鋁鈦合金濺鍍靶材及其制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種鋁鈦合金濺鍍靶材及其制作方法。為了克服現(xiàn)有技術(shù)的鋁鈦合金濺鍍靶材難以濺鍍形成組成均勻的鋁鈦合金薄膜的問題，本發(fā)明提供一種析出相分布均勻的鋁鈦合金濺鍍靶材，其能用以濺鍍形成具有良好薄膜穩(wěn)定性與組成均勻的鋁鈦合金薄膜。此外，本發(fā)明也提供一種鋁鈦合金濺鍍靶材的制作方法，其將鋁鈦合金熔湯注入內(nèi)模最大冷卻面的面積/總?cè)莘e大于0.1cm2/cm3的模具中，并同時(shí)冷卻該模具，用來有效抑制鋁鈦合金濺鍍靶材中析出相的偏聚現(xiàn)象，獲得析出相面積小且分布均勻的鋁鈦合金濺鍍靶材。
【專利說明】鋁鈦合金濺鍍靶材及其制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種鋁鈦合金濺鍍靶材及其制作方法，尤其是一種析出相分布均勻的鋁鈦合金濺鍍靶材及其制作方法。
【背景技術(shù)】
[0002]鋁鈦合金薄膜由于具備低電阻率與高反射率的特性，已被廣泛地制作成觸控面板或平面顯示器的金屬導(dǎo)線層以及光記錄媒體或太陽能電池的反射層。
[0003]一般而言，鋁鈦合金薄膜使用鋁鈦合金濺鍍靶材所濺鍍而成，該鋁鈦合金濺鍍靶材的組成均勻性、平均晶粒及析出相均勻性與尺寸是影響鋁鈦合金薄膜的工藝良品率與薄膜穩(wěn)定性的關(guān)鍵。
[0004]目前常用于制作鋁鈦合金濺鍍靶材的方法可分為:粉末冶金法(powdermetallurgy process)、噴覆成型法(spray forming process)和鑄造法(castingprocess)。
[0005]以粉末冶金法所制得的鋁鈦合金濺鍍靶材的氧含量多半偏高(大于1000ppm)，致使所形成的鋁鈦合金薄膜的電阻率相對較高，因而不適合作為金屬導(dǎo)線層的材料；且質(zhì)量穩(wěn)定的鋁粉來源不易得到，使得鋁鈦合金濺鍍靶材的制作成本一直無法有效地降低。
[0006]噴覆成型法雖然可以降低鋁鈦合金濺鍍靶材中析出相的尺寸與鋁鈦合金晶粒尺寸，并且提升鋁鈦合金濺鍍靶材的組成均勻性，但由于所使用的機(jī)臺十分昂貴且工藝步驟較為復(fù)雜，致使鋁鈦合金濺鍍靶材的制作成本也大幅提高，仍然不利于作為量化生產(chǎn)鋁鈦合金濺鍍靶材的方法。
·[0007]此外，由于鋁的熔點(diǎn)僅有660° C，而鈦的熔點(diǎn)高達(dá)1668° C，兩種成分熔點(diǎn)差異過大，且鈦在鋁熔湯中的溶解度差。因此，當(dāng)使用鑄造法制作鋁鈦合金濺鍍靶材時(shí)，由于鋁鈦合金熔湯冷卻后會在鋁鈦合金濺鍍靶材的中心區(qū)域(即，靶材最慢被冷卻的區(qū)域)大量析出鋁鈦基金屬化合物(例如=Al3Ti)，這類析出物容易偏聚并且沉降，而形成如圖7箭頭所指的偏聚區(qū)域(即，析出物叢聚所形成的區(qū)域)。
[0008]因此，大量偏聚的析出相將使不同預(yù)定區(qū)域(即，鋁鈦合金濺鍍靶材的中心區(qū)域與近外圍區(qū)域)中析出相相對于基底相面積比的標(biāo)準(zhǔn)差很大(當(dāng)鋁鈦合金濺鍍靶材中鈦含量為3重量百分比時(shí)，析出相面積比標(biāo)準(zhǔn)差遠(yuǎn)大于6%)，使得鋁鈦合金濺鍍靶材中的析出相分布相當(dāng)不均勻，而容易濺鍍形成良品率低及且質(zhì)量差的鋁鈦合金薄膜。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0009]鑒于現(xiàn)有技術(shù)所面臨的問題，本發(fā)明的主要目的在于有效抑制鋁鈦合金濺鍍靶材中析出相的偏聚現(xiàn)象，進(jìn)而提升鋁鈦合金濺鍍靶材的組成均勻性，以此開發(fā)出一種析出相分布均勻的鋁鈦合金濺鍍靶材，有利于濺鍍形成良好薄膜特性的鋁鈦合金薄膜。
