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用于化學氣相沉積反應器的氣體分配器的制造方法

文檔序號:3313344閱讀:226來源:國知局
用于化學氣相沉積反應器的氣體分配器的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種用于CVD反應器的氣體分配器,所述氣體分配器具有至少兩個相互分隔的氣體分配室(10、20),能夠分別通過進氣孔(2、3)向所述氣體分配室中輸入處理氣體,其中,被布置在上平面內的氣體分配裝置分別與被布置在下平面內的連接管路(13、23)流體連通地連接,其中,屬于不同氣體分配室(10、20)的連接管路(13、23)交替地相鄰布置,并且具有用于輸出處理氣體的出氣孔(14、24)。為了對氣體分配裝置進行改進,這里建議,數(shù)量至少為兩個的氣體分配裝置中的每一個具有分配區(qū)段(12、22),所述分配區(qū)段分別與多個二次分配區(qū)段(11、21)流體連通地連接,其中,所述連接管路(13、23)分別與多個二次分配區(qū)段(11、21)在互相不同的位置上流體連通地連接,其中,互相不同的氣體分配室(10、20)的二次分配區(qū)段(11、21)交替地相鄰布置,并通過分隔壁(9)互相分隔。
【專利說明】用于化學氣相沉積反應器的氣體分配器

【技術領域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種用于化學氣相沉積(CVD)反應器的氣體分配器,該氣體分配器具 有至少兩個相互分隔的氣體分配室,可以分別通過進氣孔將處理氣體輸入所述氣體分配室 中,其中,每個被布置在上平面內的氣體分配裝置分別與被布置在下平面內的連接管路流 體連通,其中,屬于不同氣體分配室的連接管路交替地相鄰布置并且具有用于輸出處理氣 體的出氣孔。

【背景技術】
[0002] 這樣一種氣體分配器由文獻US2003/0207032A1闡述。在該文中,相互不同的連接 管路成排地平行相鄰地延伸,所述連接管路使大量氣體輸出孔相互流體連通地連接。每個 連接管路在交叉點上與供給管路流體連通地相連,所述連接管路構成氣體分配裝置。
[0003] 從文獻US6, 444, 042B1中可以得知一種氣體分配器,這里僅僅設ii^一個氣體分配 空腔或者說一個氣體分配室。所述氣體分配室具有大量相互平行延伸的連接管路,所述連 接管路分別使大量氣體輸出孔互相流體連通地連接。每個連接管路具有大量進氣點。這里 涉及連接管路與大量相互平行延伸的氣體管路的交叉位置。僅僅一個中間管路構成了與氣 體輸入管路相連的進氣管路。
[0004] 文獻US2005/0109280A1闡述了一種具有三個相鄰布置的氣體輸入?yún)^(qū)域的氣體分 配器,分別在多個互相不同的位置上為所述氣體輸入?yún)^(qū)供給氣體。
[0005] 文獻DE102009000903A1中闡述了一種具有梳齒狀相互嵌入的供給管路的氣體分 配器。
[0006] 從文獻DE102005004312A1中可知一種用于CVD反應器的進氣機構。兩個氣體分 配室位于一個共同的平面上,所述氣體分配室借助互相不同的供給管路供給處理氣體。所 述氣體分配室形成梳狀相互嵌入的室區(qū)段。借助垂直向下延伸的流體連接裝置,所述氣體 分配室與連接管路相連。數(shù)個所述連接管路同心地繞著進氣機構的軸延伸,并且借助朝下 指向的氣體連接管路與出氣孔相連。所述氣體分配室互相不同的連接管路位于不同的平面 上。已知的進氣機構具有多個氣體分配空腔("氣體分配空腔"亦可稱為"氣體分配容積"), 其中每個氣體分配空腔分別具有氣體分配室、與該氣體分配室相連的連接管路以及與該連 接管路相連的出氣孔。
[0007] 文獻DE102005043840A1闡述了一種用于CVD反應器的氣體分配器。該文中被供 給以不同處理氣體的室區(qū)段互相交替。


【發(fā)明內容】

[0008] 本發(fā)明所要解決的技術問題在于,在這種類型的氣體分配器中對氣體分配裝置進 行改進。
[0009] 該任務通過在權利要求中闡述的發(fā)明得到解決。
