專利名稱：磁靶及具有該磁靶的磁控濺射設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及磁控濺射技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種磁靶及具有 該磁靶的磁控濺射設(shè) 備。
背景技術(shù)：
在磁控濺射過(guò)程中，為了得到較高的靶材原子沉積速率需要較高的起輝氣體電離 度，而為了得到較高的起輝氣體電離度就必須保證電子與起輝氣體分子有足夠大的碰撞 幾率，因此磁控濺射設(shè)備中采用附著磁靶來(lái)控制電子的運(yùn)動(dòng)軌跡，使其運(yùn)動(dòng)軌跡呈螺線形 (如圖1所示)。其中，電子在磁場(chǎng)中運(yùn)動(dòng)時(shí)，由于電子的運(yùn)動(dòng)速度與磁場(chǎng)方向存在一定夾角，電子 受到洛侖茲力的作用，呈圓周運(yùn)動(dòng)；又由于電場(chǎng)的作用，使得電子在電場(chǎng)線反方向上具有加 速度，因此電子在磁場(chǎng)和電場(chǎng)的共同作用下螺旋前進(jìn)，延長(zhǎng)了運(yùn)動(dòng)路徑，同時(shí)提高了電子與 起輝氣體分子的碰撞幾率。目前的磁靶大多采用固定的條形永磁鐵來(lái)為濺射提供磁場(chǎng)，具體如圖2和圖3所 示，所述磁靶中的多個(gè)條形永磁鐵并排固定在固定板3上，所述條形永磁鐵包括間插排布 的內(nèi)部N極、外圍S極的條形永磁鐵1和內(nèi)部S極、外圍N極的條形永磁鐵2。由于固定磁 靶中條形永磁鐵本身磁場(chǎng)分布的特點(diǎn)，不能在磁控濺射區(qū)域產(chǎn)生平行于靶材的磁感應(yīng)強(qiáng)度 均勻的磁場(chǎng)；位于這樣的非均勻磁場(chǎng)中不同位置的電子受到洛侖茲力的影響也不同在磁 感應(yīng)強(qiáng)度較大的地方，電子做圓周運(yùn)動(dòng)的周期較小，因此會(huì)呈現(xiàn)出更為明顯的螺旋運(yùn)動(dòng)，此 處的電子與起輝氣體分子碰撞使起輝氣體分子電離的幾率也就比較大；因此，如圖4所示， 磁感應(yīng)強(qiáng)度較大區(qū)域?qū)?yīng)的靶材受到起輝氣體離子轟擊的幾率比其它部分的靶材受到起 輝氣體離子轟擊的幾率要大，從而導(dǎo)致靶材區(qū)域性消耗嚴(yán)重，降低靶材壽命。由于磁鐵做勻速運(yùn)動(dòng)的時(shí)候，其運(yùn)動(dòng)軌跡所覆蓋的區(qū)域內(nèi)單位時(shí)間里所產(chǎn)生的磁 感應(yīng)強(qiáng)度基本相同；因此基于這一原理，現(xiàn)有技術(shù)中存在多種通過(guò)運(yùn)動(dòng)磁靶來(lái)提高磁感應(yīng) 強(qiáng)度均勻性，從而解決磁控濺射設(shè)備中靶材區(qū)域性消耗嚴(yán)重問題的方案，其中一種改進(jìn)方 案是如圖5和圖6所示，將多個(gè)內(nèi)部N極、外圍S極的條形永磁鐵1和多個(gè)內(nèi)部S極、 外圍N極的條形永磁鐵2間插并排固定到兩個(gè)與所述永磁鐵垂直的條形固定板3上，使所 述固定板3在平行于靶材的平面上做往復(fù)運(yùn)動(dòng)，從而改善磁控濺射區(qū)域中磁感應(yīng)強(qiáng)度的均 勻性；但是，由于在磁靶運(yùn)動(dòng)的過(guò)程中，磁靶運(yùn)動(dòng)速率會(huì)不斷變化，其在運(yùn)動(dòng)路徑的中間部 分速率最大、邊緣部分速率最小，因此只能夠稍微改善靶材中央?yún)^(qū)域的磁感應(yīng)強(qiáng)度均勻性， 對(duì)靶材邊緣部分的磁感應(yīng)強(qiáng)度均勻性改善卻非常有限。