[0010]為提升鋁鈦合金薄膜的工藝良品率與薄膜穩(wěn)定性，本發(fā)明提供一種鋁鈦合金濺鍍靶材，其中該鋁鈦合金濺鍍靶材主要由鋁及鈦所組成，該鋁鈦合金濺鍍靶材包含多個(gè)相同尺寸的預(yù)定區(qū)域，每一預(yù)定區(qū)域分別由基底相及析出相組成，其中以整體鋁鈦合金濺鍍靶材中鈦的含量為X重量百分比，當(dāng)0.KX ^ 1.0時(shí)，該析出相相對于基底相的平均面積比介于X-0.1%至X+0.1%之間，且該析出相相對于基底相的面積比標(biāo)準(zhǔn)差低于0.3X%。
[0011]優(yōu)選的，當(dāng)0.1〈X < 1.0時(shí)，此鋁鈦合金濺鍍靶材中鈦含量的最大偏差值低于0.3重量百分比；更優(yōu)選的是低于0.2重量百分比。
[0012]本發(fā)明進(jìn)一步提供一種鋁鈦合金濺鍍靶材，其中該鋁鈦合金濺鍍靶材主要由鋁及鈦所組成，該鋁鈦合金濺鍍靶材包含多個(gè)相同尺寸的預(yù)定區(qū)域，每一個(gè)預(yù)定區(qū)域分別由基底相和析出相所組成，其中以整體鋁鈦合金濺鍍靶材中鈦的含量為X重量百分比，當(dāng)
1.0〈X < 2.0時(shí)，該析出相相對于基底相之平均面積比介于4X-1%至4X+1%之間，且該析出相相對于基底相的面積比標(biāo)準(zhǔn)差低于ιχ%。
[0013]優(yōu)選的，當(dāng)1.0〈X < 2.0時(shí)，此鋁鈦合金濺鍍靶材中鈦含量的最大偏差值低于0.5重量百分比；更優(yōu)選的是低于0.3重量百分比。
[0014]本發(fā)明進(jìn)一步提供一種鋁鈦合金濺鍍靶材，其中該鋁鈦合金濺鍍靶材主要由鋁和鈦所組成，該鋁鈦合金濺鍍靶材包含多個(gè)相同尺寸的預(yù)定區(qū)域，每一個(gè)預(yù)定區(qū)域分別由基底相和析出相所組成，其中以整體鋁鈦合金濺鍍靶材中鈦的含量為X重量百分比，當(dāng)
2.0〈X ^ 3.0時(shí)，此析出相相對于基底相的平均面積比介于6X-2%至6X+2%之間，且此析出相相對于基底相之面積比標(biāo)準(zhǔn)差低于2X%。
[0015]優(yōu)選的，當(dāng)2.0〈X ^ 3.0時(shí)，此鋁鈦合金濺鍍靶材中鈦含量的最大偏差值低于0.5重量百分比；更優(yōu)選的是低于0.3重量百分比。
[0016]根據(jù)本發(fā)明，各預(yù)定區(qū)域中析出相相對于基底相的面積比標(biāo)準(zhǔn)差，為將同一樣品的光學(xué)顯微鏡俯視 影像圖分割成9個(gè)相互不重復(fù)重疊且面積相等的預(yù)定區(qū)域，并使用軟件分析各預(yù)定區(qū)域中析出相相對于基底相的面積比，由統(tǒng)計(jì)算出一樣品的析出相相對于基底相面積比的標(biāo)準(zhǔn)差。其中，各預(yù)定區(qū)域的面積為3mmX2mm。
[0017]根據(jù)本發(fā)明，鈦含量的最大偏差值由同一樣品中隨機(jī)取樣5處預(yù)定位置，并以感應(yīng)偶合電漿質(zhì)譜儀分析各個(gè)預(yù)定位置的鈦含量，再將各預(yù)定位置所測得的鈦含量減去該濺鍍靶材的理論鈦含量，以得到各預(yù)定位置的偏差值，所述最大差值的絕對值即為鈦含量的最大偏差值。
[0018]優(yōu)選的，上述鋁鈦合金濺鍍靶材由上述制作方法所制得。
[0019]優(yōu)選的，上述鋁鈦合金濺鍍靶材中包含有多個(gè)鋁鈦合金晶粒，該鋁鈦合金晶粒的平均粒徑不大于100微米。
