技術(shù)總結(jié)
一種用于半導(dǎo)體處理室的部件，該部件包括基片和設(shè)置在基片表面上的涂層，其中，所述涂層至少包括第一涂層，該第一涂層具有大于0.98至1的熱輻射率、具有抗等離子體性、在其整個厚度方向上具有范圍在35?40的色值L。

技術(shù)研發(fā)人員：M·納伊姆;D·哈梅里克
受保護的技術(shù)使用者：FM工業(yè)公司
文檔號碼：201480078147
技術(shù)研發(fā)日：2014.12.19
技術(shù)公布日：2017.02.22