一種磁控濺射鍍膜襯底固定夾具的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一宗磁控濺射薄鍍膜設(shè)備，特別是一種磁控濺射鍍膜襯底固定夾具。
【背景技術(shù)】
[0002]在磁控濺射中，由于運(yùn)動(dòng)電子在磁場(chǎng)中受到洛侖茲力的作用，而增加了與工作氣體分子碰撞的次數(shù)，使等離子體密度增大，從而磁控濺射速率得到很大的提高，而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作，降低薄膜污染的傾向，在很大程度上改善薄膜的質(zhì)量。同時(shí)，經(jīng)過多次碰撞而喪失能量的電子到達(dá)陽極時(shí)，已變成低能電子，從而不會(huì)使基片過熱。因此磁控濺射法具有“高速”、“低溫”的優(yōu)點(diǎn)。由于磁控濺射鍍膜厚度及均勻性可控，且制備的薄膜致密性好、粘結(jié)力強(qiáng)及純凈度高。磁控濺射技術(shù)已經(jīng)成為制備各種功能薄膜的重要手段。磁控濺射技術(shù)已在集成電路、半導(dǎo)體照明、微機(jī)電系統(tǒng)、先進(jìn)封裝和光學(xué)鍍膜等領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用。
[0003]磁控濺射鍍膜工藝中，鍍膜工藝主要受以下幾個(gè)參數(shù)的影響:工藝氣體的壓強(qiáng)的大小及在真空室中分布情況、濺射功率的大小、靶材表面和襯底表面距離，即靶基距，大小影響。通常磁控濺射設(shè)備中的靶基距為固定值。
[0004]在磁控濺射鍍膜中，靶材隨著濺射時(shí)間的延長(zhǎng)，靶材表面被等離子體轟擊，濺射出靶材表面，靶材被消耗，靶基距變大。靶基距的變化導(dǎo)致在相同工藝條件下得到沉積薄膜的性能發(fā)生改變。要得到功能一致的薄膜，就需要來調(diào)整靶基距的距離。需要根據(jù)鍍膜的工藝進(jìn)行，調(diào)節(jié)靶基距的距離。使用不同的靶材，對(duì)于靶基距的要求也不盡相同。需要一種能夠自由調(diào)節(jié)靶基距的夾具來實(shí)現(xiàn)鍍膜工藝要求。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]為此，本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題在于現(xiàn)有的磁控濺射鍍膜設(shè)備中固定靶基距的缺陷，提出一種能自由調(diào)節(jié)靶基距的磁控濺射設(shè)備使用夾具。
[0006]本實(shí)用新型的目的由以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:
[0007]本實(shí)用新型提供一種可自由調(diào)節(jié)高度的夾具，特別是一種磁控濺射鍍膜的襯底固定夾具，包括固定襯底的基片架I和片架2 ;在基片架I上表面有三個(gè)帶有標(biāo)尺6的導(dǎo)軌3，三個(gè)導(dǎo)軌3在基片架I表面上成120°三等分基片架I ;導(dǎo)軌3通過M3螺栓10與帶有內(nèi)螺紋的基片架I連接。帶有內(nèi)螺紋的滑片4 一端通過寬口螺栓11與導(dǎo)軌3固定在一起；滑片4與滑竿7的一端通過銷釘12連接為一體，而滑竿7的另一端通過銷釘12與套筒8連接為一體；通過銷釘12的連接，可以實(shí)現(xiàn)滑竿7與滑片4和套筒8連接之間的轉(zhuǎn)動(dòng)功能；套筒8與帶有內(nèi)螺紋的中心軸13通過M4螺栓14連接在一起；滑片4在導(dǎo)軌3內(nèi)的移動(dòng)，通過滑片4上指針5與導(dǎo)軌3上標(biāo)尺6來確定滑片4在導(dǎo)軌上的位置及滑片在導(dǎo)軌3上移動(dòng)的距離，來調(diào)節(jié)片架2和磁控濺射靶材表面的距離，實(shí)現(xiàn)不同靶基距的鍍膜要求；根據(jù)對(duì)不同尺寸的襯底和不同形狀的襯底的鍍膜要求，選擇合適配套的片架2，通過基片架下部有三個(gè)銷釘9將片架2和基片架I連接為一體。
[0008]本實(shí)用新型有益效果是:通過該設(shè)備對(duì)靶基距進(jìn)行調(diào)整，方便快捷，而且不用調(diào)整靶材的高度，這樣就不存在因調(diào)整靶材高度導(dǎo)致破壞真空密封后而重新密封的問題。
【附圖說明】
[0009]為了使本實(shí)用新型的內(nèi)容更容易被清楚的理解，下面根據(jù)本實(shí)用新型的具體實(shí)施例并結(jié)合附圖，對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。
[0010]圖1是本實(shí)用新型一種磁控濺射鍍膜襯底固定夾具結(jié)構(gòu)圖；
[0011]圖中附圖標(biāo)記表示為:1_基片架，2-片架，3-導(dǎo)軌，4-滑片，5-指針，6-標(biāo)尺，7-滑竿，8-套筒，9-銷釘，10-M3螺栓，11-寬口螺栓，12-銷釘，13-中心軸，14-M4螺栓。