[0020]由于本發(fā)明的鋁鈦合金濺鍍靶材中，各個(gè)預(yù)定區(qū)域內(nèi)析出相相對于基底相的面積比相當(dāng)一致，故析出相相對于基底相的面積比標(biāo)準(zhǔn)差小，顯示本發(fā)明可獲得一種析出相分布相當(dāng)均勻的鋁鈦合金濺鍍靶材。
[0021]為達(dá)成上述目的，本發(fā)明另提供一種鋁鈦合金濺鍍靶材的制作方法，其包含:
[0022](A)熔煉含有鋁及鈦的原料，以獲得鋁鈦合金熔湯；
[0023](B)將該鋁鈦合金熔湯注入模具中，并且同時(shí)冷卻該模具，從而使該鋁鈦合金熔湯鑄燒形成招鈦合金鑄錠(aluminum-titanium alloyingot),其中該模具內(nèi)模最大冷卻面的面積/總?cè)莘e大于0.1cmVcm3以上；以及
[0024](C)將該鋁鈦合金鑄錠進(jìn)行熱機(jī)處理，以獲得該鋁鈦合金濺鍍靶材。[0025]根據(jù)本發(fā)明，由于模具的內(nèi)模最大冷卻面的面積/總?cè)莘e大于0.1cmVcm3以上，當(dāng)進(jìn)行步驟(B)的冷卻步驟時(shí)，可確保模具中的鋁鈦合金熔湯能夠由熱傳導(dǎo)作用急速地被冷卻，以減少鋁鈦基金屬化合物在冷卻過程中被析出的情形，進(jìn)而降低鋁鈦合金濺鍍靶材中析出相的面積；也可有效抑制析出相在冷卻過程中產(chǎn)生偏聚的現(xiàn)象，進(jìn)而提升鋁鈦合金濺鍍靶材的析出相的分布均勻性。
[0026]根據(jù)本發(fā)明，所述的“內(nèi)模最大冷卻面”是指模具可與鋁鈦合金熔湯接觸的最大部分區(qū)域，優(yōu)選的冷卻條件是此面積同時(shí)為接觸外部冷卻循環(huán)水路的部分區(qū)域。
[0027]優(yōu)選的，上述步驟⑶包括以3° C/秒以上的冷卻速率冷卻該模具。
[0028]優(yōu)選的，上述步驟⑶包括將該模具設(shè)置循環(huán)水路，以冷卻該模具。優(yōu)選的，該循環(huán)水路的溫度被控制于20° C至50° C。
[0029]優(yōu)選的，上述步驟(A)包括以900° C至1400° C的溫度熔煉含有鋁及鈦的原料。
[0030]根據(jù)本發(fā)明，含有鋁及鈦的原料可為鋁金屬與鈦金屬的組合或鋁鈦合金。
[0031]優(yōu)選的，上步驟(C)包括在200° C至600° C下進(jìn)行熱機(jī)處理。根據(jù)本發(fā)明，所述的熱機(jī)處理為退火處理及機(jī)械處理的組合，其中該機(jī)械處理包含:熱鍛造處理(hotforging process)、熱壓延處理(hotrolling process)、冷壓延處理或其組合，以提升招鈦合金濺鍍靶材的組成均勻性并且細(xì)化鋁鈦合金濺鍍靶材的晶粒組織。優(yōu)選的，該熱機(jī)處的壓縮率不小于50%。
[0032]綜上所述，為了提高鋁鈦合金薄膜的穩(wěn)定性且組成均勻性，本發(fā)明成功發(fā)展一種鋁鈦合金濺鍍靶材，其有利于濺鍍形成薄膜穩(wěn)定性高且組成均勻的鋁鈦合金薄膜。此外，本發(fā)明提供一種鋁鈦合金濺鍍靶材的制作方法，其能避免析出相發(fā)生偏聚，獲得析出相面積小、析出相分布均勻且組成均勻的鋁鈦合金濺鍍靶材。 【專利附圖】

【附圖說明】
[0033]圖1為根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例1中鋁鈦合金濺鍍靶材的光學(xué)顯微鏡影像圖。
[0034]圖2為根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例1中鋁鈦合金濺鍍靶材的金相圖。
