)中含貴金屬玻璃制造容器中的一種或多種,且可用來控制在容器外面的氫氣分壓,從而減少在玻璃片中的氣體內(nèi)含物的形成。示例性濕度受控外殼參見美國專利號(hào)5,785,726和美國專利號(hào)7,628,039,以上各文的全部內(nèi)容通過引用納入本文。應(yīng)指出,雖然在本文中可參考熔合形成法,但本文所附權(quán)利要求應(yīng)不限于此,因?yàn)樗龊退蟊Wo(hù)的實(shí)施方式適用于任何類型的玻璃制造系統(tǒng),包括狹縫拉制、雙重熔合和浮法玻璃制造系統(tǒng)。

參考圖1,提供用于玻璃形成法的示例性玻璃制造系統(tǒng)100,以制造玻璃片102。玻璃形成法可為下拉或狹縫拉制熔合形成法,也可為雙重熔合或浮法玻璃形成法。在示例性和非限制性實(shí)施方式中,玻璃制造系統(tǒng)100可為熔合形成法,且包括熔融容器110,熔融到澄清管115,澄清容器120,澄清器到攪拌室管125,攪拌室130(例如,混合容器130),攪拌室到碗連接管135,碗140(例如,遞送容器140),下導(dǎo)管145,熔合拉制機(jī)(fdm)150(其包含進(jìn)口管155,形成容器160,多個(gè)加熱元件162,牽拉輥組裝件165,和馬弗爐框架167),和移動(dòng)砧機(jī)(tam)170。玻璃制造容器115,120,125,130,135,140,145和155可由鉑或含鉑金屬例如鉑-銠、鉑-銥以及它們的組合制成,但它們還可包含諸如以下的其它耐火金屬:鈀、錸、釕和鋨,或者它們的合金。形成容器160(例如,等壓槽160)可由陶瓷材料或玻璃-陶瓷耐火材料制成。

如箭頭112所示,可將玻璃批料材料引入熔融容器110,并進(jìn)行熔融來形成熔融的玻璃114。通過熔融至澄清管115,將澄清容器120(例如,澄清器管120)與熔融容器110相連。澄清容器120具有接收來自熔融容器110的熔融玻璃114(在這個(gè)點(diǎn)上沒有顯示)的高溫加工區(qū)域,并在那里從熔融玻璃114中除去氣泡。通過澄清器至攪拌室連接管125將澄清容器120與攪拌室130相連。通過攪拌室至碗連接管135將攪拌室130與碗140相連。碗140通過下導(dǎo)管145將熔融玻璃114(未示出)傳遞到fdm150。

fdm150包含進(jìn)口管155,形成容器160,加熱元件162,牽拉輥組裝件165,和馬弗爐框架167。入口管155從下導(dǎo)管145接收熔融玻璃114,并且然后熔融的玻璃114(未示出)從入口管155流動(dòng)到形成容器160。所述形成容器160包括開口162,用來接收熔融玻璃114(未顯示),使得熔融玻璃流入槽164中,然后從兩個(gè)相反側(cè)面166a和166b溢流并沿著這兩個(gè)側(cè)面向下流動(dòng),然后在根部168處熔合在一起,從而形成玻璃片109。在一些實(shí)施方式中,熔融的玻璃具有下述粘度:14,000泊-75,000泊。此外,熔融的玻璃可為非堿性熔融的玻璃或堿性熔融的玻璃。加熱元件162(例如,碳硅棒(globar)加熱元件162,sic加熱元件162)繞著形成容器160發(fā)射熱量。在該例子中,兩個(gè)加熱元件162位于形成容器160(例如,等壓槽)的每一側(cè)面上,由此可利用一個(gè)或多個(gè)加熱元件162來繞著形成容器160發(fā)射熱量。馬弗爐框架167包封進(jìn)口管155,形成容器160,和加熱元件162,且在其底部具有開口,其允許向下移動(dòng)的玻璃片109穿過那里。牽拉輥組裝件165接收玻璃片109,且輸出拉制玻璃片111。tam170接收拉制玻璃片111,且將拉制玻璃片111分離成單獨(dú)玻璃片102。