[0010] 首先并主要規(guī)定,數(shù)量至少為兩個的氣體分配裝置中的每一個具有分配區(qū)段和多 個二次分配區(qū)段,其中,每個二次分配區(qū)段與分配區(qū)段流體連通。所述連接管路由此與多個 二次分配區(qū)段各自在不同的位置上、優(yōu)選在交叉位置上流體連通地連接。因此在所述連接 管路內部從兩側為出氣孔供給氣體。所述二次分配區(qū)段形成交替相鄰延伸的管路,所述管 路分別在交叉位置上為相鄰布置的連接管路供給處理氣體。所述二次分配區(qū)段由此形成垂 直于連接管路延伸的供給管路,又由分配區(qū)段向所述供給管路供給處理氣體。所述連接管 路可以由具有大體呈U形截面的隧道部件形成。所述隧道部件可以直接與出氣板連接,所 述出氣板在其整個平面上具有大量出氣孔。所述隧道部件的隧道空腔分別構成連接管路, 出氣板的出氣孔位于所述隧道空腔中。每個氣體分配空腔("氣體分配空腔"亦可稱為"氣 體分配容積")因此具有氣體分配室,所述氣體分配室被分為多個二次分配區(qū)段,其中每個 二次分配區(qū)段又與由隧道部件的空腔構成的連接管路互相連接。所述氣體分配器的優(yōu)選結 構因此具有至少兩個互相分隔的氣體分配空腔。所述兩個氣體分配空腔中的每一個從外部 通過進氣孔與進氣系統(tǒng)流體連通地相連,從而可以通過所述進氣孔將處理氣體、例如在載 體氣中運輸?shù)姆磻獨怏w輸入所述氣體分配空腔中。在所述進氣孔上沿流動方向上連接有 分配區(qū)段,所述分配區(qū)段是氣體分配空腔的分空腔(Untervolumen)。在所述分配區(qū)段上沿 流動方向上連接有上述的二次分配區(qū)段,所述二次分配區(qū)段又由分配區(qū)段進行供給。分空 腔、即二次分配區(qū)段又與隧道部件的隧道空腔相連,其中,優(yōu)選隧道部件僅分別構成連接管 路的一個區(qū)段,所述區(qū)段分別僅使兩個分配區(qū)段互相相連。所述連接管路、即隧道部件的空 腔屬于一個氣體分配空腔,相較而言,隧道壁的外周屬于另一個氣體分配空腔。在隧道的外 部、特別是在隧道壁的旁邊同樣存在出氣孔。但是所述出氣孔被分配給與位于布置在所述 出氣孔之間的隧道中的出氣孔不同的氣體分配空腔。因此形成出氣區(qū)域的條狀結構,互相 不同的氣體可以通過所述條狀結構流入CVD反應器的被布置在出氣板下方的處理室中。出 氣板的平面輪廓可以是矩形。所述出氣機構以及氣體分配器相應地具有矩形的平面形狀。 但是也可能的是,所述出氣機構具有圓形的平面輪廓。所述隧道部件則可以在圓弧部段上 延伸。但是所述隧道部件也可以沿徑向方向延伸。以上設計同樣也適用于垂直于隧道長度 方向延伸的二次分配區(qū)段,所述二次分配區(qū)段可以互相平行地或者在圓弧線或者在徑向線 上延伸。優(yōu)選地,分隔壁在位于隧道部件的平面上方的平面內延伸。所述隧道部件位于分 隔壁所處平面下方的平面內。在該平面內優(yōu)選僅僅布置隧道部件。該平面向下通過出氣板 進行限制。所述二次分配區(qū)段在位于隧道部件上方的平面內基本互相并排的延伸。所述隧 道部件垂直于二次分配區(qū)段的長度方向延伸。兩個隧道部件之間在二次分配區(qū)段的長度方 向上的距離大致等于隧道部分的寬度。兩個隧道部件垂直于二次分配區(qū)段的長度方向的距 離大致等于氣體分配室的寬度。就這點而言,用于互相不同的氣體的出氣區(qū)域在二次分配 區(qū)段的長度方向上交替布置。相反,所述出氣區(qū)域在隧道長度方向上則連續(xù)地延伸。其原 因在于,屬于同一個氣體分配空腔的兩個隧道部件的端面互相對齊,與之相對地,在屬于同 一個氣體分配空腔的兩個隧道部件的壁之間布置另一個氣體分配空腔的區(qū)段。所述分隔壁 可以由一個單獨的分隔壁部件形成,所述分隔壁部件具有折回狀的走向、即具有相互平行 延伸的區(qū)段。因此形成每個氣體分配室的梳狀的結構,其中,每個相互平行延伸的二次分配 區(qū)段由分配區(qū)段進行供氣。所述分配區(qū)段互相間隔開。在矩形的氣體分配器上,所述分配 區(qū)段相互對置地布置。根據(jù)本發(fā)明的裝置由此可以如下制得,即首先制造這回轉的分隔壁 部件并使所述分隔壁部件與大量U形的隧道部件相連,其中,隧道端面分別在隧道部件的 端面開口的范圍內與分隔壁焊接。此外將交替地朝左和朝右的隧道部件安裝在分隔壁區(qū)段 上,更確切的說如下實現(xiàn),即緊鄰隧道壁部分布置的隧道部件呈直線形地互相連接。之后將 設計有大量孔的出氣板與隧道部件的壁末端相連。這可以通過擴散焊接、粘接或者類似手 段實現(xiàn)。但是也可能的是,單個的隧道部件首先與出氣板相連,之后將分隔壁放置在與出氣 板相連的、棋盤狀布置的隧道部件上。