[0035]圖3為根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例2中鋁鈦合金濺鍍靶材的光學(xué)顯微鏡影像圖。
[0036]圖4為根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例2中鋁鈦合金濺鍍靶材的金相圖。
[0037]圖5為根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例3中鋁鈦合金濺鍍靶材的光學(xué)顯微鏡影像圖。
[0038]圖6為根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例3中鋁鈦合金濺鍍靶材的金相圖。
[0039]圖7為根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)中使用熔煉鑄造法制得的鋁鈦合金母材的偏聚現(xiàn)象光學(xué)顯微鏡影像圖。
【具體實(shí)施方式】
[0040]實(shí)施例1:Α1-0.7Ti合金濺鍍靶材
[0041]將9.93千克且純度為4N(99.99%)的鋁金屬與0.07千克的鈦金屬混合，并于1000° C下進(jìn)行熔煉步驟，以獲得一種鋁鈦合金熔湯。
[0042]接著，將上述鋁鈦合金 熔湯維持于1000° C，并使其注入附有冷卻循環(huán)水路的模具中，以冷卻該模具，在此，模具內(nèi)的鋁鈦合金熔湯經(jīng)由熱傳導(dǎo)作用隨之冷卻，使鋁鈦合金熔湯凝固形成鋁鈦合金鑄錠。其中，該模具內(nèi)模的長、寬、高分別為40厘米、20厘米、4.5厘米，其模具的內(nèi)模最大冷卻面的面積/總?cè)莘e為0.22cm2/cm3,且該冷卻循環(huán)水路的冷卻水流速約為12升/分鐘。
[0043]之后，將該鋁鈦合金鑄錠置于500° C下進(jìn)行熱鍛造處理及熱壓延處理。其中，該熱機(jī)處理的壓縮率約為50%。最后，將經(jīng)過熱機(jī)處理的鋁鈦合金鑄錠再于300° C下進(jìn)行熱退火處理，即可獲得本實(shí)施例A1-0.7Τ?合金濺鍍靶材。其中，鈦含量占整體鋁鈦合金靶材為0.7重量百分比。
[0044]請參閱圖1及圖2所示,本實(shí)施例的A1-0.7Ti合金派鍍祀材中招鈦合金平均晶粒約80微米。
[0045]實(shí)施例2:Α1-1.3Τ?合金濺鍍靶材
[0046]將9.87千克且純度4N(99.99%)的鋁金屬塊與0.13千克的鈦金屬塊混合，并于1000° C下進(jìn)行熔煉步驟，以獲得鋁鈦合金熔湯。
[0047]接著，將上述鋁鈦合金熔湯維持于1000° C，并使其注入附有冷卻循環(huán)水路的模具中，以冷卻該模具，于此，模具內(nèi)的鋁鈦合金熔湯經(jīng)由熱傳導(dǎo)作用隨之冷卻，使鋁鈦合金熔湯凝固形成鋁鈦合金鑄錠。其中，該模具內(nèi)模的長、寬、高分別為40厘米、20厘米、4.5厘米，其模具內(nèi)模最大冷卻面的面積/總?cè)莘e為0.22cm2/cm3，且該冷卻循環(huán)水路的冷卻水流速約為12升/分鐘。
[0048]之后，將該鋁鈦合金鑄錠置于500° C下進(jìn)行熱鍛造處理及熱壓延處理。其中，該熱機(jī)處理的壓縮率約為50%。最后，將經(jīng)過熱機(jī)處理的鋁鈦合金鑄錠再于300° C下進(jìn)行熱退火處理，即可獲得本實(shí)施例A1-1.3Τ?合金濺鍍靶材。其中，鈦含量占整體鋁鈦合金靶材為1.3重量百分比。
[0049]請參閱圖3及圖4所示,·本實(shí)施例的A1-1.3Ti合金派鍍祀材中招鈦合金平均晶粒約80微米。
[0050]實(shí)施例3:Α1-2.3Ti合金濺鍍靶材