【具體實(shí)施方式】
[0012]本實(shí)用新型提供一種磁控濺射的固定夾具，包括基片架I和片架2。在調(diào)節(jié)靶基距距離時(shí)，需要同時(shí)調(diào)節(jié)三個(gè)導(dǎo)軌3中的移動(dòng)滑片4，三個(gè)導(dǎo)軌中3的滑片4都移動(dòng)相同標(biāo)尺6位置。通過寬口螺栓11將滑片4固定在導(dǎo)軌3中。通過滑片4固定位置的不同，從而實(shí)現(xiàn)靶基距的調(diào)整。根據(jù)不同的工藝要求，調(diào)整到需要的導(dǎo)軌位置，實(shí)現(xiàn)靶基距的方便調(diào)整。
[0013]本固定夾具的工作過程為:通過銷釘9將片架2從基片架I取下；松開套筒8與中心軸13的固定M4螺栓，將固定夾具從中心軸13取下；將固定夾具放在一平面位置上，松開導(dǎo)軌3上的寬口螺栓11將滑片4與導(dǎo)軌3解開。將其中一個(gè)滑片4移動(dòng)到需要標(biāo)尺6的位置，通過寬口螺栓11將滑片4和導(dǎo)軌3固定一起，依次重復(fù)該動(dòng)作，將其它兩個(gè)滑片4和導(dǎo)軌3固定一起。將三個(gè)滑片4與導(dǎo)軌3固定完成后，將基片架I上的套筒8與中心軸13通過M4螺栓14固定在一起，這樣就完成靶基距的調(diào)節(jié)。最后將鍍膜的襯底選擇合適的片架2上，將片架2通過銷釘9與基片架I連接在一起，最終實(shí)現(xiàn)最佳的工藝鍍膜時(shí)的靶基距。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種磁控濺射鍍膜襯底固定夾具，包括固定襯底的基片架(I)和片架(2)，其特征在于:在基片架(I)上表面固定安裝三個(gè)帶有標(biāo)尺(6)的導(dǎo)軌(3)，滑片(4)可在導(dǎo)軌(3)內(nèi)移動(dòng)，通過調(diào)節(jié)滑片(4)在導(dǎo)軌(3)內(nèi)的移動(dòng)距離，實(shí)現(xiàn)調(diào)整靶基距。2.如權(quán)利要求1所述的磁控濺射鍍膜襯底固定夾具，其特征在于:所述導(dǎo)軌(3)帶有標(biāo)尺(6)，且標(biāo)尺(6)的位置與導(dǎo)軌(3) —致。3.如權(quán)利要求1所述的磁控濺射鍍膜襯底固定夾具，其特征在于:所述導(dǎo)軌(3)，中間為U字形貫通，靠近圓心一端有跑道型開口。4.如權(quán)利要求1所述的磁控濺射鍍膜襯底固定夾具，其特征在于:滑片(4)安裝于導(dǎo)軌3U字形貫通內(nèi)，寬口螺栓(11)將移動(dòng)滑片(4)和導(dǎo)軌(3)活動(dòng)連接一起，滑片(4)可在導(dǎo)軌⑶內(nèi)移動(dòng)。5.如權(quán)利要求1所述的磁控濺射鍍膜襯底固定夾具，其特征在于:所述的滑片(4)帶有指針(5)，指針(5)處于滑片(4)的中心線上，通過指針(5)來確定滑片(4)在導(dǎo)軌(3)上移動(dòng)的精確距離。6.如權(quán)利要求1所述的磁控濺射鍍膜襯底固定夾具，其特征在于:所述導(dǎo)軌(3)，兩兩之間的夾角為120°分布，三等分固定安裝于所述基片架(I)表面。7.如權(quán)利要求1所述的磁控濺射鍍膜襯底固定夾具，其特征在于:所述導(dǎo)軌(3)內(nèi)端口處于一個(gè)同心圓上，使得三個(gè)帶有標(biāo)尺(6)的導(dǎo)軌(3)在基片架(I)上的分布相同。8.如權(quán)利要求1所述的磁控濺射鍍膜襯底固定夾具，其特征在于:滑片(4)與拉動(dòng)滑片⑷的滑竿⑵一端通過銷釘(12)連接，能自由調(diào)節(jié)滑片⑷與拉桿(7)的角度。9.如權(quán)利要求1所述的磁控濺射鍍膜襯底固定夾具，其特征在于:滑竿(7)與套筒(8)通過銷釘(12)連接，能自由調(diào)節(jié)滑竿(7)與套筒(8)的角度。10.如權(quán)利要求1所述的磁控濺射鍍膜襯底固定夾具，其特征在于:套筒(8)與具有內(nèi)螺紋的中心軸(13)通過螺栓(14)連接。
【專利摘要】本實(shí)用新型提供一種可自由調(diào)節(jié)高度的夾具，特別是一種磁控濺射鍍膜的襯底固定夾具，包括固定襯底的基片架(1)和片架(2)，片架(2)與基片架(1)通過銷釘(9)連接，在基片架(1)上表面有三個(gè)帶有標(biāo)尺(6)的導(dǎo)軌(3)，通過滑片(4)在導(dǎo)軌(3)中移動(dòng)的距離，實(shí)現(xiàn)中心軸(13)下端與基片架(1)背面距離的變化，從而實(shí)現(xiàn)靶基距的距離的變化，實(shí)現(xiàn)調(diào)節(jié)靶基距的目的。
【IPC分類】C23C14/50, C23C14/35
【公開號(hào)】CN204690097
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201420852384
【發(fā)明人】李曉東
【申請(qǐng)人】張家港恩達(dá)通訊科技有限公司
【公開日】2015年10月7日
【申請(qǐng)日】2014年12月24日