專利名稱：一種lcd平板顯示器濺射靶材用大尺寸鉬板的制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于濺射靶材用鉬板制備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及ー種LCD平板顯示器濺射靶材用大尺寸鉬板的制備方法。
背景技術(shù)：
厚度14mm 18mm，寬度IOOOmm 1800mm，長(zhǎng)度1300mm 2200mm的大尺寸鉬板
可用于加工4. 5代線 6代線IXD平板顯示器濺射靶材。此類鉬板技術(shù)要求較高，其中密度要求不小于10. 15g/cm3，顯微組織要求為均勻等軸晶組織，平均晶粒尺寸不超過(guò)200 μ m， 板面要求平整。常規(guī)小尺寸鉬板的軋制方法為氫氣保護(hù)加熱，直接軋制。但大尺寸鉬板所需坯料重量較大，常規(guī)氫氣爐無(wú)法進(jìn)行加熱；另一方面由于坯料重量和成品尺寸較大，按公知的軋制方法所需軋制力較大，常規(guī)鎢鉬軋機(jī)無(wú)法進(jìn)行軋制；而寬幅軋機(jī)輥道較長(zhǎng)，若直接加熱軋制，鉬坯降溫嚴(yán)重，勢(shì)必導(dǎo)致軋制開(kāi)裂。對(duì)大規(guī)格鉬坯料而言，按公知的軋制エ藝，無(wú)法保證軋制鉬板成品熱處理后得到均勻的等軸晶組織。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題在于針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供ー種LCD平板顯示器濺射靶材用大尺寸鉬板的制備方法。該方法采用涂刷抗氧化涂層和鋼包套包覆的方式，解決了加熱和軋制過(guò)程中的氧化問(wèn)題，出爐和軋制過(guò)程中坯料溫降嚴(yán)重的問(wèn)題，同時(shí)降低鉬板軋制力，保證了軋制順利進(jìn)行；軋制過(guò)程中通過(guò)控制第一火次軋制的總加工率為 50 % 60 %，并在第一火次軋制完畢后將軋件置于冷床上進(jìn)行快速冷卻，可防止熱軋開(kāi)坯后顯微組織的不均勻長(zhǎng)大和再結(jié)晶，得到變形均勻的加工組織，最終制備的鉬板具有尺寸均勻的等軸晶組織。為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是一種LCD平板顯示器濺射靶材用大尺寸鉬板的制備方法，其特征在于，該方法包括以下步驟步驟一、在常規(guī)方法壓制和燒結(jié)的尺寸為55mm 130mmX600mm SOOmmX 800mm IOOOmm的鉬板坯表面均勻涂刷抗氧化涂層；所述抗氧化涂層為玻璃粉、有機(jī)粘結(jié)劑和水按照8 10 1 8 10的質(zhì)量比混合而成的漿料；所述有機(jī)粘結(jié)劑為水
玻璃；步驟ニ、將步驟一中涂刷有抗氧化涂層的鉬板坯用厚度為IOmm 20mm的鋼包套
包覆；步驟三、將步驟ニ中包覆有鋼包套的鉬板坯加熱至1300°C 1400°C后進(jìn)行ー 火次的軋制，然后將軋制后的鉬板坯置于冷床上冷卻；所述軋制的道次加工率為15% 30%，軋制總加工率為50% 60% ；步驟四、將步驟三中冷卻后的鉬板坯加熱至900°C 1050°C，然后將加熱后的鉬板坯軋制至厚度為19mm 24mm(含鋼包套)；所述軋制的道次加工率為10% 25% ；步驟五、將步驟四中經(jīng)軋制的鉬板坯加熱至850°C 950°C后進(jìn)行校平處理，然后去除鉬板坯的鋼包套，對(duì)去除鋼包套的鉬板坯進(jìn)行切割，得到厚度為14mm 18mm，寬度為 IOOOmm 1800mm，長(zhǎng)度為1300mm 2200mm的半成品鉬板；步驟六、將步驟五中所述半成品鉬板在溫度為1100°C 1400°C的條件下進(jìn)行真空熱處理，得到厚度為14mm 18mm，寬度為IOOOmm 1800mm，長(zhǎng)度為1300mm 2200mm的 IXD平板顯示器濺射靶材用大尺寸鉬板。