專利名稱：解決濃硫酸稀釋冷卻的新型石墨冷卻器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種濃硫酸稀釋冷卻器。
背景技術(shù)：
目前，公知的濃硫酸稀釋冷卻器是在上部混合好的液體通過(guò)石墨上封頭直接進(jìn)入換熱塊進(jìn)行冷卻，硫酸在換熱塊內(nèi)分布不均勻，換熱塊周圍的孔道沒(méi)有硫酸，使得換熱塊外圈溫度低，中心有硫酸經(jīng)過(guò)的部分溫度比較高。因?yàn)樯喜繐Q熱塊的溫差很大，所以容易造成換熱塊產(chǎn)生裂紋。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種結(jié)構(gòu)合理，冷卻均勻的解決濃硫酸稀釋冷卻的新型石墨冷卻器。本實(shí)用新型的技術(shù)解決方案是一種解決濃硫酸稀釋冷卻的新型石墨冷卻器，其特征是包括石墨換熱塊組成的石墨冷卻主體，石墨冷卻主體上端設(shè)置石墨溢流塊，石墨溢流塊上方設(shè)置石墨上封頭，石墨上封頭上方設(shè)置集液槽，石墨上封頭中設(shè)有使液體從集液槽流入石墨溢流塊的液流孔，集液槽上部設(shè)置下層四氟分布板，下層四氟分布板上方為混酸室，混酸室上設(shè)有稀釋水入口和濃硫酸入口，在稀釋水入口和濃硫酸入口下方設(shè)置上層四氟分布板?；焖崾翼敳吭O(shè)置放空口。石墨溢流塊中設(shè)有多個(gè)溢流孔，溢流孔的上端內(nèi)壁上，設(shè)置V形缺口?；焖崾覂?nèi)襯聚四氟乙烯內(nèi)膽。使液體從集液槽流入石墨溢流塊的液流孔，為斜向通孔。
本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)合理，混合室采用鋼內(nèi)裝聚四氟乙烯內(nèi)膽，聚四氟乙烯內(nèi)膽圍成的混合稀釋室內(nèi)，裝有聚四氟乙烯分布板，混合室上方開(kāi)有濃硫酸入口和稀釋水的入口。混合稀釋后進(jìn)行引流后再均勻分布，使得換熱塊孔道內(nèi)都有液體，冷卻均勻。本實(shí)用新型在原有硫酸稀釋冷卻器的基礎(chǔ)上，改進(jìn)了引流混合與布液裝置，有效改善了因進(jìn)酸量不均勻及分布不均勻的問(wèn)題，使得濃硫酸稀釋冷卻器的混酸冷卻效果更好。因?yàn)闈饬蛩崤c稀釋水混合能放出大量的熱，從硫酸進(jìn)入到溢流的過(guò)程中是不斷的混合不斷的放熱，使得接觸到的石墨上封頭和石墨溢流塊能廣生很聞的溫度。為提聞石墨上封頭和石墨溢流塊的使用壽命，設(shè)備采用了彈簧倒置的結(jié)構(gòu)和上部采用全包結(jié)構(gòu)，確保石墨上封頭和石墨溢流塊都浸沒(méi)在冷卻水內(nèi)，冷卻水不斷的流動(dòng)能夠不斷的帶走熱量。濃硫酸和稀釋水混合好通過(guò)石墨上封頭內(nèi)的斜孔道分布到下部的溢流塊環(huán)槽內(nèi)，再均勻的分布到溢流塊的每一個(gè)孔道，通過(guò)溢流塊的孔道流入到下面換熱塊的孔道，再進(jìn)行換熱。石墨溢流塊采用整體銑槽，V型缺口也是一次加工到位，這樣保證了液體分布時(shí)的均勻，并結(jié)合實(shí)際的液體流量在溢流槽的外側(cè)開(kāi)一定的排凈口，確保停車時(shí)液體能徹底地排凈。本實(shí)用新型通過(guò)液體的均勻分布保證換熱效果和設(shè)備使用壽命。以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說(shuō)明。


圖1是本實(shí)用新型一個(gè)實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是