[0011] 在本發(fā)明的一種改進方式中,所述氣體分配器具有圓形的圓形外周。所述氣體容 積的分配區(qū)段可以沿周向包圍出氣板的出氣面??梢栽O有兩個圓形的重疊布置的分配區(qū) 段,所述分配區(qū)段具有進氣孔,通過所述進氣孔為氣體容積的單個或者多個二次分配區(qū)段 進行供氣。所述進氣孔可以被布置在互相不同的平面內。在本發(fā)明的一種變造方式中規(guī)定, 數(shù)量至少為兩個的氣體容積的其中至少一個分配區(qū)段被布置在二次分配區(qū)段的上方,在所 述二次分配區(qū)段中進行氣體的二次分配。所述二次分配區(qū)段構成室區(qū)段。在本發(fā)明的一種 變造方式中規(guī)定,所述分配區(qū)段位于第三平面上并在一個圓周管路中形成一個分配區(qū)段。 也可以將兩個分配區(qū)段布置在第三平面內。所述分配區(qū)段可以由分隔壁互相分隔。所述分 配區(qū)段具有通向二次分配區(qū)段的進氣孔,在所述二次分配區(qū)段中進行向布置有隧道部件的 平面的二次分配。
[0012] 此外,本發(fā)明所要解決的記述問題還在于,給出一種平整的氣體分配器,所述氣體 分配器相對于已知的氣體分配器更易于被制造。
[0013] 優(yōu)選地,根據(jù)本發(fā)明的形式的氣體分配器如下制得,即連接管路由基本上呈U形 的隧道部件構成。所述隧道部件分別具有兩個互相平行延伸的側壁。該側壁的棱邊與出氣 板的內側相連。由所述兩個側壁和一個使所述兩個側壁相互連接的連接壁構成U形截面。 所述連接壁相對于出氣板的內側保持一定距離。在本發(fā)明的一種特別優(yōu)選的結構上,所述 隧道部件由交叉的型材件形成,這里優(yōu)選的是U形型材件,所述U形型材件具有不間斷的側 壁,但是該U形型材件的連接壁具有以均勻間距布置的窗口。所述側壁由U形型材的U形 臂構成,而所述連接壁由U形連接邊構成。存在第一和第二型材件。所述第一型材件形成 二次分配區(qū)段,在所述二次分配區(qū)段中進行氣體的二次分配。所述第一型材件的型材開口 相背于出氣板。所述第一型材件的連接壁(借助所述連接壁使兩個側壁相連)具有窗口形 的開口,所述開口被布置在第一和第二U形型材件的交叉位置上。所述第一 U形型材件的 窗口被布置在第二型材件的窗口的上方。所述第二型材件的型材開口朝向出氣板,從而使 交叉地相互重疊的U形型材件背靠背布置。第一和第二型材件的型材間隙通過互相重疊的 窗口互相連接,從而第一和第二型材件的U形間隙被分配給同一個氣體容積。另一個氣體 容積被分配給所述U形型材件之間的間隙。被布置在所述第一型材件的窗口之間的第一型 材件的底板的區(qū)段構成用于隧道部件的連接壁?;谶@種結構可以簡易地制造根據(jù)本發(fā)明 的氣體分配器。在例如構成盆形殼體的底板的出氣板上鉆出成行的和成排列的孔,所述孔 構成出氣孔。然后制造第一和第二U形型材件,所述第一和第二U形型材件在其背部具有 開槽或者凹空。所述第二U形型材件將U形型材開口朝向出氣板地固定在出氣板上,這可 以通過焊接、粘接等等實現(xiàn)。所述第二U形型材件此外互相平行并且彼此間具有固定不變 的距離,該距離基本等于U形型材件的兩個側壁的間距。在接下來的方法步驟中,在所述第 二型材件的背面的上方的第二平面內布置第一型材件。所述第一型材件的型材開口相背于 出氣板。所述第一 U形型材件垂直于第二U形型材件延伸,并同樣具有固定不變的距離且 互相平行地延伸,其中,每個的第一U形型材件的間距等于型材件的側壁的間距。所述第一 型材件的背面具有窗口,所述窗口位于第二型材件的窗口的上方。所述第一型材件的側壁 的朝上的棱邊與封閉殼體的整個容積的蓋板相連。