因此，通過(guò)實(shí)施該改進(jìn)方案，也只能 改善靶材中部的區(qū)域性消耗嚴(yán)重的問題，而靶材邊緣部分的區(qū)域性消耗還是很嚴(yán)重。相對(duì)于上述改進(jìn)方案，還存在另外一種更優(yōu)的方案來(lái)改善靶材區(qū)域性消耗嚴(yán)重的 問題，具體如下如圖7和圖8所示，將多個(gè)內(nèi)部N極、外圍S極的條形永磁鐵1和多個(gè)內(nèi)部S極、外圍N極的條形永磁鐵2間插并排固定到勻速轉(zhuǎn)動(dòng)的履帶4上，使條形永磁鐵平行于靶材 平面做周期性運(yùn)動(dòng)，從而在磁控濺射區(qū)域內(nèi)形成磁感應(yīng)強(qiáng)度比較均勻的磁場(chǎng)。該方案不僅 改善了靶材中央?yún)^(qū)域的磁感應(yīng)強(qiáng)度均勻性，而且可以改善靶材邊緣部分的磁感應(yīng)強(qiáng)度均勻 性；但是，該方案對(duì)磁場(chǎng)均勻度的改善主要體現(xiàn)在靶材運(yùn)動(dòng)的方向上，對(duì)于垂直于運(yùn)動(dòng)方向 上的磁場(chǎng)均勻度基本上沒有改進(jìn)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的實(shí)施例提供一種磁靶及具有該磁靶的磁控濺射設(shè)備，能夠改善靶材區(qū)域 性消耗嚴(yán)重的問題。為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案一種磁靶，包括固定板和磁鐵，其中，所述固定板的板面上樞接有繞樞接軸轉(zhuǎn)動(dòng)的 連桿，所述樞接軸排成陣列，且每個(gè)連桿的自由端連接有磁鐵；所述磁鐵包括間插排布的外 圍S極磁鐵和外圍N極磁鐵。一種磁控濺射設(shè)備，包括靶材、背板以及磁靶，所述背板的一側(cè)固設(shè)有靶材，所述 背板的另一側(cè)設(shè)有磁靶，且所述磁靶包括固定板和磁鐵；其中，所述磁靶的固定板的板面上 樞接有繞樞接軸轉(zhuǎn)動(dòng)的連桿，所述樞接軸排成陣列，且每個(gè)連桿的自由端連接有磁鐵；所述 磁鐵包括間插排布的外圍S極磁鐵和外圍N極磁鐵。本發(fā)明實(shí)施例提供的磁靶及具有該磁靶的磁控濺射設(shè)備，通過(guò)設(shè)置可繞固定點(diǎn)勻 速率轉(zhuǎn)動(dòng)的磁鐵來(lái)為磁控濺射區(qū)域提供磁場(chǎng)，使每個(gè)磁鐵轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)所覆蓋的區(qū)域在單位時(shí)間 內(nèi)的平均磁感應(yīng)強(qiáng)度保持不變，這樣在磁控濺射區(qū)域可以形成磁感應(yīng)強(qiáng)度相對(duì)均勻的磁 場(chǎng)；而且，本發(fā)明實(shí)施例提供的磁靶中的磁鐵做勻速圓周運(yùn)動(dòng)，使得平行于靶材的平面中相 互垂直的兩個(gè)方向上磁感應(yīng)強(qiáng)度均勻度都能得到改善。相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明實(shí)施例提 供的磁靶及具有該磁靶的磁控濺射設(shè)備，可以明顯改善磁控濺射設(shè)備中靶材區(qū)域性消耗嚴(yán) 重的問題。


