專利名稱：一種pvd超黑涂層的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及PVD真空離子鍍膜領(lǐng)域，特別涉及濺射、等離子電弧鍍膜機(jī)的改進(jìn)后形成的超黑涂層。
背景技術(shù)：
PVD是英文Physical Vapor Deposition的縮寫，中文意思是“物理氣相沉積”,是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。PVD的方法也就是經(jīng)由直接的傳質(zhì)將所需體沉積的物理材料傳遞至基體表面。PVD (物理氣相沉積)技術(shù)主要分為三類，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。相對(duì)于PVD技術(shù)的三個(gè)分類，相應(yīng)的真空鍍膜設(shè)備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)、真空濺射鍍膜機(jī)和真空離子鍍膜機(jī)。近十多年來(lái)，真空離子鍍技術(shù)的發(fā)展是最快的，它已經(jīng)成為了當(dāng)代最先進(jìn)的表面處理方法之一。通常所說(shuō)的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜；通常所說(shuō)的PVD鍍膜機(jī)，指的也就是真空離子鍍膜機(jī)。隨著人們環(huán)保意識(shí)的提高，PVD鍍膜技術(shù)越來(lái)越受到重視，其中的各種鍍膜技術(shù)都有得到廣泛的應(yīng)用。等離子電弧(俗稱電弧、多弧)沉積是指在一定的真空條件下，在靶材表面(所需要沉積的材料)產(chǎn)生弧光放電，從而引起靶材的物態(tài)變化，同時(shí)噴射出靶材原子、離子、熔融顆粒；優(yōu)點(diǎn)沉積離子的蒸發(fā)速率高、濺射的能量高；缺點(diǎn)膜層較為粗糙；在制備金屬碳化物涂層，由于靶材表面中毒，弧光不穩(wěn)，甚至滅弧。濺射沉積是指在一定的真空條件下在靶材表面產(chǎn)生輝光放電，同時(shí)產(chǎn)生高能離子或中性原子來(lái)碰撞靶材，通過(guò)動(dòng)能的傳遞導(dǎo)致某些物料從靶材表面濺射出來(lái)；優(yōu)點(diǎn)沉積的顆粒主要以原子為主，沉積的涂層較光滑；缺點(diǎn)結(jié)合牢度較電弧差。氣體離子源的應(yīng)用也越來(lái)越受到較多的關(guān)注；氣體離子源具有方向性，在其表面產(chǎn)生高密度的氣體的等離子體；可以作為離子轟擊工件清洗使用；也可以涂層沉積源來(lái)使用，例如可以用來(lái)制作DLC涂層；或者作為反應(yīng)氣體的離化源，作輔助沉積使用。本發(fā)明中的涂層顏色以LAB來(lái)定義。該顏色定義標(biāo)準(zhǔn)為CIE1976年制定。CIE LAB色空間是基于一種顏色不能同時(shí)既是藍(lán)又是黃這個(gè)理論而建立。所以，單一數(shù)值可用于描述紅/綠色及黃/藍(lán)色特徽。當(dāng)一種顏色用CIE L*a*b*時(shí)，L*表示明度值；a*表示紅/綠及b*表示黃/藍(lán)值(見(jiàn)下表)。本發(fā)明顏色使用X-Rite SP60測(cè)量。
權(quán)利要求
1.一種PVD超黑涂層，在基體上依次有如下膜層 厚度為O. 05-0. 15um的金屬膜層； 厚度為O. 05-0. 15um的磁控濺射復(fù)合層； 厚度為O. 10-0. 20um的銜接底層涂層； 厚度為O. 20-1. OOum的金屬化合物過(guò)渡層； 厚度為O. 20-0. 50um的化合面層。
2.如權(quán)利要求I所述的PVD超黑涂層，其特征在于，所述的基體為金屬材料，如鐵、鐵合金、鋁、鋁合金、鋅、鋅合金、不銹鋼或銅等材質(zhì)。
3.如權(quán)利要求I所述的PVD超黑涂層，其特征在于，所述的金屬膜層采用Ti、Cr、不銹鋼等材料中的一種或幾種。
全文摘要
本發(fā)明提供一種PVD超黑涂層，在金屬材質(zhì)的基體上依次有厚度為0.05-0.15um的金屬膜層，厚度為0.05-0.15um的磁控濺射復(fù)合層，厚度為0.10-0.20um的銜接底層涂層，厚度為0.20-1.00um的金屬化合物過(guò)渡層，厚度為0.20-0.50um的化合面層。本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于所述的PVD超黑涂層的顏色黑度深，L值可以達(dá)到26，膜層結(jié)合力高，表面光潔度高，膜層致密性高，適合大批量量產(chǎn)。
文檔編號(hào)C23C14/06GK102628156SQ20121010180
公開日2012年8月8日 申請(qǐng)日期2012年4月9日 優(yōu)先權(quán)日2012年4月9日
發(fā)明者張笑, 朱宏輝 申請(qǐng)人:上海仟納真空鍍膜科技有限公司