[0014] 上述的進氣機構不僅可以被使用在M0CVD (金屬有機化合物化學氣相沉積)反應 器中,由第三和第五主族元素構成的覆層在所述M0CVD反應器中沉積;還適合將氣體分配 器用于這種反應器中,在所述反應器中將有機材料、例如用于制造〇LEDs(有機發(fā)光二級 管)的有機材料沉積在基材上。此外,所述氣體分配器也適合用于沉積聚合物。向氣體分 配空腔中輸入氣態(tài)的聚合物載體或者引發(fā)劑(Initialisator)。所述兩種氣體經互相不同 的出氣孔進入處理室。所述氣體分配室可以被加熱或者被冷卻。為此氣體分配器具有冷卻 器或者加熱器。所述出氣孔可以被布置成棋盤形,可以被布置成直線形,可以被布置成網(wǎng)格 狀,然而也可以被布置成圓形。所述氣體分配器可以具有兩個氣體容積,但是也可以具有三 個或者四個互相分隔的氣體容積,在所述氣體容積中可以分別輸入特定的處理氣體或者載 體氣,所述處理氣體或載體氣可以通過輸出孔向分配給各個氣體容積的處理室排放。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0015] 接下來將借助所附的圖示闡述本發(fā)明的實施例。在附圖中:
[0016] 圖1示出了呈用于CVD反應器的進氣機構形式的、移除蓋板的第一實施例的氣體 分配器,
[0017] 圖2示出了所述氣體分配器的底部立體視圖,
[0018] 圖3示出了在移除蓋板的情況下所述氣體分配器的俯視圖,
[0019] 圖4示出了根據(jù)圖1的移除蓋板并部分剖開的另一個立體圖,
[0020] 圖5示出了根據(jù)圖4的、然而沿另一條剖切線所得的示圖,
[0021] 圖6示出了帶有未示出的蓋板的第二結構示例的氣體分配器的立體圖,
[0022] 圖7示出了圖6中所示的氣體分配器的底部視圖,
[0023] 圖8示出了根據(jù)圖6的氣體分配器的內部俯視圖,
[0024] 圖9示出了圖6中所示的具有缺口的氣體分配器的立體圖,
[0025] 圖10示出了沿圖8中的剖切線X-X所得的截面,
[0026] 圖11示出了沿圖8中的剖切線XI-XI所得的截面,
[0027] 圖12示出了移除殼體的蓋板的、本發(fā)明的第三實施例的立體圖,
[0028] 圖13示出了圖12中所示的氣體分配器的底部圖,
[0029] 圖14示出了圖12中所示的、移除蓋板的氣體分配器的殼體內部的俯視圖,
[0030] 圖15示出了沿圖14中的剖切線XV-XV所得的截面,
[0031] 圖16示出了沿圖14中的剖切線XVI-XVI所得的截面,
[0032] 圖17示出了第四實施例的氣體分配器的部分剖開的立體圖,
[0033] 圖18示出了圖17中所示的實施例的底部視圖,
[0034] 圖19示出了圖17中所示的實施例的殼體內部的俯視圖,
[0035] 圖20示出了沿圖19中的剖切線XX-XX所得的截面,
[0036] 圖21示出了沿圖19中的剖切線XXI-XXI所得的截面和
[0037] 圖22示出了 U形型材件31、32的立體圖,當交叉的第一型材件31和第二型材件 32背靠背互相重疊時,借助所述U形型材件可以形成隧道部件裝置15、25。

【具體實施方式】
[0038] 圖示分別示出了氣體分配器如何被應用在CVD反應器中。所述氣體分配器具有矩 形的殼體,所述殼體構成四個側壁、一個未示出的蓋板和一個底板。所述底板是具有出氣面 7的出氣板8,大量出氣孔14、24通向所述出氣面。
[0039] 所述殼體1由金屬、特別是由鋼制成,并具有進氣孔2、3,處理氣體可以分別通過 所述進氣孔被輸入互相分隔的氣體分配空腔中。所述出氣面7具有成行布置的出氣孔14、 24,所述出氣孔分別按行屬于不同的氣體分配空腔。
[0040] 殼體1的內部被構造成兩個互相重疊的平面。下平面與出氣板8鄰接。位于所述 下平面上方的平面與未示出的蓋板鄰接。在圖1至5所示的實施例中。所述進氣孔2、3通 向上平面,并被布置在殼體1的互相遠離的寬側上。