上述的ー種IXD平板顯示器濺射靶材用大尺寸鉬板的制備方法，步驟一中所述玻璃粉由以下重量百分比成分組成75%ニ氧化硅，20%三氧化ニ硼，2%三氧化ニ鋁，2%氧化鋅，余量為氧化鉀。上述的ー種IXD平板顯示器濺射靶材用大尺寸鉬板的制備方法，步驟一中所述抗氧化涂層的涂刷厚度為1. 5mm 2. 5mm。上述的ー種IXD平板顯示器濺射靶材用大尺寸鉬板的制備方法，步驟ニ中所述鋼包套的材質(zhì)為Q235鋼板或45#鋼板。上述的ー種IXD平板顯示器濺射靶材用大尺寸鉬板的制備方法，步驟六中所述真空熱處理的處理時(shí)間為池 4h。本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有以下優(yōu)點(diǎn)1、本發(fā)明采用涂刷抗氧化涂層和鋼包套包覆的方式，解決了加熱和軋制過(guò)程中的氧化問(wèn)題；解決了出爐和軋制過(guò)程中坯料溫降嚴(yán)重的問(wèn)題；采用包套軋制可降低鉬板軋制力，保證了軋制順利進(jìn)行。2、本發(fā)明通過(guò)控制第一火次軋制的總加工率為50% 60%，并在第一火次軋制完畢后將軋件置于冷床上進(jìn)行快速冷卻，可防止熱軋開(kāi)坯后顯微組織的不均勻長(zhǎng)大和再結(jié)晶，得到變形均勻的加工組織，最終制備的鉬板具有尺寸均勻的等軸晶組織。3、采用本發(fā)明的方法制備的IXD平板顯示器濺射靶材用大尺寸鉬板板面平整，密度不小于10. 15g/cm3，顯微組織為均勻等軸晶組織，平均晶粒尺寸不大于2001am。下面通過(guò)實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明技術(shù)方案做進(jìn)ー步的詳細(xì)說(shuō)明。
具體實(shí)施例方式實(shí)施例1步驟一、在常規(guī)方法壓制和燒結(jié)的尺寸為130mmX800mmX IOOOmm的鉬板坯表面均勻涂刷厚度約為2. 5mm的抗氧化涂層；所述抗氧化涂層為玻璃粉、水玻璃和水按照 10 1 10的質(zhì)量比混合而成的漿料；所述玻璃粉由以下重量百分比成分組成75% ニ氧化硅，20 %三氧化ニ硼，2 %三氧化ニ鋁，2 %氧化鋅，余量為氧化鉀；步驟ニ、將步驟一中涂刷有抗氧化涂層的鉬板坯用厚度為20mm的鋼包套包覆；所述鋼包套的材質(zhì)為45#鋼板；步驟三、將步驟ニ中包覆有鋼包套的鉬板坯在空氣單預(yù)熱推鋼式加熱爐中加熱至 1400°C后進(jìn)行ー火次的軋制，然后將軋制后的鉬板坯置于冷床上冷卻；所述軋制的各道次加工率分別為30%、20%、16%和15%，軋制總加工率為60% ；步驟四、將步驟三中冷卻后的鉬板坯加熱至1050°C，然后將加熱后的鉬板坯軋制至厚度為24mm ；所述軋制的各道次加工率分別為25%、20%、18%、16%和15% ；步驟五、將步驟四中經(jīng)軋制的鉬板坯加熱至850°C后進(jìn)行校平處理，然后去除鉬板坯的鋼包套，對(duì)去除鋼包套的鉬板坯進(jìn)行切割，得到厚度為18mm，寬度為1800mm，長(zhǎng)度為 2200mm的半成品鉬板；步驟六、將步驟五中所述半成品鉬板在溫度為1400°C的條件下真空熱處理4h，得到厚度為18mm，寬度為1800mm，長(zhǎng)度為2200mm的IXD平板顯示器濺射靶材用大尺寸鉬板。經(jīng)檢測(cè)，本實(shí)施例制備的IXD平板顯示器濺射靶材用大尺寸鉬板板面平整，密度為10. 17g/cm3，顯微組織為均勻等軸晶組織，平均晶粒尺寸為200 μ m。