在一些實(shí)施方式中,可提供系統(tǒng)175(顯示橫截面?zhèn)纫晥D)通過下述來控制繞著進(jìn)口管155的環(huán)境:加熱進(jìn)口管155和提供濕潤氣體混合物216,其有助于抑制流經(jīng)進(jìn)口管155的熔融的玻璃114之內(nèi)的氫滲透起泡。此外,系統(tǒng)175可用來防止或減少將濕潤氣體混合物216引導(dǎo)朝向形成容器160和加熱元件162,從而減少或消除加熱元件162的任何電阻衰減速率(resistancedecayrate)。此外,示例性系統(tǒng)175可用來防止或減少在馬弗爐框架167中流動(dòng)的干燥空氣在進(jìn)口管155上流動(dòng)。

參考圖2,顯示示例性系統(tǒng)175(橫截面?zhèn)纫晥D)的示意圖,其具有由馬弗爐框架167(橫截面?zhèn)纫晥D)包封的進(jìn)口管155(橫截面?zhèn)纫晥D),形成容器160(側(cè)視圖)和加熱元件162(側(cè)視圖)。在一些實(shí)施方式中,系統(tǒng)175可用來控制繞著進(jìn)口管155的溫度和濕度,所述進(jìn)口管155具有進(jìn)口主體155a,輸入開口155b,和輸出開口155c。在一些實(shí)施方式中,系統(tǒng)175可包含一個(gè)或多個(gè)電氣加熱單元202,第一密封件204,第二密封件206,耐火塔208,一個(gè)或多個(gè)熱電偶209a和209b,和控制系統(tǒng)210。電氣加熱單元202可圍繞進(jìn)口管155的全部或部分,且可包含電氣線圈,其相距進(jìn)口管155預(yù)定距離,且可用來加熱進(jìn)口管155。在一些實(shí)施方式中,電氣加熱單元202可包含分別穿過那里的氣體進(jìn)口單元212和氣體出口單元214。第一密封件204可靠近輸入開口155b,且在進(jìn)口主體155a外部和電氣加熱單元202之間。第二密封件206可靠近輸出開口155c,且在進(jìn)口主體155a外部和電氣加熱單元202之間。一個(gè)或多個(gè)熱電偶209a和209b可靠近進(jìn)口主體155a,且在輸出開口155c和第二密封件206之間。耐火塔208可圍繞電氣加熱單元202,且可具有分別穿過那里的氣體進(jìn)口單元212和氣體出口單元214??刂葡到y(tǒng)210可用來將濕潤氣體混合物216引導(dǎo)進(jìn)入氣體進(jìn)口單元212,從而濕潤氣體混合物216在進(jìn)口管155的進(jìn)口主體155a上流動(dòng),且通過氣體出口單元214排出耐火塔208和電氣加熱單元202。

參考圖3,顯示系統(tǒng)175的更加詳細(xì)的橫截面?zhèn)纫晥D,由此進(jìn)口管155可由電氣加熱單元202圍繞,并與電氣加熱單元202相距預(yù)定距離。第一密封件204可靠近進(jìn)口管155的輸入開口155b,且在進(jìn)口管155的進(jìn)口主體155a的外部和電氣加熱單元202之間。第二密封件206可靠近進(jìn)口管155的輸出開口155c,且在進(jìn)口管155的進(jìn)口主體155a的外部和電氣加熱單元202之間。在所示實(shí)施方式中,第一密封件204和第二密封件206分別包含纖維材料(例如,陶瓷纖維)和粘結(jié)劑(cement)的混合物。