[0041] 借助具有折回狀走向的分隔壁9,所述殼體1的上平面被分為兩個氣體分配室10、 20。所述兩個分配室10、20中的每一個被分配為兩個氣體分配空腔的其中一個。所述分隔 壁9如此構造在上平面中,使得兩個相互對置布置的分配區(qū)段12、22延伸出梳齒狀的二次 分配區(qū)段11、21,所述二次分配區(qū)段基本上在殼體1的整個長度上延伸。由于分隔壁9的折 回狀的走向,屬于不同的氣體分配空腔的二次分配區(qū)段11、21交替地相鄰布置?;ハ嗖煌?的氣體分配空腔的二次分配區(qū)段11、21因此垂直于所述二次分配區(qū)段的長度方向交替地 相鄰布置。所述二次分配區(qū)段11、21形成并排延伸的供給管路,所述供給管路分別獨立地 由分配區(qū)段12、22進行供氣。
[0042] 在下平面上布置了大量隧道部件15、25。所述隧道部件15、25垂直于二次分配區(qū) 段11、21的長度方向延伸。所述隧道部件15、25的空腔構成連接管路13、23,借助所述連接 管路將屬于同一個氣體分配空腔的兩個二次分配區(qū)段11互相相連。所述隧道部件15、25 分別為每每相隔一個的氣體分配空腔的二次分配區(qū)段11、21建立隧道。因此所述隧道部件 15、25內部的空間屬于與所述隧道部件15、25的外部的氣體分配空腔不同的另一個氣體分 配空腔。所述隧道部件15、25之間的間隙位于由二次分配區(qū)段11、21形成的供給管路與垂 直于所供給管路延伸的連接管路13、23的交叉位置上。從圖3中可以得知,隧道部件15、25 被布置成棋盤形。從下方連通同一個二次分配區(qū)段11、21的兩個隧道部件15、25的壁之間 的距離大致等于隧道部件15、25的寬度。兩個排成一行的隧道部件15、25的端孔的間距等 于分隔壁9的互相平行延伸的分隔壁區(qū)段的間距,所述分隔壁使兩個相互相鄰布置的二次 分配區(qū)段11、21互相分隔。所述分隔壁9在隧道部件15、25的端孔的上方延伸。在該實施 例中,所述隧道部件15、25具有矩形的截面。所述分隔壁9與隧道部件15、25的上壁氣密 封的連接。兩個隧道部件15、25分別相對于互相不同的氣體容積或者說與互相不同的氣體 分配空腔10、20流體連通地相連,所述隧道部件在其蓋板的區(qū)域內相互連接。這里是大致 呈直線形的連接。在下平面的內部因此由隧道壁以及隧道孔形成的隧道間隙16、26。
[0043] 所述出氣孔14、24從隧道空腔中通入出氣面7。所述出氣孔14、24同樣也從隧道 間隙16、26通入出氣面7。
[0044] 基于上述的隧道部件15、25的布置以及所述兩個不同的氣體分配室10、20的二次 分配區(qū)段11、21而形成了兩個獨立的氣體分配容積。參考圖1在該處所示的圖示,所述出 氣孔的最下方的行被分配給屬于氣體分配室10的第一氣體分配空腔。所述氣體分配室10 在上平面中形成延伸出二次分配區(qū)段11的分配區(qū)段12。參照該圖,所述二次分配區(qū)段11 利用隧道間隙使自下數(shù)第一行的出氣孔14與每隔一行的出氣孔14流體連通地連接。位于 隧道間隙16之間和之中的出氣孔14由隧道空腔13進行供氣供給。此外,氣體通過隧道部 件15的兩個端孔進入隧道空腔13。
[0045] 參照圖3的示圖,從上方對屬于所述氣體分配室20的第二氣體分配空腔進行供 氣。參考示圖,布置位于上方的分配區(qū)段22為二次分配區(qū)段21進行供氣,所述二次分配區(qū) 段位于二次分配區(qū)段11之間。參考示圖,從出氣孔24的最上一行開始數(shù),每相隔一行的出 氣孔24屬于第二氣體分配空腔。這里屬于二次分配區(qū)段21的隧道間隙26也直接由所屬 的二次分配區(qū)段21進行供氣。為所述二次分配區(qū)段11建立隧道的隧道部件25利用其空 腔為出氣孔24進行供氣。在該實施例中,同一行的所有出氣孔14、24由同一個氣體分配空 腔供氣,其中,由不同的氣體分配空腔進行供氣的出氣孔按行交替布置。
[0046] 所述隧道部件15、25可以由單獨一個部件形成。但是也可以規(guī)定為此使用U形型 材件31、32,所述U形型材件在殼體1的整個寬度以及長度上延伸,并且側壁17、27不僅由 隧道部件15、也由隧道部件25構成。但是U形型材件31、32僅分別形成隧道部件15的連 接壁18。在所述連接壁18,之間型材件具有窗口。在窗口的范圍內兩個互相相鄰的型材件 通過連接壁28互相連接。
