1.一種硅晶體平面磨削裝置，其特征在于：其包括拖動(dòng)行走單元、主軸單元和主軸驅(qū)動(dòng)單元；所述拖動(dòng)行走單元包括拖動(dòng)單元底板（11）、拖動(dòng)單元上板（8）和主軸座（7），所述拖動(dòng)單元底板（11）上裝有直線(xiàn)導(dǎo)軌（14）、拖動(dòng)行走電機(jī)（9）和絲杠傳動(dòng)機(jī)構(gòu)（13），所述拖動(dòng)單元上板（8）與所述直線(xiàn)導(dǎo)軌（14）滑動(dòng)配合，所述絲杠傳動(dòng)機(jī)構(gòu)（13）與所述拖動(dòng)單元上板（8）連接，所述主軸座（7）與所述拖動(dòng)單元上板（8）固定，拖動(dòng)行走電機(jī)（9）通過(guò)絲杠傳動(dòng)機(jī)構(gòu)（13）驅(qū)動(dòng)所述拖動(dòng)單元上板（8）和主軸座（7）進(jìn)行水平移動(dòng)；所述主軸單元包括安裝在主軸座（7）上的主軸（5），所述主軸（5）的輸入端固定設(shè)置有從動(dòng)帶輪（6），輸出端通過(guò)砂輪架（17）設(shè)置有磨削砂輪（18）；所述主軸驅(qū)動(dòng)單元包括固定設(shè)置在所述主軸座（7）上的主軸驅(qū)動(dòng)電機(jī)（2）和設(shè)置在所述主軸驅(qū)動(dòng)電機(jī)（2）輸出軸端部的主動(dòng)帶輪（3），所述主動(dòng)帶輪（3）和從動(dòng)帶輪（6）通過(guò)多楔帶（4）傳動(dòng)連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種硅晶體平面磨削裝置，其特征在于：還包括外圍防護(hù)裝置，所述外圍防護(hù)裝置包括主軸防塵罩（22）、導(dǎo)軌防塵罩（15）和電機(jī)護(hù)罩（1），所述電機(jī)護(hù)罩（1）設(shè)置在主動(dòng)帶輪（3）、多楔帶（4）和從動(dòng)帶輪（6）外部。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種硅晶體平面磨削裝置，其特征在于：所述砂輪架（17）通過(guò)法蘭（21）固定設(shè)置在所述主軸（5）上，所述法蘭（21）上設(shè)置有冷卻水噴頭（19），所述冷卻水噴頭（19）的出水部位與所述磨削砂輪（18）相對(duì)應(yīng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種硅晶體平面磨削裝置，其特征在于：所述主軸座（7）上通過(guò)調(diào)節(jié)螺柱（23）設(shè)置有電機(jī)可調(diào)支撐板（24），所述主軸驅(qū)動(dòng)電機(jī)（2）設(shè)置在所述電機(jī)可調(diào)支撐板（24）上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種硅晶體平面磨削裝置，其特征在于：所述拖動(dòng)單元底板（11）上固定設(shè)置有多個(gè)行程傳感器（28），所述拖動(dòng)單元上板（8）上設(shè)置有與所述行程傳感器（28）相適配的行程限位塊（27）。