在一些實(shí)施方式中,電氣加熱單元202可由耐火塔208圍繞。在所示實(shí)施方式中,耐火塔208包含磚塊和灰漿302和絕緣材料(insulation)304(例如,ifb-2800li)或另一合適材料。絕緣材料304可靠近和圍繞磚塊和灰漿302,從而磚塊和灰漿302靠近電氣加熱單元202,且在絕緣材料304和電氣加熱單元202之間。在一些實(shí)施方式中,氣體進(jìn)口單元212和氣體出口單元214可穿過耐火塔208。在這種非限制性實(shí)施方式中,氣體進(jìn)口單元212可包含較小的管212a(例如,0.688”外徑x0.5”內(nèi)徑或任意其它合適的直徑),其穿過絕緣材料304且具有配合在較大管212b(例如,1”外徑x0.75”內(nèi)徑或任意其它合適的直徑)之內(nèi)的一個(gè)端部,所述較大管212b穿過磚塊和灰漿302和電氣加熱單元202。類似地,氣體出口單元214包含相似或不同的小管214a,所述小管214a穿過絕緣材料304,且一端配合在相似或不同的大管214b之內(nèi),所述大管214b穿過磚塊和灰漿302和電氣加熱單元202。在一些實(shí)施方式中,氣體進(jìn)口單元212和氣體出口單元214可分別具有途徑那里的各熱電偶線906c,906d。在其它實(shí)施方式中,額外的熱電偶線906e可途徑密封管215中,所述密封管215在氣體進(jìn)口單元212和氣體出口單元214之間。

在其它實(shí)施方式中,濕潤氣體混合物216首先穿過氣體進(jìn)口單元212,且在進(jìn)口管155的進(jìn)口主體155a上流動(dòng)。濕潤氣體混合物216隨后可通過氣體出口單元214排出。氣體進(jìn)口單元212(管212a和212b)和氣體出口單元214(管214a和214b)可幫助最小化濕潤氣體混合物216從耐火塔208(例如,在磚塊和灰漿208a和絕緣材料208b之間)逃逸從而到達(dá)加熱元件162(參見圖2)。第一密封件204和第二密封件206可有助于繞著進(jìn)口管155的進(jìn)口主體155a外部保持濕潤氣體混合物216。此外,第二密封件206可幫助防止?jié)駶櫄怏w混合物216流入馬弗爐框架167,且與加熱元件162(參見圖2)相互作用,第二密封件206可用于防止在馬弗爐框架167中流動(dòng)的任何干燥空氣在進(jìn)口管155的進(jìn)口主體155a上流動(dòng)。通過停止?jié)駶櫄怏w混合物216的流動(dòng),第一密封件204可增加進(jìn)口管155和電氣加熱單元202之間的空間之內(nèi)的空氣壓力,以減少或消除任何壓力降,從而干燥空氣更不可能從馬弗爐框架167抽吸來在進(jìn)口管155上流動(dòng)。此外,因?yàn)闊犭娕?09a和209b位于進(jìn)口管155的輸出開口155c和第二密封件204之前且降低或消除繞著開口和管的密封的敏感度,可通過第二密封件204,來防止來自馬弗爐框架167的干燥空氣在進(jìn)口管155上流動(dòng)。

參考圖4,提供示例性系統(tǒng)175的一部分,進(jìn)口管155,形成容器160和加熱元件162的詳細(xì)橫截面俯視圖。在上文中結(jié)合圖1-3描述了系統(tǒng)175,進(jìn)口管155,形成容器160,加熱元件162,和馬弗爐框架167。此外,馬弗爐框架167包含耐火材料402,其用于調(diào)節(jié)從形成容器160到外側(cè)環(huán)境的熱損失。馬弗爐框架167包含垂直取向的加熱元件404,其用于在玻璃制造周期的各個(gè)階段中發(fā)射熱量以減少熱損失。此外,馬弗爐框架167包含殼體406,其用于保護(hù)形成容器160免受顆粒影響,所述顆粒可從加熱元件162或耐火材料402掉落,且沉積在玻璃表面上。

