本實(shí)用新型涉及鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種內(nèi)壁鍍膜介電管的真空鍍膜設(shè)備。

背景技術(shù)：

當(dāng)前使用的臭氧發(fā)生器所用的管狀介電管，由于其內(nèi)壁附著的導(dǎo)電層存在與電介質(zhì)附著不緊密、離隙、電荷分布不均勻、電介質(zhì)與導(dǎo)電層間部分被空氣介質(zhì)絕緣、電密度低、電阻大、易發(fā)熱、噪音大、易產(chǎn)生火花放電，容易產(chǎn)生熱擊穿和電擊穿，致使出現(xiàn)介電管運(yùn)行壽命短、臭氧內(nèi)耗大、介電管不可能重復(fù)利用、運(yùn)行和維護(hù)費(fèi)高等嚴(yán)重缺陷。在以空氣為氣源制取臭氧化空氣的情況下由于火花放電產(chǎn)生的高溫極易生成氮氧化物，形成污染的副產(chǎn)物。

由此，需要一種內(nèi)壁鍍膜介電管的真空鍍膜設(shè)備來改善臭氧發(fā)生裝置中介電管的性能，使介電管內(nèi)壁鍍上一層導(dǎo)電層。

在公開號(hào)CN2729090的專利文件中，公開了一種內(nèi)壁鍍膜介電管的真空鍍膜設(shè)備，其包括一真空鍍膜臺(tái)，其臺(tái)面下為設(shè)備層部分，其臺(tái)面以上為介電管的內(nèi)壁鍍膜部件，該介電管內(nèi)壁鍍膜部件包括：固設(shè)在真空鍍膜臺(tái)臺(tái)面上的真空鍍膜座；直接以電插座方式固定插接在真空鍍膜座上的真空鍍膜桿；以及由介電管構(gòu)成的真空室。本實(shí)用新型內(nèi)壁真空鍍膜設(shè)備在傳統(tǒng)設(shè)備的基礎(chǔ)上，增設(shè)了真空鍍膜座、真空鍍膜桿和利用介電管本身構(gòu)成的真空室，從而實(shí)現(xiàn)了對(duì)介電管內(nèi)壁進(jìn)行鍍膜的目的；這樣便無需大型昂貴的真空鍍膜設(shè)備，而且最大限度地縮小真空鍍膜室體積，并能夠大幅度降低獲取高真空度的能耗；但該實(shí)用新型中的鍍膜桿穩(wěn)定性不足，鍍膜桿的加熱過程無法監(jiān)測(cè)，安全性不足。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實(shí)用新型提供了一種內(nèi)壁鍍膜介電管的真空鍍膜設(shè)備，能穩(wěn)定有效地對(duì)介電管內(nèi)壁鍍膜，實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)鍍膜加熱過程，增加了安全性。

為實(shí)現(xiàn)以上目的，本實(shí)用新型通過以下技術(shù)方案予以實(shí)現(xiàn)：一種內(nèi)壁鍍膜介電管的真空鍍膜設(shè)備，包括殼體，殼體內(nèi)設(shè)有支撐臺(tái)，支撐臺(tái)上方設(shè)有真空室、油擴(kuò)散泵、前級(jí)真空泵和預(yù)抽真空泵，真空室中間設(shè)有鍍膜桿，真空室底端設(shè)有承載臺(tái)，鍍膜桿插在承載臺(tái)上；油擴(kuò)散泵、前級(jí)真空泵和預(yù)抽真空泵對(duì)應(yīng)連接配合用于抽離真空室內(nèi)的氣體；支撐臺(tái)下方設(shè)有配電裝置，配電裝置通過一控制器與承載臺(tái)電性連接，控制器還與一微處理器連接，微處理器分別與一用于檢測(cè)真空室內(nèi)溫度的溫度傳感器、一用于檢測(cè)真空室內(nèi)真空度的真空度檢測(cè)儀和一顯示器電性連接。