[0047] 圖6至11示出了本發(fā)明的第二實施例,其中,在第一平面內布置上述的隧道部件 15、25,其中,所述隧道部件15、25是U形的結構,所述U形的結構分別具有側壁17、27,該U 形結構的棱邊與出氣板8的內側4相連。所述側壁17、27借助連接壁18、28連接成封閉的 管路,但是該管路在其端面上是開放的。
[0048] 與第一實施例不同,該第二實施例的殼體1具有圓形的平面輪廓。處理氣體向不 同的二次分配區(qū)段11、21的供給是通過環(huán)形管路21、22實現(xiàn)的,在所述二次分配區(qū)段中進 行二次分配。設有兩個互相重疊布置的環(huán)形管路21、22,所述環(huán)形管路形成氣體分配區(qū)段 并屬于互相不同的氣體容積10、20。利用基本上沿徑向延伸的進氣孔19、29,借助分配區(qū)段 12、22為二次分配區(qū)段11、21進行供氣。所述進氣孔19、29位于互相不同的平面內。屬于 第一氣體分配容積10的進氣孔19直接通入二次分配區(qū)段11的區(qū)域內,所述二次分配區(qū)段 11通過直線延伸的分隔壁9與第二氣體分配容積20的二次分配區(qū)段21分隔。氣體向第二 室容積20的輸入是通過進氣孔29實現(xiàn)的,所述進氣孔位于隧道部件15的平面內。在該實 施例中,屬于互相不同的氣體容積10、20的出氣孔14、24按行交替布置。
[0049] 從圖10和11可以得知,所述出氣板8具有內側4,互相平行布置的隧道部件15、 25被固定在所述內側上。所述隧道部件15具有側壁17的下棱邊與出氣板8的內側4固定 連接。側壁17的另一端借助平行于出氣板8延伸的連接壁18連接,從而形成端面?zhèn)乳_放 的管路。所述隧道部件25具有相應的側壁27和連接壁28。
[0050] 由互相平行延伸的分隔壁9分隔開的二次分配區(qū)段11、21位于所述隧道部件15、 25上方的水平面上,所述二次分配區(qū)段由進氣孔19、29進行供氣,實現(xiàn)將處理氣體二次分 配至隧道部件15、25并直接為隧道間隙進行供氣。
[0051] 圖12至16中所示的第三實施例與第二實施例的區(qū)別基本上僅僅在于,所述分配 區(qū)段12、22被不同地布置。所述第一氣體空腔10分配有分配區(qū)段12,所述分配區(qū)段被布置 在外殼體邊緣上,并環(huán)形地包圍出氣面7。通過進氣孔19為二次分配區(qū)段11供給處理氣 體。
[0052] 蓋板5平行于出氣板8延伸,所述蓋板對二次分配區(qū)段11、21進行限制。所述蓋 板5與分隔壁9相連,從而使連接壁18、分隔壁9和蓋板5形成封閉的管路,其中,連接管路 18之間的管路的底部是打開的,從而使處理氣體可以進入隧道部件15。
[0053] 在所述蓋板5上方布置圓盤形的空腔,所述空腔形成分配區(qū)段22。所述分配區(qū)段 22通過供給孔3供給處理氣體,并具有進氣孔29,處理氣體可以通過所述進氣孔從分配區(qū) 段22流入位于蓋板5下方的二次分配區(qū)段21中,從而可以實現(xiàn)向隧道部件15的二次分配。
[0054] 在圖17至22中所示的第四實施例與第二和第三實施例的區(qū)別實際僅僅在于,在 第四實施例中,兩個分配區(qū)段12、22被布置在二次分配區(qū)段11、21上方的第三水平面上。這 形成了兩個半圓形的分配區(qū)段12、22,所述分配區(qū)段向上由底板6限制,而向下由蓋板5限 制。所述蓋板5具有進氣孔19、29,所述進氣孔分別與二次分配區(qū)段11、21相連。在此,所 述二次分配區(qū)段11、21也互相平行地延伸,并由分隔壁9互相分隔。
[0055] 在圖22中規(guī)定了如何制造隧道部件15、25。可以由金屬,特別是鋼或者鋁制成的 第一型材件31具有基本上呈U形的截面,從而形成側壁3Γ。該側壁31'形成上述的分 隔壁9。所述側壁31'的棱邊31〃與蓋板5相連。U形型材件31的底面形成隧道部件25 的連接壁28。所述型材件31的底面具有窗口 34,從而使不同的連接壁28互相間隔。