[0051]將9.77千克且純度4N(99.99%)的鋁金屬塊與0.23千克的鈦金屬塊混合，并于1000° C下進(jìn)行熔煉步驟，以獲得鋁鈦合金熔湯。
[0052]接著，將前述鋁鈦合金熔湯維持于1000° C，并使其注入附有冷卻循環(huán)水路的模具中，以冷卻該模具，于此，模具內(nèi)的鋁鈦合金熔湯經(jīng)由熱傳導(dǎo)作用隨之冷卻，使鋁鈦合金熔湯凝固形成鋁鈦合金鑄錠。其中，該模具內(nèi)模的長、寬、高分別為40厘米、20厘米、4.5厘米，其模具內(nèi)模最大冷卻面的面積/總?cè)莘e為0.22cm2/cm3,且該冷卻循環(huán)水路的冷卻水流速約為12升/分鐘。
[0053]之后，將該鋁鈦合金鑄錠置于500° C下進(jìn)行熱鍛造處理及熱壓延處理。其中，該熱機(jī)處理的壓縮率約為50%。最后，將經(jīng)過熱機(jī)處理的鋁鈦合金鑄錠再于300° C下進(jìn)行熱退火處理，即可獲得本實(shí)施例A1-2.3Τ?合金濺鍍靶材。其中，鈦含量占整體鋁鈦合金靶材為2.3重量百分比。
[0054]請參閱圖5及圖6所示,本實(shí)施例的Al-2.3Ti合金派鍍祀材中招鈦合金平均晶粒約80微米。
[0055]此外，請一并參考圖2、4和6所示，由本發(fā)明實(shí)施例1至3的鋁鈦合金濺鍍靶材的金相圖可觀察到其析出相呈均勻的分布情形。請一并參閱圖1、3和5所示，為本發(fā)明實(shí)施例1至3的鋁鈦合金濺鍍靶材的光學(xué)顯微鏡影像圖。實(shí)驗(yàn)結(jié)果證實(shí)，本發(fā)明的制作方法確實(shí)能夠有效抑制鋁鈦介金屬化合物于冷卻過程中在濺鍍靶材的中心區(qū)域產(chǎn)生大量偏聚的情形，進(jìn)而縮小鋁鈦合金濺鍍靶材中析出相的面積大小。
[0056]測試?yán)?br> [0057]本發(fā)明使用Image Pro Plus軟件分析本發(fā)明實(shí)施例1至3的招鈦合金派鍍革巴材的析出相分布情形。于本測試?yán)?，其先取得各?shí)施例的鋁鈦合金濺鍍靶材的光學(xué)顯微鏡俯視影像圖，試片面積約為15mmX 15mm，使用俯視影像圖觀察鋁鈦合金濺鍍靶材濺鍍面中析出相的分布情形。
[0058]接著，將各實(shí)施例的光學(xué)顯微鏡俯視影像圖分別隨機(jī)畫分成9個(gè)相互不重復(fù)重疊的等面積預(yù)定區(qū)域(各預(yù)定區(qū)域的面積約為3_X2mm),并以Image Pro Plus軟件分析各預(yù)定區(qū)域中析出相相對于基底相的面積比，再經(jīng)由數(shù)學(xué)計(jì)算算出各實(shí)施例中析出相相對于基底相的平均面積比，以及這些預(yù)定區(qū)域中析出相相對于基底相面積比的標(biāo)準(zhǔn)差。
[0059]此外，本發(fā)明進(jìn)一步通過感應(yīng)偶合電漿質(zhì)譜儀分析各實(shí)施例的鋁鈦合金濺鍍靶材中鈦含量的偏差。在本測試?yán)?，隨機(jī)取樣各實(shí)施例的鋁鈦合金濺鍍靶材中5處不同預(yù)定位置的鋁鈦試片，再分別將各個(gè)預(yù)定位置所收集得到的0.15克鋁鈦試片與含有硫酸、鹽酸及硝酸的10毫升混合溶液加以混合、溶解，并稀釋至50毫升，獲得各測試樣品。
[0060]接著，通過感應(yīng)偶合電漿質(zhì)譜儀分析，再經(jīng)由計(jì)算得到鋁鈦合金濺鍍靶材中鈦含量的最大偏差值。
[0061]本發(fā)明實(shí)施例1至3的招鈦合金派鍍祀材經(jīng)由Image Pro Plus軟件分析與感應(yīng)偶合電漿質(zhì)譜儀分析的結(jié)果如下表1所示。 [0062]表1:以Image Pro Plus軟件分析本發(fā)明實(shí)施例1至3的招鈦合金派鍍祀材中鈦含量、鈦含量的最大偏差值、析出相相對于基底相的平均面積比及預(yù)定區(qū)域中析出相相對于基底相的面積比標(biāo)準(zhǔn)差。
