1.一種基于壓電陶瓷驅(qū)動器的變形拋光盤，包括底座、位于底座上的多個壓電陶瓷驅(qū)動器和位于壓電陶瓷驅(qū)動器上方的基盤，其特征在于：
還包括多個彈性片，所述彈性片沿其徑向安裝于底座上表面，且其與壓電陶瓷驅(qū)動器一對一設(shè)置，所述彈性片的頂部與基盤下表面相抵；
所述壓電陶瓷驅(qū)動器沿其軸向安裝于底座上表面，且其一端指向底座中心，另一端處設(shè)有頂緊件，所述彈性片與壓電陶瓷驅(qū)動器指向底座中心的一端相抵，壓電陶瓷驅(qū)動器對彈性片施加擠壓力后，彈性片會產(chǎn)生沿其軸向的伸縮量，以改變基盤的面形；
所述底座下表面設(shè)有導(dǎo)電滑環(huán)，所述壓電陶瓷驅(qū)動器通過導(dǎo)電滑環(huán)與電壓源連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于壓電陶瓷驅(qū)動器的變形拋光盤，其特征在于：所述基盤為鋁制球面薄板。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于壓電陶瓷驅(qū)動器的變形拋光盤，其特征在于：壓電陶瓷驅(qū)動器上加載的電壓為Umax/2時，基盤產(chǎn)生的面形定義為初始面形；壓電陶瓷驅(qū)動器上加載的電壓為0～Umax/2時，基盤產(chǎn)生負(fù)向形變；壓電陶瓷驅(qū)動器上加載的電壓為Umax/2～Umax時，基盤產(chǎn)生正向形變。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種基于壓電陶瓷驅(qū)動器的變形拋光盤，其特征在于：所述壓電陶瓷驅(qū)動器的最小伸縮量為納米級。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種基于壓電陶瓷驅(qū)動器的變形拋光盤，其特征在于：所述壓電陶瓷驅(qū)動器加載電壓后，其沿軸向產(chǎn)生的伸縮量為Δs，所述彈性片沿其徑向產(chǎn)生的伸縮量為Δx，所述彈性片沿其軸向產(chǎn)生的伸縮量為Δy，且Δs＝Δx，Δy＝n×Δx，其中，n表示由徑向轉(zhuǎn)移到軸向位移的放大量。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于壓電陶瓷驅(qū)動器的變形拋光盤，其特征在于：在基盤面積不變的前提下，增加所述壓電陶瓷驅(qū)動器的個數(shù)，提高基盤的面形精度。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種基于壓電陶瓷驅(qū)動器的變形拋光盤，其特征在于：所述底座和基盤之間設(shè)有固定盤，所述固定盤內(nèi)開設(shè)長條槽，所述壓電陶瓷驅(qū)動器、彈性片均位于長條槽內(nèi)，所述頂緊件位于固定盤的邊緣處，并與壓電陶瓷驅(qū)動器的端部相抵。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-7任一所述的一種基于壓電陶瓷驅(qū)動器的變形拋光盤，其特征在于：所述壓電陶瓷驅(qū)動器上方設(shè)有支撐盤，所述支撐盤內(nèi)開設(shè)凹槽，所述基盤位于凹槽內(nèi)，且基盤上表面高于支撐盤上表面，所述凹槽內(nèi)對應(yīng)彈性片處設(shè)有凸起，且凸起與彈性片的個數(shù)相等，所述凸起的頂部與基盤的下表面相抵，所述彈性片的頂部與支撐盤的下表面相抵。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種基于壓電陶瓷驅(qū)動器的變形拋光盤，其特征在于：所述壓電陶瓷驅(qū)動器呈對稱式安裝于底座上表面。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種基于壓電陶瓷驅(qū)動器的變形拋光盤，其特征在于：所述支撐盤為鋁制結(jié)構(gòu)或者鋼制結(jié)構(gòu)。