實(shí)施例2步驟一、在常規(guī)方法壓制和燒結(jié)的尺寸為100mmX 700mmX900mm的鉬板坯表面均勻涂刷厚度約為2mm的抗氧化涂層；所述抗氧化涂層為玻璃粉、水玻璃和水按照9 :1:9 的質(zhì)量比混合而成的漿料；所述玻璃粉由以下重量百分比成分組成75%ニ氧化硅，20% 三氧化ニ硼，2%三氧化ニ鋁，2%氧化鋅，余量為氧化鉀；步驟ニ、將步驟一中涂刷有抗氧化涂層的鉬板坯用厚度為15mm的鋼包套包覆；所述鋼包套的材質(zhì)為45#鋼板；步驟三、將步驟ニ中包覆有鋼包套的鉬板坯加熱至1350°C后進(jìn)行ー火次的軋制， 然后將軋制后的鉬板坯置于冷床上冷卻；所述軋制的各道次加工率分別為^%、23%和 18. 5%，軋制總加工率為55% ；步驟四、將步驟三中冷卻后的鉬板坯加熱至1000°C，然后將加熱后的鉬板坯軋制至厚度為22mm ；所述軋制的各道次加工率分別為23%、20%、17%、15%和14% ；步驟五、將步驟四中經(jīng)軋制的鉬板坯加熱至950°C后進(jìn)行校平處理，然后去除鉬板坯的鋼包套，對(duì)去除鋼包套的鉬板坯進(jìn)行切割，得到厚度為16mm，寬度為1500mm，長(zhǎng)度為 1800mm的半成品鉬板；步驟六、將步驟五中所述半成品鉬板在溫度為1300°C的條件下真空熱處理3h，得到厚度為16mm，寬度為1500mm，長(zhǎng)度為1800mm的IXD平板顯示器濺射靶材用大尺寸鉬板。經(jīng)檢測(cè)，本實(shí)施例制備的IXD平板顯示器濺射靶材用大尺寸鉬板板面平整，密度為10. 16g/cm3，顯微組織為均勻等軸晶組織，平均晶粒尺寸為150 μ m。實(shí)施例3步驟一、在常規(guī)方法壓制和燒結(jié)的尺寸為55mmX600mmX800mm的鉬板坯表面均勻涂刷厚度約為1.5mm的抗氧化涂層；所述抗氧化涂層為玻璃粉、水玻璃和水按照 8:1: 8的質(zhì)量比混合而成的漿料；所述玻璃粉由以下重量百分比成分組成75% ニ氧化硅，20 %三氧化ニ硼，2 %三氧化ニ鋁，2 %氧化鋅，余量為氧化鉀；步驟ニ、將步驟一中涂刷有抗氧化涂層的鉬板坯用厚度為IOmm的鋼包套包覆；所述鋼包套的材質(zhì)為Q235鋼板；步驟三、將步驟ニ中包覆有鋼包套的鉬板坯加熱至1300°C后進(jìn)行ー火次的軋制， 然后將軋制后的鉬板坯置于冷床上冷卻；所述軋制的各道次加工率分別為25%、21. 5%和 15%，軋制總加工率為50% ；步驟四、將步驟三中冷卻后的鉬板坯加熱至900°C，然后將加熱后的鉬板坯軋制至厚度為19mm ；所述軋制的各道次加工率分別為20^,17^,14. 5%和10% ；步驟五、將步驟四中經(jīng)軋制的鉬板坯加熱至900°C后進(jìn)行校平處理，然后去除鉬板坯的鋼包套，對(duì)去除鋼包套的鉬板坯進(jìn)行切割，得到厚度為14mm，寬度為1000mm，長(zhǎng)度為1300mm的半成品鉬板；步驟六、將步驟五中所述半成品鉬板在溫度為1100°C的條件下真空熱處理池，得到厚度為14mm，寬度為1000mm，長(zhǎng)度為1300mm的IXD平板顯示器濺射靶材用大尺寸鉬板。經(jīng)檢測(cè)，本實(shí)施例制備的IXD平板顯示器濺射靶材用大尺寸鉬板板面平整，密度為10. 15g/cm3，顯微組織為均勻等軸晶組織，平均晶粒尺寸為100 μ m。以上所述，僅是本發(fā)明的較佳實(shí)施例，并非對(duì)本發(fā)明做任何限制，凡是根據(jù)發(fā)明技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何簡(jiǎn)單修改、變更以及等效結(jié)構(gòu)變化，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案的保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.