參考圖5,提供顯示根據(jù)本公開的一些實(shí)施方式的示例性方法500的流程圖。所述方法500可包含提供電氣加熱單元202,所述電氣加熱單元202圍繞進(jìn)口主體155a的全部或一部分且氣體進(jìn)口單元212和氣體出口單元214穿過那里(步驟502),以及安裝第一密封件204,所述第一密封件204靠近輸入開口155b且在進(jìn)口主體155a的外部和電氣加熱單元202之間(步驟504)。所述方法還包括安裝第二密封件206,所述第二密封件206靠近輸出開口155c且在進(jìn)口主體155a的外部和電氣加熱單元202之間(步驟506),以及提供耐火塔208,所述耐火塔208圍繞電氣加熱單元202且具有穿過那里的氣體進(jìn)口單元212和氣體出口單元214(步驟508)。在其它實(shí)施方式中,所述方法包含提供控制系統(tǒng)210,其將濕潤氣體混合物216引導(dǎo)進(jìn)入氣體進(jìn)口單元212,從而濕潤氣體混合物216在進(jìn)口主體155a上流動(dòng),且通過氣體出口單元214排出耐火塔208和電氣加熱單元202(步驟510)。這種示例性方法500可抑制流經(jīng)進(jìn)口管155的熔融的玻璃114之內(nèi)的氫滲透起泡。

如上所述,示例性控制系統(tǒng)210可產(chǎn)生適當(dāng)?shù)臐駶櫄怏w混合物216來抑制流經(jīng)進(jìn)口管155的熔融的玻璃114之內(nèi)的氫滲透起泡??刂葡到y(tǒng)210可連接到一個(gè)或多個(gè)傳感器180a,180b,180c,180d和180e(例如,流動(dòng)傳感器180a,露點(diǎn)/濕度傳感器180b,溫度傳感器180c,氧氣傳感器180d,和壓力傳感器180e),其獲得來自氣體進(jìn)口單元212之內(nèi)和外部環(huán)境(例如,加工設(shè)施)的位置的傳感器讀數(shù)。控制系統(tǒng)210可處理傳感器測量并控制不同裝置如濕度加料系統(tǒng)182,加熱/冷卻控制系統(tǒng)184,空氣處理器(handler)186(其接觸空氣和蒸氣),和o2/n2補(bǔ)充系統(tǒng)188。所有裝置182,184,186和188可連接到氣體進(jìn)口單元212??刂葡到y(tǒng)210可與傳感器180a,180b,180c,180d和180e形成界面以及控制裝置182,184,186和188,從而構(gòu)建滿足任意數(shù)目條件的繞著進(jìn)口管155外部的環(huán)境/氣氛(濕潤氣體混合物216)。在一些實(shí)施方式中,控制系統(tǒng)210可構(gòu)造成控制濕潤氣體混合物216之內(nèi)的氫水平,以繞著進(jìn)口管155的進(jìn)口主體155a,將分壓保持在等于或大于通過下述平衡關(guān)系限定的水平:ph2(ppm)=78,000xe^[(-58,900+13.1t)/(1.987*t(°k))]。在其它實(shí)施方式中,控制系統(tǒng)210可構(gòu)造成控制濕潤氣體混合物216,從而在進(jìn)口管155的外部處,存在最高達(dá)38,000ppm的氫。在其它實(shí)施方式中,控制系統(tǒng)210可構(gòu)造成控制濕潤氣體混合物216,從而將其保持在200°f或更低的露點(diǎn)溫度。在其它實(shí)施方式中,控制系統(tǒng)210可構(gòu)造成控制濕潤氣體混合物216,從而所述濕潤氣體混合物216具有小于21體積%的水平的氧含量,構(gòu)造成控制濕潤氣體混合物216從而其具有0.01%-1體積%的氧水平和2%-20體積%的水蒸汽水平,且余量基本上是惰性氣體;和/或構(gòu)造成控制濕潤氣體混合物216從而其包含裂解的氨產(chǎn)物或燃燒產(chǎn)物。

