專利名稱：研磨機過濾裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種用于對研磨砂進行過濾的研磨機過濾裝置。
背景技術(shù)：
隨著現(xiàn)代社會的高速發(fā)展，半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展越來越來，頻率片市場需求量越來越旺盛。頻率片的生產(chǎn)工序復(fù)雜繁多，每個工序都需要進行嚴格控制。在頻率片的生產(chǎn)中，有一對頻率片進行研磨的工序。該工序主要通過設(shè)備使用研磨砂對頻率片進行研磨。在研磨過程中需要將研磨砂不斷導(dǎo)入設(shè)備，通常是使用導(dǎo)管導(dǎo)入，但研磨砂中通常存在一些較大顆粒的雜質(zhì)，使得研磨出來的頻率片表面有劃痕，降低了頻率片的質(zhì)量，不能適應(yīng)現(xiàn)代生產(chǎn)的需要。因此，如何減少研磨砂中的雜質(zhì)，降低頻率片研磨過后劃痕的發(fā)生率，成為該技術(shù)領(lǐng)域亟待解決的問題。

實用新型內(nèi)容為解決普通研磨機對頻率片進行研磨時頻率片表面劃痕率比較高的問題，本實用新型提供以下技術(shù)方案一種研磨機過濾裝置，包括一漏斗，其特征在于所述漏斗內(nèi)固定安裝有過濾網(wǎng)。更優(yōu)的，所述漏斗側(cè)面固定設(shè)置有把手，所述把手設(shè)有通孔。更優(yōu)的，所述過濾網(wǎng)的網(wǎng)孔直徑范圍為0. 5 2mm。本實用新型通過在漏斗內(nèi)部安裝有過濾網(wǎng)，將導(dǎo)入設(shè)備的研磨砂進行過濾，去除雜質(zhì)，提高研磨砂的純度。本實用新型結(jié)構(gòu)簡單實用，操作方便，過濾效果好，有效將頻率片的劃痕率從3%降低到0. 1 %，非常適合現(xiàn)代生產(chǎn)活動的需要，具有非常積極的意義。

圖1為本實用新型結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本實用新型俯視結(jié)構(gòu)示意圖。圖中標號為1-漏斗11-把手110-通孔12-漏斗導(dǎo)管2-過濾網(wǎng)
具體實施方式
以下結(jié)合附圖對本實用新型的較佳實施例進行詳細闡述，以使本實用新型的優(yōu)點和特征能更易于被本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，從而對本實用新型的保護范圍做出更為清楚明確的界定。如附圖1本實用新型結(jié)構(gòu)示意圖和附圖2本實用新型俯視結(jié)構(gòu)示意圖可以看出， 本實用新型主要包括一漏斗1，其特征在于所述漏斗內(nèi)固定安裝有過濾網(wǎng)2。其中，所述漏斗1側(cè)面固定設(shè)置有把手11，所述把手11設(shè)有通孔110。所述過濾網(wǎng)2的網(wǎng)孔直徑范圍為0. 5 2mm。使用時，將該實用新型的漏斗導(dǎo)管12與設(shè)備的進砂部分連接，設(shè)備的送砂管置于漏斗1的上部，可使用繩索或者搭扣等輔助器件將送砂管固定于漏斗1的把手11上。以上所述，僅為本實用新型的具體實施方式
，但本實用新型的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員在本實用新型所揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可不經(jīng)過創(chuàng)造性勞動想到的變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。因此，本實用新型的保護范圍應(yīng)該以權(quán)利要求書所限定的保護范圍為準。
權(quán)利要求1.一種研磨機過濾裝置，包括一漏斗(1)，其特征在于所述漏斗(1)內(nèi)固定安裝有過濾網(wǎng)(2)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨機過濾裝置，其特征在于所述漏斗(1)側(cè)面固定設(shè)置有把手(11)，所述把手(11)設(shè)有通孔(110)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨機過濾裝置，其特征在于所述過濾網(wǎng)(2)的網(wǎng)孔直徑范圍為0. 5 2mm。
專利摘要本實用新型提供了一種研磨機過濾裝置，包括一漏斗，其特征在于所述漏斗內(nèi)固定安裝有過濾網(wǎng)。漏斗側(cè)面固定設(shè)置有把手，把手設(shè)有通孔。過濾網(wǎng)的網(wǎng)孔直徑范圍為0.5～2mm。本實用新型通過在漏斗內(nèi)部安裝有過濾網(wǎng)，將導(dǎo)入設(shè)備的研磨砂進行過濾，去除雜質(zhì)，提高研磨砂的純度。本實用新型結(jié)構(gòu)簡單實用，操作方便，過濾效果好，有效將頻率片的劃痕率從3％降低到0.1％，非常適合現(xiàn)代生產(chǎn)活動的需要，具有非常積極的意義。
文檔編號B24B37/00GK202053153SQ20102069343
公開日2011年11月30日 申請日期2010年12月31日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月31日
發(fā)明者任劍鋒 申請人:蘇州普銳晶科技有限公司