ー種IXD平板顯示器濺射靶材用大尺寸鉬板的制備方法，其特征在于，該方法包括以下步驟步驟一、在常規(guī)方法壓制和燒結(jié)的尺寸為55_ 130mmX600mm 800mmX800mm IOOOmm的鉬板坯表面均勻涂刷抗氧化涂層；所述抗氧化涂層為玻璃粉、有機(jī)粘結(jié)劑和水按照8 10 1 8 10的質(zhì)量比混合而成的漿料；所述有機(jī)粘結(jié)劑為水玻璃；步驟ニ、將步驟一中涂刷有抗氧化涂層的鉬板坯用厚度為IOmm 20mm的鋼包套包覆；步驟三、將步驟ニ中包覆有鋼包套的鉬板坯加熱至1300°C 1400°C后進(jìn)行ー火次的軋制，然后將軋制后的鉬板坯置于冷床上冷卻；所述軋制的道次加工率為15% 30%，軋制總加工率為50% 60% ；步驟四、將步驟三中冷卻后的鉬板坯加熱至900°C 1050°C，然后將加熱后的鉬板坯軋制至厚度為19mm 24mm ；所述軋制的道次加工率為10% 25% ；步驟五、將步驟四中經(jīng)軋制的鉬板坯加熱至850°C 950°C后進(jìn)行校平處理，然后去除鉬板坯的鋼包套，對(duì)去除鋼包套的鉬板坯進(jìn)行切割，得到厚度為14mm 18mm，寬度為 IOOOmm 1800mm，長(zhǎng)度為1300mm 2200mm的半成品鉬板；步驟六、將步驟五中所述半成品鉬板在溫度為1100°C 1400°c的條件下進(jìn)行真空熱處理，得到厚度為14mm 18mm，寬度為IOOOmm 1800mm，長(zhǎng)度為1300mm 2200mm的LCD 平板顯示器濺射靶材用大尺寸鉬板。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的ー種LCD平板顯示器濺射靶材用大尺寸鉬板的制備方法，其特征在干，步驟一中所述玻璃粉由以下重量百分比成分組成75%ニ氧化硅，20%三氧化ニ 硼，2 %三氧化ニ鋁，2 %氧化鋅，余量為氧化鉀。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的ー種LCD平板顯示器濺射靶材用大尺寸鉬板的制備方法，其特征在干，步驟一中所述抗氧化涂層的涂刷厚度為1. 5mm 2. 5mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的ー種LCD平板顯示器濺射靶材用大尺寸鉬板的制備方法，其特征在干，步驟ニ中所述鋼包套的材質(zhì)為Q235鋼板或45#鋼板。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的ー種LCD平板顯示器濺射靶材用大尺寸鉬板的制備方法，其特征在干，步驟六中所述真空熱處理的處理時(shí)間為池 4h。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種LCD平板顯示器濺射靶材用大尺寸鉬板的制備方法，該方法為一、在常規(guī)方法壓制和燒結(jié)的鉬板坯表面均勻涂刷抗氧化涂層；二、將涂刷有抗氧化涂層的鉬板坯用鋼包套包覆；三、對(duì)包覆有鋼包套的鉬板坯進(jìn)行一火次的軋制，然后置于冷床上冷卻；四、將冷卻后的鉬板坯軋制至厚度為19mm～24mm(含鋼包套)；五、將軋制的鉬板坯進(jìn)行校平處理，去除鋼包套，切割，得到半成品鉬板；六、將半成品鉬板進(jìn)行真空熱處理，得到LCD平板顯示器濺射靶材用大尺寸鉬板。采用本發(fā)明的方法制備的LCD平板顯示器濺射靶材用大尺寸鉬板板面平整，密度不小于10.15g/cm3，顯微組織為均勻等軸晶組織，平均晶粒尺寸不大于200μm。
文檔編號(hào)C23C14/34GK102534519SQ20121003887
公開(kāi)日2012年7月4日 申請(qǐng)日期2012年2月21日 優(yōu)先權(quán)日2012年2月21日
發(fā)明者丁旭, 侯軍濤, 呂利強(qiáng), 張清, 李明強(qiáng), 李輝, 淡新國(guó), 鄧自南, 郭磊, 郭讓民, 馬宏旺 申請(qǐng)人:西安瑞福萊鎢鉬有限公司