一種示例性控制系統(tǒng)210以及由此提供的功能操作可在數(shù)字電子電路中,或在計(jì)算機(jī)軟件、固件或硬件中實(shí)施,包括在本說明書中披露的結(jié)構(gòu)以及它們的結(jié)構(gòu)等同體,或它們中一種或多種的組合。可將本文所述的實(shí)施方式實(shí)施作為一種或多種計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品,即在有形程序載體上編碼的計(jì)算機(jī)程序指令的一個(gè)或多個(gè)模塊,其通過數(shù)據(jù)處理設(shè)備來執(zhí)行,或控制數(shù)據(jù)處理設(shè)備的操作。有形程序載體可為計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)。計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)可為機(jī)器可讀的儲(chǔ)存裝置、機(jī)器可讀的存儲(chǔ)基底、存儲(chǔ)設(shè)備或者它們中的一種或多種的組合。

術(shù)語“處理器”或“控制器”可包含用于處理數(shù)據(jù)的所有設(shè)備、裝置和機(jī)器,包括例如可編程處理器、計(jì)算機(jī)或多個(gè)處理器或計(jì)算機(jī)。除了硬件以外,處理器可包括構(gòu)建用于討論中的計(jì)算機(jī)程序的執(zhí)行環(huán)境的代碼,例如構(gòu)成處理器固件、協(xié)議棧、數(shù)據(jù)庫管理系統(tǒng)、操作系統(tǒng)或它們中的一種或多種的組合的代碼。

計(jì)算機(jī)程序(也稱為程序、軟件、軟件應(yīng)用、腳本或代碼)可以編程語言的任意形式來書寫,包括編譯語言或解釋語言,或聲明式語言或程序的語言,且它可以任何形式來部署,包括作為一個(gè)獨(dú)立的程序或作為模塊、組件、子程序或適合用于計(jì)算環(huán)境的其他單位。計(jì)算機(jī)程序不必對(duì)應(yīng)于文件系統(tǒng)中的文件。可將程序存儲(chǔ)在文件的一部分中且該文件保持其他程序或數(shù)據(jù)(例如,以標(biāo)記語言文檔存儲(chǔ)的一個(gè)或多個(gè)腳本),儲(chǔ)存在專用于討論中程序的單一文件中,或儲(chǔ)存在多個(gè)協(xié)調(diào)文件中(例如,該文件存儲(chǔ)一個(gè)或多個(gè)模塊、子程序或代碼的多個(gè)部分)。計(jì)算機(jī)程序可以部署成在一臺(tái)計(jì)算機(jī)或多臺(tái)計(jì)算機(jī)上執(zhí)行,該多臺(tái)計(jì)算機(jī)位于一個(gè)場所或分布在多個(gè)場所并通過通信網(wǎng)絡(luò)互聯(lián)。

本文所述的方法可通過一種或多種可編程的處理器來執(zhí)行,所述可編程處理器通過在輸入數(shù)據(jù)上操作且產(chǎn)生輸出,來執(zhí)行一個(gè)或多個(gè)計(jì)算機(jī)程序以執(zhí)行功能。過程和邏輯流程還可通過設(shè)備來執(zhí)行,該設(shè)備還可實(shí)施為特殊目的邏輯電路,例如fpga(現(xiàn)場可編程邏輯門陣列)或asic(專用集成電路)等。

例如,適用于執(zhí)行計(jì)算機(jī)程序的處理器包括普通目的和特殊目的的微處理器,以及任何類型數(shù)字計(jì)算機(jī)的任意一種或多種處理器。一般而言,處理器從只讀存儲(chǔ)器或隨機(jī)存取存儲(chǔ)器或兩者接收指令和數(shù)據(jù)。計(jì)算機(jī)的基本元件是用于執(zhí)行指令的處理器和用于存儲(chǔ)指令和數(shù)據(jù)的一種或多種數(shù)據(jù)儲(chǔ)存裝置。通常,計(jì)算機(jī)還包括或可操作地結(jié)合成接收來自下述的數(shù)據(jù)和/或?qū)?shù)據(jù)轉(zhuǎn)移到下述:用于存儲(chǔ)數(shù)據(jù)的一個(gè)或多個(gè)大容量存儲(chǔ)裝置,例如磁盤、磁光盤或光盤。然而,計(jì)算機(jī)不必具有這種裝置。此外,可將計(jì)算機(jī)嵌入在另一裝置中,例如移動(dòng)電話、個(gè)人數(shù)字助理(pda)等。