圖1的局部視圖。
具體實(shí)施方式
一種解決濃硫酸稀釋冷卻的新型石墨冷卻器，包括石墨換熱塊I組成的石墨冷卻主體，石墨冷卻主體上端設(shè)置石墨溢流塊2，石墨溢流塊上方設(shè)置石墨上封頭3，石墨上封頭上方設(shè)置集液槽4，石墨上封頭中設(shè)有使液體從集液槽流入石墨溢流塊的液流孔5，集液槽上部設(shè)置下層四氟分布板6，下層四氟分布板上方為混酸室7，混酸室上設(shè)有稀釋水入口10和濃硫酸入口 9，在稀釋水入口和濃硫酸入口下方設(shè)置上層四氟分布板8?；焖崾翼敳吭O(shè)置 放空口。石墨溢流塊中設(shè)有多個(gè)溢流孔，溢流孔的上端內(nèi)壁上，設(shè)置V形缺口。混酸室內(nèi)襯聚四氟乙烯內(nèi)膽11。使液體從集液槽流入石墨溢流塊的液流孔
5,為斜向通孔。
權(quán)利要求1.一種解決濃硫酸稀釋冷卻的新型石墨冷卻器，其特征是包括石墨換熱塊組成的石墨冷卻主體，石墨冷卻主體上端設(shè)置石墨溢流塊，石墨溢流塊上方設(shè)置石墨上封頭，石墨上封頭上方設(shè)置集液槽，石墨上封頭中設(shè)有使液體從集液槽流入石墨溢流塊的液流孔，集液槽上部設(shè)置下層四氟分布板，下層四氟分布板上方為混酸室，混酸室上設(shè)有稀釋水入口和濃硫酸入口，在稀釋水入口和濃硫酸入口下方設(shè)置上層四氟分布板。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的解決濃硫酸稀釋冷卻的新型石墨冷卻器，其特征是混酸室頂部設(shè)置放空口。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的解決濃硫酸稀釋冷卻的新型石墨冷卻器，其特征是石墨溢流塊中設(shè)有多個(gè)溢流孔，溢流孔的上端內(nèi)壁上，設(shè)置V形缺口。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的解決濃硫酸稀釋冷卻的新型石墨冷卻器，其特征是混酸室內(nèi)襯聚四氟乙烯內(nèi)膽。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的解決濃硫酸稀釋冷卻的新型石墨冷卻器，其特征是使液體從集液槽流入石墨溢流塊的液流孔，為斜向通孔。
專利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種解決濃硫酸稀釋冷卻的新型石墨冷卻器，包括石墨換熱塊組成的石墨冷卻主體，石墨冷卻主體上端設(shè)置石墨溢流塊，石墨溢流塊上方設(shè)置石墨上封頭，石墨上封頭上方設(shè)置集液槽，石墨上封頭中設(shè)有使液體從集液槽流入石墨溢流塊的液流孔，集液槽上部設(shè)置下層四氟分布板，下層四氟分布板上方為混酸室，混酸室上設(shè)有稀釋水入口和濃硫酸入口，在稀釋水入口和濃硫酸入口下方設(shè)置上層四氟分布板。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)合理，聚四氟乙烯內(nèi)膽圍成的混合稀釋室內(nèi)，裝有聚四氟乙烯分布板，混合室上方開(kāi)有濃硫酸入口和稀釋水的入口?；旌舷♂尯筮M(jìn)行引流后再均勻分布，使得換熱塊孔道內(nèi)都有液體，冷卻均勻。
文檔編號(hào)C01B17/69GK202898022SQ20122057881
公開(kāi)日2013年4月24日 申請(qǐng)日期2012年11月6日 優(yōu)先權(quán)日2012年11月6日
發(fā)明者蔡遠(yuǎn)航, 高彭章, 竇振新 申請(qǐng)人:南通三圣石墨設(shè)備科技股份有限公司