一種薄膜厚度檢測(cè)機(jī)構(gòu)的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)一種薄膜厚度檢測(cè)機(jī)構(gòu)，包括：薄膜厚度探頭（1），其設(shè)置在薄膜（2）上，用于感應(yīng)檢測(cè)所述薄膜（2）的厚度；水冷保護(hù)罩（3），其覆蓋在所述薄膜厚度探頭（1）上，用于降低局部溫度；支撐機(jī)構(gòu)（4），其設(shè)置在所述薄膜（2）的下方，用于撐托薄膜（2），所述支撐機(jī)構(gòu)（4）的下方設(shè)置濺射陰極（5）。本實(shí)用新型所述薄膜厚度檢測(cè)機(jī)構(gòu)能夠在真空狀態(tài)下，對(duì)連續(xù)生產(chǎn)的真空濺鍍的薄膜的厚度進(jìn)行在線測(cè)量。
【專利說(shuō)明】
一種薄膜厚度檢測(cè)機(jī)構(gòu)

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及厚度檢測(cè)機(jī)構(gòu)，具體為一種薄膜厚度檢測(cè)機(jī)構(gòu)。

【背景技術(shù)】
[0002]在半導(dǎo)體相關(guān)制造過(guò)程中，許多的制程必須在真空狀態(tài)下進(jìn)行，而真空濺鍍技術(shù)是真空薄膜制程中應(yīng)用層面相當(dāng)廣泛的一項(xiàng)重要技術(shù)，近年來(lái)已經(jīng)逐漸取代噴導(dǎo)漆和電解電鍍的方式，大量應(yīng)用在光電、通信、半導(dǎo)體等產(chǎn)業(yè)，成為重要的表面處理技術(shù)。而在真空狀態(tài)下連續(xù)生產(chǎn)的薄膜，一般很難對(duì)其在連續(xù)真空濺射鍍膜時(shí)進(jìn)行厚度的測(cè)量，而且真空濺鍍裝置的腔體內(nèi)的高溫環(huán)境，也難以實(shí)現(xiàn)厚度的準(zhǔn)確、實(shí)時(shí)測(cè)量。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]針對(duì)上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型公開(kāi)一種薄膜厚度檢測(cè)機(jī)構(gòu)，包括:薄膜厚度探頭1，其設(shè)置在薄膜2上，用于感應(yīng)檢測(cè)所述薄膜2的厚度；水冷保護(hù)罩3，其覆蓋在所述薄膜厚度探頭I上，用于降低局部溫度；支撐機(jī)構(gòu)4，其設(shè)置在所述薄膜2的下方，用于撐托薄膜2，所述支撐機(jī)構(gòu)4的下方設(shè)置濺射陰極5。
[0004]本實(shí)用新型的有益效果是通過(guò)控制水冷保護(hù)罩，實(shí)現(xiàn)了在真空狀態(tài)下對(duì)連續(xù)生產(chǎn)的真空濺鍍的薄膜厚度的在線測(cè)量。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0005]圖1是本實(shí)用新型所述薄膜厚度檢測(cè)機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)正視圖。

【具體實(shí)施方式】
[0006]下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步的詳細(xì)說(shuō)明，以令本領(lǐng)域技術(shù)人員參照說(shuō)明書(shū)文字能夠據(jù)以實(shí)施。
[0007]如圖所示，本實(shí)用新型公開(kāi)一種薄膜厚度檢測(cè)機(jī)構(gòu)，包括:薄膜厚度探頭1，其設(shè)置在薄膜2上，用于感應(yīng)檢測(cè)所述薄膜2的厚度；水冷保護(hù)罩3，其覆蓋在所述薄膜厚度探頭I上，用于降低局部溫度；支撐機(jī)構(gòu)4，其設(shè)置在所述薄膜2的下方，用于撐托薄膜2，所述支撐機(jī)構(gòu)4的下方設(shè)置濺射陰極5。
[0008]在工作過(guò)程中，薄膜2的連續(xù)生產(chǎn)過(guò)程都是在真空腔體內(nèi)完成的，所述薄膜2在支撐機(jī)構(gòu)4的承托作用下進(jìn)行傳輸，同時(shí)設(shè)置在薄膜2上的薄膜厚度探頭I感應(yīng)測(cè)試薄膜2的厚度，而覆蓋在所述薄膜厚度探頭I上的水冷保護(hù)罩3，通過(guò)水循環(huán)及時(shí)將熱量帶走，降低局部溫度，保證薄膜厚度探頭I的正常工作。
[0009]盡管本實(shí)用新型的實(shí)施方案已公開(kāi)如上，但其并不僅僅限于說(shuō)明書(shū)和實(shí)施方式中所列運(yùn)用，它完全可以被適用于各種適合本實(shí)用新型的領(lǐng)域，對(duì)于熟悉本領(lǐng)域的人員而言，可容易地實(shí)現(xiàn)另外的修改，因此在不背離權(quán)利要求及等同范圍所限定的一般概念下，本實(shí)用新型并不限于特定的細(xì)節(jié)和這里示出與描述的圖例。
【權(quán)利要求】
1.一種薄膜厚度檢測(cè)機(jī)構(gòu)，其特征在于，包括: 薄膜厚度探頭(1)，其設(shè)置在薄膜(2)上，用于感應(yīng)檢測(cè)所述薄膜(2)的厚度； 水冷保護(hù)罩(3)，其覆蓋在所述薄膜厚度探頭(I)上，用于降低局部溫度； 支撐機(jī)構(gòu)(4)，其設(shè)置在所述薄膜(2)的下方，用于撐托薄膜(2)，所述支撐機(jī)構(gòu)(4)的下方設(shè)置濺射陰極(5)。
【文檔編號(hào)】C23C14/35GK204039491SQ201420380872
【公開(kāi)日】2014年12月24日 申請(qǐng)日期:2014年7月11日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月11日
【發(fā)明者】王振東, 何萬(wàn)能 申請(qǐng)人:蘇州諾耀光電科技有限公司