【權(quán)利要求】
1.一種鋁鈦合金濺鍍靶材，其中所述鋁鈦合金濺鍍靶材主要由鋁及鈦所組成，該鋁鈦合金濺鍍靶材包含多個(gè)相同尺寸的預(yù)定區(qū)域，每一預(yù)定區(qū)域分別由基底相及析出相所組成，其中以整體鋁鈦合金濺鍍靶材中鈦的含量為X重量百分比，當(dāng)0.KX ( 1.0時(shí)，該析出相相對于基底相的平均面積比介于X-0.1%至X+0.1%之間，且該析出相相對于基底相的面積比標(biāo)準(zhǔn)差低于0.3X%。
2.如權(quán)利要求1所述的鋁鈦合金濺鍍靶材，其中所述鋁鈦合金濺鍍靶材含有多個(gè)鋁鈦合金晶粒，該招鈦合金晶粒的粒徑不大于100微米。
3.—種鋁鈦合金濺鍍靶材，其中所述鋁鈦合金濺鍍靶材主要由鋁及鈦所組成，該鋁鈦合金濺鍍靶材包含多個(gè)相同尺寸的預(yù)定區(qū)域，每一預(yù)定區(qū)域分別由基底相及析出相所組成，其中以整體鋁鈦合金濺鍍靶材中鈦的含量為X重量百分比，當(dāng)1.0〈X ( 2.0時(shí)，該析出相相對于基底相的平均面積比介于4X-1%至4X+1%之間，且該析出相相對于基底相的面積比標(biāo)準(zhǔn)差低于1X%。
4.如權(quán)利要求3所述的鋁鈦合金濺鍍靶材，其中所述鋁鈦合金濺鍍靶材含有多個(gè)鋁鈦合金晶粒，該招鈦合金晶粒的粒徑不大于100微米。
5.一種鋁鈦合金濺鍍靶材，其中所述鋁鈦合金濺鍍靶材主要由鋁及鈦所組成，該鋁鈦合金濺鍍靶材包含多個(gè)相同尺寸的預(yù)定區(qū)域，每一預(yù)定區(qū)域分別由基底相及析出相所組成，其中以整體鋁鈦合金濺鍍靶材中鈦的含量為X重量百分比，當(dāng)2.0〈X ( 3.0時(shí)，該析出相相對于基底相的平均面積比介于6X-2%至6X+2%之間，且該析出相相對于基底相的面積比標(biāo)準(zhǔn)差低于2X%。
6.如權(quán)利要求5所述的鋁鈦合金濺鍍靶材，其中所述鋁鈦合金濺鍍靶材含有多個(gè)鋁鈦合金晶粒，該招鈦合金晶粒的粒徑不大于100微米。
7.—種鋁鈦合金濺鍍靶·材的制作方法，其包含: a、熔煉含有鋁及鈦的原料，以獲得鋁鈦合金熔湯； b、將所述鋁鈦合金熔湯注入模具中，并且同時(shí)冷卻該模具，以令該鋁鈦合金熔湯鑄澆形成鋁鈦合金鑄錠，其中該模具的內(nèi)模最大冷卻面的面積/總?cè)莘e大于0.1cmVcm3以上；以及 c、將所述鋁鈦合金鑄錠進(jìn)行熱機(jī)處理，以獲得所述鋁鈦合金濺鍍靶材。
8.如權(quán)利要求7所述的鋁鈦合金濺鍍靶材的制作方法，其中所述步驟b包括以3°C/秒以上的冷卻速率冷卻該模具。
9.如權(quán)利要求8所述的鋁鈦合金濺鍍靶材的制作方法，其中所述步驟b包括將該模具置于循環(huán)水路中，以冷卻該模具。
10.如權(quán)利要求7所述的鋁鈦合金濺鍍靶材的制作方法，其中所述步驟c包括于200° C至600° C下進(jìn)行熱機(jī)處理。
11.如權(quán)利要求10所述的鋁鈦合金濺鍍靶材的制作方法，其中該熱機(jī)處理為退火處理及機(jī)械處理的組合，其中該機(jī)械處理為熱鍛造處理、熱壓延處理或其組合。
【文檔編號】C23C14/14GK103849839SQ201210514750
【公開日】2014年6月11日 申請日期:2012年12月4日 優(yōu)先權(quán)日:2012年12月4日
【發(fā)明者】蔡宗閔, 劉畊甫, 李宗翰, 林隹玉, 黃資涵 申請人:光洋應(yīng)用材料科技股份有限公司