圖1為磁控濺射設(shè)備中電子運(yùn)動(dòng)軌跡示意圖；圖2為現(xiàn)有技術(shù)中固定磁靶結(jié)構(gòu)的平面圖；圖3為圖2所示磁靶結(jié)構(gòu)沿A-A線的剖視圖；圖4為現(xiàn)有磁控濺射設(shè)備中靶材區(qū)域性消耗的示意圖；圖5為現(xiàn)有技術(shù)中可往復(fù)運(yùn)動(dòng)的磁靶結(jié)構(gòu)的平面圖；圖6為圖5所示磁靶結(jié)構(gòu)沿B-B線的剖視圖；圖7為現(xiàn)有技術(shù)中履帶式磁靶結(jié)構(gòu)的平面圖；圖8為圖7所示磁靶結(jié)構(gòu)沿C-C線的剖視圖；圖9為本發(fā)明實(shí)施例中的磁靶結(jié)構(gòu)的局部平面圖；圖10為本發(fā)明實(shí)施例中磁鐵陣列的示意圖；圖11為本發(fā)明實(shí)施例中磁控濺射設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；附圖標(biāo)記1-內(nèi)部N極、外圍S極的條形永磁鐵；2-內(nèi)部S極、外圍N極的條形永 磁鐵；3-固定板；4-履帶；5-固定板；6-連桿；7-圓形磁鐵；71-外圍S極磁鐵；72-外圍N極磁鐵；8-樞接軸；9-靶材；10-背板；11-磁靶；12-驅(qū)動(dòng)裝置。
具體實(shí)施例方式為了能夠更好地改善磁控濺射設(shè)備中靶材區(qū)域性消耗嚴(yán)重的問題，本發(fā)明的實(shí)施 例提供一種磁靶及具有該磁靶的磁控濺射設(shè)備。下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明實(shí)施例提供的磁靶 及具有該磁靶的磁控濺射設(shè)備進(jìn)行詳細(xì)描述。實(shí)施例一圖9所示為本發(fā)明實(shí)施例提供的磁控濺射設(shè)備中磁靶結(jié)構(gòu)的局部示意圖。本發(fā)明 實(shí)施例提供的磁控濺射設(shè)備的磁靶，包括固定板5、連桿6以及磁鐵7 ；在所述固定板5的板 面上樞接有繞樞接軸8轉(zhuǎn)動(dòng)的連桿6，所述樞接軸8在固定板5的板面上排成陣列，且每個(gè) 連桿6的自由端連接有磁鐵；所述磁鐵包括間插排布的中心N極、外圍S極的磁鐵(以下簡(jiǎn) 稱外圍S極磁鐵)和中心S極、外圍N極的磁鐵(以下簡(jiǎn)稱外圍N極磁鐵)。其中，所述磁鐵7優(yōu)選為圓形磁鐵；這樣，上述外圍S極磁鐵就是中心N極、外圍S 極的圓形磁鐵，上述外圍N極磁鐵就是中心S極、外圍N極的圓形磁鐵。而且，所述連桿6與所述圓形磁鐵7之間的連接方式可以是直接焊接，也可以是通 過(guò)樞接軸8進(jìn)行樞接。由于本發(fā)明實(shí)施例中所用的磁鐵為圓形磁鐵，因此這里只要將圓形 磁鐵7焊接到所述連桿6上即可。由于所述樞接軸8在固定板5上呈陣列形式排布，那么在連桿6的自由端上連接 的圓形磁鐵7也就形成了一個(gè)如圖10所示的磁鐵陣列，在該磁鐵陣列的每一行中至少包 括一個(gè)外圍S極磁鐵71和一個(gè)外圍N極磁鐵72 ；同樣，在該磁鐵陣列的每一列中至少包 括一個(gè)外圍S極磁鐵71和一個(gè)外圍N極磁鐵72。為了能夠?yàn)榇趴貫R射設(shè)備的磁控濺射區(qū)域提供磁感應(yīng)強(qiáng)度更均勻的磁場(chǎng)，就需要 使本發(fā)明實(shí)施例提供的磁靶中每個(gè)圓形磁鐵7繞一固定點(diǎn)做勻速圓周運(yùn)動(dòng)，所述固定點(diǎn)就 是所述連桿6與固定板5進(jìn)行連接的樞接軸8所在的位置。