適用于儲(chǔ)存計(jì)算機(jī)程序指令和數(shù)據(jù)的計(jì)算機(jī)可讀的介質(zhì)包括所有形式的數(shù)據(jù)存儲(chǔ),包括非易失性內(nèi)存,介質(zhì)和存儲(chǔ)裝置,包括例如eprom、eeprom和閃存裝置等的半導(dǎo)體存儲(chǔ)裝置;諸如內(nèi)部硬盤和可移動(dòng)盤等磁盤;磁光盤;以及cd-rom和dvd-rom盤。處理器和內(nèi)存可通過特殊目的邏輯電路來補(bǔ)充或納入該特殊目的邏輯電路中。

為了提供與用戶的交互,可在具有諸如用于向用戶顯示信息的crt(陰極射線管)或lcd(液晶顯示器)監(jiān)視器之類的顯示裝置以及用戶可以籍之向計(jì)算機(jī)提供輸入的鍵盤和諸如鼠標(biāo)或跟蹤球或觸摸屏的定位裝置的計(jì)算機(jī)上實(shí)現(xiàn)本文所述的實(shí)施方式??墒褂闷渌愋偷难b置來提供與用戶良好的進(jìn)行互動(dòng);例如來自用戶的輸入可以任何形式來接收,包括聲音的、語音或觸覺輸入。

本文所述的實(shí)施方式可在計(jì)算系統(tǒng)中實(shí)施,該計(jì)算系統(tǒng)包括后端組件(例如作為數(shù)據(jù)服務(wù)器),或包括中間件組件(例如,應(yīng)用程序服務(wù)器),或者包括前端組件(例如,具有圖形用戶界面或網(wǎng)絡(luò)瀏覽器的客戶端計(jì)算機(jī),用戶可以通過它與在本說明書中描述的主題的實(shí)施方式互動(dòng)),或一種或多種這樣的后端組件、中間件組件或前端組件的任意組合。系統(tǒng)的組件可通過諸如通信網(wǎng)絡(luò)的任何形式或介質(zhì)的數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)通信來相互連接。通信網(wǎng)絡(luò)的例子包括局域網(wǎng)(lan)和廣域網(wǎng)(wan),例如互聯(lián)網(wǎng)。

計(jì)算系統(tǒng)可包括客戶機(jī)和服務(wù)器??蛻魴C(jī)和服務(wù)器一般相距甚遠(yuǎn)且通常通過通信網(wǎng)絡(luò)進(jìn)行交互??蛻魴C(jī)和服務(wù)器的關(guān)系根據(jù)在相應(yīng)計(jì)算機(jī)上運(yùn)行且彼此具有客戶機(jī)-服務(wù)器關(guān)系的計(jì)算機(jī)程序來產(chǎn)生。

描述了系統(tǒng)175和方法500來控制繞著玻璃制造系統(tǒng)中進(jìn)口管155的環(huán)境。在一些實(shí)施方式中,本文所述的系統(tǒng)175和方法500可包封fdm150中的進(jìn)口管155(在涉及熔合系統(tǒng)的非限制性實(shí)施方式中),且可使得濕潤氣體混合物216在進(jìn)口管155外部上流動(dòng),且遠(yuǎn)離位于馬弗爐框架167之內(nèi)的其它組件(例如,碳硅棒加熱元件162)。系統(tǒng)175和方法500是相對(duì)于技術(shù)的顯著改善,其中來自對(duì)流在fdm150上移動(dòng)或者吹掃到馬弗爐框架167以控制玻璃片102厚度的空氣流動(dòng)將排出且繞著進(jìn)口管155流動(dòng)。這種構(gòu)造是不利的,因?yàn)楹穸瓤刂瓶諝馐歉稍锟諝?,其增加熔融的玻璃中的氫滲透和起泡。此外,這可導(dǎo)致馬弗爐框架167中整體腔體的潤濕化,這降低加熱元件162的性能,其中濕潤空氣與加熱元件162反應(yīng),薄化元件的截面,導(dǎo)致電阻快速增加,造成局部化熱斑,且影響玻璃流動(dòng)分布和厚度管理。因這種薄化造成的加熱元件162的任何過早失效還可產(chǎn)生熱混亂,這造成玻璃產(chǎn)量損失和潛在的材料失效。然而,所述的系統(tǒng)175和方法500解決了這些問題,且可通過下述構(gòu)建進(jìn)口管155的局部增壓來減少玻璃片102上的內(nèi)含物:阻擋進(jìn)入馬弗爐框架167的任何向上的對(duì)流,從而減少可在玻璃片102上沉積的顆粒的尺寸和數(shù)目。此外,示例性系統(tǒng)175和方法500可提供繞著進(jìn)口管155的密封件206,從而隔離干燥空氣進(jìn)入fdm150。應(yīng)理解,各種所述實(shí)施方式可涉及結(jié)合該特定實(shí)施方式描述的特定特征、元件或步驟。還應(yīng)理解,雖然涉及一種特定實(shí)施方式描述了特定的特征、元件或步驟,但它們可以各種沒有闡述的組合或置換與替代實(shí)施方式互換或組合。