[0056] 設有第二型材件32,所述第二型材件同樣具有U形的截面,并且像第一型材件31 一樣也具有縱向延伸的結構。所述第一型材件31的型材開口相背于出氣板8,而型材件32 的型材開口朝向出氣板8。所述型材件32具有側壁32',所述側壁互相平行地延伸,并具 有開放的棱邊32",借助所述棱邊將型材件32固定在出氣板8的內側4上。所述第二型材 件32的背面形成隧道部件15的連接壁18。兩個互相平行地延伸的側壁32'在連接壁18 的區(qū)域內構成隧道部件15的側壁17。
[0057] 所述型材件32的背面在各的連接壁18之間具有窗口 33。第二型材件32的側壁 32'在所述窗口 33的范圍內構成隧道部件25的側壁27。
[0058] 當所述隧道部件15已經完全由型材件32制成時,才通過以下方法制造隧道部件 25,即多個互相平行布置的型材件32和與所述型材件32垂直布置的第一型材件31相連, 其中,所述第二型材件31的開口 34形狀配合地放置在第二型材件32的開口 33上。相互 重疊的窗口 33、34的邊緣互相連接。所述邊緣尤其氣密性地連接。這形成U形型材件31、 32的類似柵格狀的結構,所述U形型材件的相互對置的背面在交叉區(qū)域內形成形狀配合地 互相重疊的窗口 33、34。
[0059] 所述型材件32也可以由封閉的型材、特別是矩形型材形成。由此則不必將板件或 者型材連接在底板上。
[0060] 所有公開的特征(本身)都是具有發(fā)明意義的。為此也將所屬/所附的優(yōu)先文件 (提前申請的副本)的完整公開內容一起包括在本發(fā)明申請的公開內容內,出于同樣的目 的,也將所述申請文件的特征一起包含在本申請的權利要求中。從屬權利要求通過其可選 的并列的描述表征了對現(xiàn)有技術實質性的且具有創(chuàng)造性的改進,特別可以這些權利要求為 基礎進行分案申請。
[0061] 附圖標記清單
[0062] 1 殼體
[0063] 2 進氣孔
[0064] 3 進氣孔
[0065] 7 出氣面
[0066] 8 出氣板
[0067] 9 分隔壁
[0068] 10 氣體分配空腔,氣體分配室
[0069] 11 二次分配區(qū)段
[0070] 12 分配區(qū)段
[0071] 13 連接管路
[0072] 14 出氣孔
[0073] 15 隧道部件
[0074] 16 隧道中間區(qū)域
[0075] 17 側壁
[0076] 20 氣體分配空腔,-室
[0077] 21 二次分配區(qū)段,環(huán)形管路
[0078] 22 分配區(qū)段,環(huán)形管路
[0079] 23 連接管路
[0080] 24 出氣孔
[0081] 25 隧道部件
[0082] 26 隧道間隙
[0083] 27 側壁
[0084] 28 連接壁
[0085] 29 進氣孔
[0086] 30 分隔壁
[0087] 31 U形型材件
[0088] 31' 側壁
[0089] 3Γ 棱邊
[0090] 32 U形型材件
[0091] 32; 側壁
[0092] 32" 棱邊
[0093] 33 窗口
[0094] 34 窗口
【權利要求】
1. 用于化學氣相沉積反應器的氣體分配器,所述氣體分配器具有至少兩個相互分隔 的氣體分配室(10、20),能夠分別通過進氣孔(2、3)向所述氣體分配室中輸入處理氣體,其 中,被布置在上平面內的氣體分配裝置分別與被布置在下平面內的連接管路(13、23)流體 連通地連接,其中,屬于不同氣體分配室(10、20)的連接管路(13、23)交替地相鄰布置,并 且具有用于輸出處理氣體的出氣孔(14、24),其特征在于,數(shù)量至少為兩個的氣體分配裝置 中的每一個具有分配區(qū)段(12、22),所述分配區(qū)段分別與多個二次分配區(qū)段(11、21)流體 連通地連接,其中,所述連接管路(13、23)分別與多個二次分配區(qū)段(11、21)在互相不同的 位置上流體連通地連接,其中,互相不同的所述氣體分配室(10、20)的二次分配區(qū)段(11、 21) 交替地相鄰布置,并通過所述分隔壁(9)互相分隔。
2. 根據(jù)權利要求1所述的氣體分配器,其特征在于,所述連接管路(13、23)由隧道部件 (15、25)構成。