這樣可以使每個(gè)磁鐵在其轉(zhuǎn)動(dòng) 所覆蓋的區(qū)域內(nèi)單位時(shí)間里所產(chǎn)生磁場(chǎng)的磁感應(yīng)強(qiáng)度基本相同，從而在磁控濺射區(qū)域形成 磁感應(yīng)強(qiáng)度相對(duì)均勻的磁場(chǎng)。其中，所有圓形磁鐵對(duì)應(yīng)的連桿的初始位置都是一樣的，從而保證在勻速轉(zhuǎn)動(dòng)的 過(guò)程中所有圓形磁鐵對(duì)應(yīng)的連桿能夠始終保持同步。在本發(fā)明實(shí)施例中，固定板5的尺寸、圓形磁鐵7的半徑、連桿6的長(zhǎng)度以及每?jī)?個(gè)圓形磁鐵的間距都需要根據(jù)靶材尺寸以及靶材材質(zhì)進(jìn)行綜合考慮，不過(guò)所有參數(shù)一定要 保證在磁靶的圓形磁鐵做勻速圓周運(yùn)動(dòng)的過(guò)程中靶材能夠始終位于所述磁靶提供的磁場(chǎng) 范圍內(nèi)。本發(fā)明實(shí)施例提供的磁靶，通過(guò)控制圓形磁鐵繞一個(gè)固定點(diǎn)做勻速圓周運(yùn)動(dòng)，運(yùn) 動(dòng)過(guò)程中同一個(gè)圓形磁鐵上各點(diǎn)的速率保持不變，使得每個(gè)圓形磁鐵在其轉(zhuǎn)動(dòng)所覆蓋的區(qū) 域內(nèi)單位時(shí)間里所產(chǎn)生的磁感應(yīng)強(qiáng)度基本相同，從而可以為磁控濺射區(qū)域提供更為均勻的 磁場(chǎng)；而且，本發(fā)明實(shí)施例提供的磁靶中的磁鐵做勻速圓周運(yùn)動(dòng)，使得平行于靶材的平面中 相互垂直的兩個(gè)方向上磁感應(yīng)強(qiáng)度均勻度都能得到改善。實(shí)施例二 本發(fā)明實(shí)施例提供的磁靶，在實(shí)施例一提供的磁靶的基礎(chǔ)上，進(jìn)一步以圓形電磁鐵來(lái)代替?zhèn)鹘y(tǒng)磁靶中所使用的永磁鐵，且所述圓形電磁鐵包括間插排布的中心N極、外圍S 極的圓形電磁鐵(以下簡(jiǎn)稱外圍S極電磁鐵)和中心S極、外圍N極的圓形電磁鐵(以下 簡(jiǎn)稱外圍N極電磁鐵)。所述圓形電磁鐵焊接在連桿6的自由端；由于所述樞接軸8在固定板5上呈陣列 形式排布，那么在連桿6的自由端上連接的圓形電磁鐵也就形成了一個(gè)電磁鐵陣列，在該 電磁鐵陣列的每一行中至少包括一個(gè)外圍S極電磁鐵和一個(gè)外圍N極電磁鐵；同樣，在該 電磁鐵陣列的每一列中至少包括一個(gè)外圍S極電磁鐵和一個(gè)外圍N極電磁鐵。在上述電磁鐵陣列中，所有圓形電磁鐵的控制線分別由獨(dú)立電源控制；這樣可以 方便地對(duì)每個(gè)圓形電磁鐵單獨(dú)進(jìn)行控制，比如調(diào)節(jié)其中某一個(gè)圓形電磁鐵的電流，從而可 以調(diào)節(jié)靶材上某個(gè)區(qū)域?qū)?yīng)的磁感應(yīng)強(qiáng)度的大小。在本發(fā)明實(shí)施例中，固定板的尺寸、圓形電磁鐵的半徑、連桿的長(zhǎng)度、每?jī)蓚€(gè)圓形 電磁鐵的間距以及圓形電磁鐵線圈的初始電流大小都需要根據(jù)靶材尺寸以及靶材材質(zhì)進(jìn) 行綜合考慮，不過(guò)所有參數(shù)一定要保證在磁靶的圓形電磁鐵做勻速圓周運(yùn)動(dòng)的過(guò)程中靶材 能夠始終位于所述磁靶提供的磁場(chǎng)范圍內(nèi)。