優(yōu)選地，溫度傳感器的探頭對(duì)準(zhǔn)承載臺(tái)。

優(yōu)選地，真空度檢測(cè)儀位于真空室的側(cè)面。

優(yōu)選地，真空室頂端設(shè)有密封蓋。

優(yōu)選地，密封蓋底部設(shè)有卡塊，卡塊卡嵌在鍍膜桿頂端。

本實(shí)用新型提供了一種內(nèi)壁鍍膜介電管的真空鍍膜設(shè)備，介電管套在真空室內(nèi)的鍍膜桿上，通過油擴(kuò)散泵、前級(jí)真空泵和預(yù)抽真空泵之間的配合能有效地保證真空室內(nèi)的真空狀態(tài)；通過微處理器能有效地對(duì)配電裝置進(jìn)行控制；真空度檢測(cè)儀能有效地檢測(cè)真空室內(nèi)的真空度；溫度傳感器能有效地檢測(cè)真空室內(nèi)溫度，尤其是承載臺(tái)處的溫度，能實(shí)時(shí)監(jiān)控鍍膜桿的加熱狀態(tài)；顯示器能顯示真空度和溫度的測(cè)量數(shù)據(jù)；密封蓋上設(shè)有卡塊，能有效地固定鍍膜桿。

附圖說明

為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

為使本實(shí)用新型實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。

實(shí)施例：

如圖1所示，本實(shí)施例的一種內(nèi)壁鍍膜介電管的真空鍍膜設(shè)備，包括殼體1，殼體1內(nèi)設(shè)有支撐臺(tái)2，支撐臺(tái)2上方設(shè)有真空室3、油擴(kuò)散泵6、前級(jí)真空泵7和預(yù)抽真空泵8，真空室3中間設(shè)有鍍膜桿4，真空室3底端設(shè)有承載臺(tái)5，鍍膜桿4插在承載臺(tái)5上；油擴(kuò)散泵6、前級(jí)真空泵7和預(yù)抽真空泵8對(duì)應(yīng)連接配合用于抽離真空室3內(nèi)的氣體；支撐臺(tái)2下方設(shè)有配電裝置10，配電裝置10通過一控制器11與承載臺(tái)5電性連接，控制器11還與一微處理器12連接，微處理器12分別與一用于檢測(cè)真空室內(nèi)溫度的溫度傳感器13、一用于檢測(cè)真空室內(nèi)真空度的真空度檢測(cè)儀14和一顯示器15電性連接。

本實(shí)施例中，溫度傳感器13的探頭對(duì)準(zhǔn)承載臺(tái)5。真空度檢測(cè)儀14位于真空室3的側(cè)面。真空室3頂端設(shè)有密封蓋9。密封蓋9底部設(shè)有卡塊91，卡塊91卡嵌在鍍膜桿4頂端。

本實(shí)施例中，溫度傳感器13通過信號(hào)調(diào)理電路與微處理器12連接。

本實(shí)施例中，在進(jìn)行鍍膜操作前，打開密封蓋9，將介電管套在鍍膜桿4上，接著接通油擴(kuò)散泵6的油加熱電源和冷卻水，啟動(dòng)前級(jí)真空泵7，使高真空系統(tǒng)進(jìn)入運(yùn)行制備階段，與此同時(shí)，啟動(dòng)真空系統(tǒng)的預(yù)抽真空泵8，使其可立即投入預(yù)抽真空狀態(tài)；接著加熱鍍膜桿4，使其在真空狀態(tài)下快速徹底清除介電管內(nèi)壁的殘余水汽和鍍膜桿4和鍍膜料上所附著的氣體，同時(shí)使鍍膜料呈半熔化狀態(tài)，當(dāng)通過真空度檢測(cè)儀14檢測(cè)達(dá)到預(yù)設(shè)鍍膜控制要求后，即可開始鍍膜。

經(jīng)真空度檢測(cè)儀14檢測(cè)達(dá)到預(yù)設(shè)鍍膜控制要求后，在熱狀態(tài)下突然加大電壓和電流到最佳設(shè)定值，以升華態(tài)瞬間鍍膜，適時(shí)切斷鍍膜電源。至此，在介電管內(nèi)壁就形成緊密附著的導(dǎo)電層。

以上實(shí)施例僅用以說明本實(shí)用新型的技術(shù)方案，而非對(duì)其限制；盡管參照前述實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)的說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解：其依然可以對(duì)前述各實(shí)施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改，或者對(duì)其中部分技術(shù)特征進(jìn)行等同替換；而這些修改或者替換，并不使相應(yīng)技術(shù)方案的本質(zhì)脫離本實(shí)用新型各實(shí)施例技術(shù)方案的精神和范圍。