3. 根據(jù)權利要求2所述的氣體分配器,其特征在于,所述隧道部件(15、25)具有U形 的截面,并將U形開口朝向出氣板(8),所述隧道部件(15、25)的U形臂與所述出氣板相連 接。
4. 根據(jù)權利要求2或3所述的氣體分配器,其特征在于,由隧道壁限定出的隧道間隙 (16、26)分別在兩個相鄰布置的隧道部件(15、25)之間延伸,所述出氣板(8)的屬于另一氣 體分配空腔的出氣孔(14、24)位于所述隧道間隙中。
5. 根據(jù)權利要求2至4中任一項所述的氣體分配器,其特征在于,在兩個成行的隧道部 件(15、25)的端孔之間布置屬于同一個氣體分配空腔的、具有出氣孔(14、24)的隧道間隙 (16、26)。
6. 根據(jù)權利要求1至5中任一項所述的氣體分配器,其特征在于,所述兩個氣體分配室 (10、20)形成梳齒狀的互相嵌入的室區(qū)段(11、21)。
7. 根據(jù)權利要求1至6中任一項所述的氣體分配器,其特征在于,所述室區(qū)段(11、21) 通過折回狀延伸的分隔壁(9)相互分隔。
8. 根據(jù)權利要求1至7中任一項所述的氣體分配器,其特征在于,所述分配區(qū)段(12、 22) 相互對置地布置在上平面內。
9. 根據(jù)權利要求1至8中任一項所述的氣體分配器,其特征在于,互相不同的所述氣體 分配室(10、20)的二次分配區(qū)段(11、21)通過共同的分隔壁(9)相互分隔。
10. 根據(jù)權利要求2至9中任一項所述的氣體分配器,其特征在于,所述分隔壁(9)鄰 接在所述隧道部件(15, 25)的U形連接臂上,并且在所述隧道部件(15, 25)的端孔的高度 上延伸。
11. 根據(jù)權利要求2至10中任一項所述的氣體分配器,其特征在于,不同的所述氣體分 配空腔的隧道部件(15、25)呈直線形接觸。
12. 根據(jù)權利要求3至11中任一項所述的氣體分配器,其特征在于,所述出氣板(8)的 出氣面(7)具有出氣孔(14、24),所述出氣孔成行由同一個氣體分配容積進行供氣,其中, 由不同的氣體容積供氣的出氣孔(14、24)成行地交替布置。
13. 根據(jù)權利要求1至12中任一項所述的氣體分配器,其特征在于,所述出氣孔(14、 24)成行交替地與互相不同的氣體分配室(10、20)的連接管路(13、23)相連,其中,多個相 鄰布置的二次分配區(qū)段(11,21)具有比連接管路(13, 23)的截面更大的截面。
14. 用于化學氣相沉積反應器的氣體分配器,所述氣體分配器具有出氣板(8),所述出 氣板具有從連接管路(13、23)延伸出的出氣孔(14、24),所述出氣孔與相互隔開的氣體分 配室(10、20)的室區(qū)段(11、21)流體流動地連接,其特征在于,所述連接管路(13、23)由基 本上呈U形的隧道部件(15、25)構成,所述隧道部件的側壁(17、27)與出氣板(8)的內側 (4)相連,并且彼此間借助連接壁(18、28)相連。
15. 根據(jù)權利要求14所述的氣體分配器,其特征在于,所述隧道部件(15、25)由交叉的 第一型材件和第二型材件(31、32)構成,所述型材件尤其被設計成U形型材件或者矩形型 材件,其中,尤其規(guī)定,所述型材件(31、32)具有布置在交叉區(qū)域內的窗口(33、34)。
16. 根據(jù)權利要求15所述的氣體分配器,其特征在于,所述第一型材件(31)的側壁 (31')和/或第二型材件(32)的側壁(32')使互相不同的氣體容積(10、20)互相分隔。
17. 根據(jù)權利要求16所述的氣體分配器,其特征在于,在交叉布置的所述型材件(31、 32)的側壁(31'、32')之間延伸的間隙被分配給一個共同的氣體分配空腔(10),而在所 述型材件(31、32)外部延伸的空間被分配給另一個氣體分配空腔(20)。
【文檔編號】C23C16/455GK104087912SQ201410191366
【公開日】2014年10月8日 申請日期:2014年2月17日 優(yōu)先權日:2013年2月15日
【發(fā)明者】T·克魯肯, B·P·戈皮, M·道爾斯伯格 申請人:艾克斯特朗歐洲公司
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