還應(yīng)理解的是,本文所用的冠詞“該”、“一個(gè)”或“一種”表示“至少一個(gè)(一種)”,不應(yīng)局限為“僅一個(gè)(一種)”,除非明確有相反的說明。因此,例如,提到的一種“組件”包括具有兩種或更多種這類組件的示例,除非文本中有另外的明確表示。

在此,范圍可以表示為從“約”一個(gè)具體值和/或到“約”另一個(gè)具體值的范圍。當(dāng)表述這種范圍時(shí),例子包括自某一具體值始和/或至另一具體值止。類似地,當(dāng)使用先行詞“約”表示數(shù)值為近似值時(shí),應(yīng)理解,具體數(shù)值構(gòu)成另一個(gè)方面。還應(yīng)理解的是,每個(gè)范圍的端點(diǎn)值在與另一個(gè)端點(diǎn)值有關(guān)和與另一個(gè)端點(diǎn)值無關(guān)時(shí),都是有意義的。

如本文所使用,術(shù)語“基本上”、“基本上地”及其變體用于指所述的特征等于或近似等于一個(gè)數(shù)值或描述。此外,“基本上相似”用于指兩個(gè)數(shù)值相等或近似相等。在一些實(shí)施方式中,“基本上相似”可指在彼此的約10%的數(shù)值,例如在彼此的約5%之內(nèi),或在彼此的約2%之內(nèi)。

除非另有表述,否則都不旨在將本文所述的任意方法理解為需要使其步驟以具體順序進(jìn)行。因此,當(dāng)方法權(quán)利要求實(shí)際上沒有陳述為其步驟遵循一定的順序或者其沒有在權(quán)利要求書或說明書中以任意其他方式具體表示步驟限于具體的順序,都不旨在暗示該任意特定順序。

雖然會(huì)用過渡語“包括”來公開特定實(shí)施方式的各種特征、元素或步驟,但是應(yīng)理解的是,這暗示了包括可采用過渡語“由......構(gòu)成”、“基本由......構(gòu)成”描述在內(nèi)的替代實(shí)施方式。因此,例如,對(duì)包含a+b+c的設(shè)備的隱含的替代性實(shí)施方式包括設(shè)備由a+b+c組成的實(shí)施方式和設(shè)備主要由a+b+c組成的實(shí)施方式。

對(duì)本領(lǐng)域的技術(shù)人員而言,顯而易見的是,可以在不偏離本文的范圍和精神的情況下對(duì)本文進(jìn)行各種修改和變動(dòng)。因?yàn)楸绢I(lǐng)域的技術(shù)人員可以想到所述實(shí)施方式的融合了本文精神和實(shí)質(zhì)的各種改良組合、子項(xiàng)組合和變化,應(yīng)認(rèn)為本文包括所附權(quán)利要求書范圍內(nèi)的全部內(nèi)容及其等同內(nèi)容。

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