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一種鎘鍍層的退除方法

文檔序號:8524385閱讀:655來源:國知局
一種鎘鍍層的退除方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種鎘類鍍層的退除工藝方法,適用于金屬表面鎘鍍層的退除加工。
【背景技術(shù)】
[0002]鎘是柔軟并具有可塑性的銀白色金屬,熔點321°C,標準電位-0.4V,鎘鍍層在一般大氣及工業(yè)大氣條件下,對鋼鐵為陰極性鍍層,其防護能力較鋅鍍層差,但在海上和海水中使用時,鎘鍍層對于鋼鐵為陽極性鍍層,其防護性能比鍍鋅層好。通過電鍍在金屬表面實現(xiàn)的鎘鍍層平滑、細致、均勻。對金屬(尤其鋼鐵)工件具有良好的防護性,工業(yè)生產(chǎn)中通常將電鍍鎘作為金屬材料的主要防護手段。
[0003]不可避免的,在電鍍后如出現(xiàn)鍍層質(zhì)量不良等問題,需對該鍍層進行退除,并重新電鍍。退除鍍層包括機械法和化學(xué)法,機械法受工藝限制,去除量大,操作性差,通常不作為退鍍層的首選,現(xiàn)有的化學(xué)退除鎘鍍層方法工業(yè)生產(chǎn)中常使用硝酸銨溶液浸泡,但硝酸銨本屬易爆品,該溶液在加工、運輸、使用等方面給操作者帶來極大的安全隱患,國家已限制使用,需尋求一種新的退膜方法予以替代。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]為了解決上述存在的技術(shù)問題,本發(fā)明提供一種安全有效的鉻鍍層的退除方法。
[0005]本發(fā)明的目的是通過下述技術(shù)方案實現(xiàn)的:
一種鎘鍍層的退除方法,其特征在于,步驟如下;
Cl)按如下濃度配制退膜溶液:
鉻酐(CrO3) 80~120g/L 硫酸(H2SO4) 3~4g/L ;
具體過程為:
Ca)選擇預(yù)設(shè)的濃度,計算需要添加鉻酐、硫酸及水的重量;
(b)向溶解槽內(nèi)注入2/3預(yù)設(shè)溶液體積的水;
(c)邊攪拌邊加入鉻酐,至鉻酐完全溶解;
Cd)加水至預(yù)設(shè)溶液的體積;
(e)邊攪拌邊加入硫酸,攪拌均勻;
(2)將待處理工件放入退膜溶液,退膜速率在3~5 ym/h ;溫度為室溫。
[0006]本發(fā)明的有益效果:按此退膜方法處理的鍍鎘工件,外觀呈金屬顏色,表面有輕微水痕,無鍍層殘留,基本不腐蝕金屬基體,退膜速率相對穩(wěn)定,對鍍層的退除時間易操控,可100%—次性退鍍。退鍍并重新電鍍鎘后外觀為平滑細晶粒、均勻、細致、有光澤。無粗糙、燒焦、麻點、黑點、起泡和脫落現(xiàn)象。本發(fā)明較以往采用硝酸銨退膜相比,更加安全有效。
【具體實施方式】
[0007]采用本發(fā)明方法退除鍍層,并重新電鍍的全流程如下: (1)按如下濃度配制退膜溶液:
鉻酐(CrO3) 80~120g/L 硫酸(H2SO4) 3~4g/L ;
具體過程為:
Ca)選擇預(yù)設(shè)的濃度,計算需要添加鉻酐、硫酸及水的重量;
(b)向溶解槽內(nèi)注入2/3預(yù)設(shè)溶液體積的水;
(c)邊攪拌邊加入鉻酐,至鉻酐完全溶解;
Cd)加水至預(yù)設(shè)溶液的體積;
(e)邊攪拌邊加入硫酸,攪拌均勻;
(2)將含有鍍層的工件在流動冷水中進行清洗l~2min;
(3)將待處理工件放入退膜溶液進行退膜處理,退膜速率在3~5ym/h ;溫度為室溫;可以根據(jù)鍍層實際厚度來選擇需要退除的時間;
(4)、將退除鍍層的工件在鹽酸50~100g/L、六次甲基四胺(30-60g/L)的溶液中活化l~2min,溫度:室溫;
(5)將工件重新電鍍至要求的厚度;
(6)將鍍鎘后的工件在流動冷水中進行清洗l~2min;
(7)使用壓縮空氣吹干工件表面殘留的水。
【主權(quán)項】
1.一種鎘鍍層的退除方法,其特征在于,步驟如下;(1)按如下濃度配制退膜溶液:鉻酐(CrO3) 80~120g/L硫酸(H2SO4) 3~4g/L ;具體過程為:Ca)選擇預(yù)設(shè)的濃度,計算需要添加鉻酐、硫酸及水的重量;(b)向溶解槽內(nèi)注入2/3預(yù)設(shè)溶液體積的水;(c)邊攪拌邊加入鉻酐,至鉻酐完全溶解;Cd)加水至預(yù)設(shè)溶液的體積;(e)邊攪拌邊加入硫酸,攪拌均勻;(2)將待處理工件放入退膜溶液,退膜速率在3~5ym/h ;溫度為室溫。
【專利摘要】一種鎘鍍層的退除方法,其步驟如下;(1)按如下濃度配制退膜溶液:鉻酐80~120g/L,硫酸3~4g/L;具體過程為:(a)選擇預(yù)設(shè)的濃度,計算需要添加鉻酐、硫酸及水的重量;(b)向溶解槽內(nèi)注入2/3預(yù)設(shè)溶液體積的水;(c)邊攪拌邊加入鉻酐,至鉻酐完全溶解;(d)加水至預(yù)設(shè)溶液的體積;(e)邊攪拌邊加入硫酸,攪拌均勻;(2)將待處理工件放入退膜溶液,退膜速率在3~5μm/h;溫度為室溫。按此退膜方法處理的鍍鎘工件,外觀呈金屬顏色,表面有輕微水痕,無鍍層殘留,基本不腐蝕金屬基體,退膜速率相對穩(wěn)定,對鍍層的退除時間易操控,可100%一次性退鍍。退鍍并重新電鍍鎘后外觀為平滑細晶粒、均勻、細致、有光澤。無粗糙、燒焦、麻點、黑點、起泡和脫落現(xiàn)象。
【IPC分類】C23G1-02
【公開號】CN104846385
【申請?zhí)枴緾N201510334516
【發(fā)明人】于海, 楊波, 于寬深
【申請人】沈陽飛機工業(yè)(集團)有限公司
【公開日】2015年8月19日
【申請日】2015年6月17日
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