本發(fā)明實(shí)施例提供的磁靶，利用圓形電磁鐵來(lái)為磁控濺射區(qū)域提供磁場(chǎng)，通過(guò)控 制圓形電磁鐵繞一個(gè)固定點(diǎn)做勻速圓周運(yùn)動(dòng)，運(yùn)動(dòng)過(guò)程中同一個(gè)圓形電磁鐵上各點(diǎn)的速率 保持不變，使得每個(gè)圓形電磁鐵在其轉(zhuǎn)動(dòng)所覆蓋的區(qū)域內(nèi)單位時(shí)間里所產(chǎn)生的磁感應(yīng)強(qiáng)度 基本相同，從而可以為磁控濺射區(qū)域提供更為均勻的磁場(chǎng)；在此基礎(chǔ)上，本發(fā)明實(shí)施例提供 的磁靶，還可以通過(guò)調(diào)節(jié)某個(gè)圓形電磁鐵的線圈電流來(lái)控制該圓形電磁鐵產(chǎn)生的磁感應(yīng)強(qiáng) 度，這樣不僅能更好地調(diào)節(jié)磁控濺射區(qū)域的磁場(chǎng)分布，使其更加趨向于磁感應(yīng)強(qiáng)度均勻的 磁場(chǎng)，達(dá)到靶材均勻消耗，提高靶材使用壽命的效果，而且能夠根據(jù)當(dāng)前沉積膜層的均勻度 來(lái)調(diào)節(jié)某個(gè)區(qū)域內(nèi)的圓形電磁鐵的線圈電流，從而消除由濺射腔內(nèi)部靶材與玻璃基板之間 距離不均或?yàn)R射腔內(nèi)起輝氣體分布不均等引起的膜層均勻性的差異，進(jìn)而達(dá)到提高產(chǎn)品性 能的效果。實(shí)施例三本發(fā)明實(shí)施例還提供一種具有上述磁靶的磁控濺射設(shè)備，如圖11所示，包括靶 材9、背板10以及磁靶11，背板10的一側(cè)固設(shè)有靶材9，另一側(cè)設(shè)有磁靶11 ；現(xiàn)結(jié)合圖9 和圖10，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例提供的磁控濺射設(shè)備的結(jié)構(gòu)做進(jìn)一步詳述在磁靶11的固定板5 的板面上樞接有繞樞接軸8轉(zhuǎn)動(dòng)的連桿6，所述樞接軸8在固定板5的板面上排成陣列，且 每個(gè)連桿6的自由端連接有磁鐵7 ；所述磁鐵7包括間插排布的中心N極、外圍S極的磁鐵 71 (以下簡(jiǎn)稱外圍S極磁鐵)和中心S極、外圍N極的磁鐵72 (以下簡(jiǎn)稱外圍N極磁鐵)。其中，所述磁鐵7優(yōu)選為圓形磁鐵；這樣，上述外圍S極磁鐵71就是中心N極、夕卜 圍S極的圓形磁鐵，上述外圍N極磁鐵72就是中心S極、外圍N極的圓形磁鐵。而且，所述連桿6與所述圓形磁鐵7之間的連接方式可以是直接焊接，也可以是通 過(guò)樞接軸進(jìn)行樞接。由于本發(fā)明實(shí)施例中所用的磁鐵為圓形磁鐵，因此這里只要將圓形磁 鐵焊接到所述連桿上即可。由于所述樞接軸8在固定板5上呈陣列形式排布，那么在連桿6的自由端上連接 的圓形磁鐵7也就形成了一個(gè)磁鐵陣列，在該磁鐵陣列的每一行中至少包括一個(gè)外圍S極 磁鐵71和一個(gè)外圍N極磁鐵72 ；同樣，在該磁鐵陣列的每一列中至少包括一個(gè)外圍S極磁鐵71和一個(gè)外圍N極磁鐵72。為了能夠?yàn)榇趴貫R射設(shè)備的磁控濺射區(qū)域提供磁感應(yīng)強(qiáng)度更均勻的磁場(chǎng)，就需要 本發(fā)明實(shí)施例提供的磁控濺射設(shè)備控制磁靶中每個(gè)圓形磁鐵繞一固定點(diǎn)做勻速圓周運(yùn)動(dòng)， 所述固定點(diǎn)就是所述磁靶中的連桿與固定板進(jìn)行連接的樞接軸8所在的位置。這樣，每個(gè) 磁鐵在其轉(zhuǎn)動(dòng)所覆蓋的區(qū)域內(nèi)單位時(shí)間里所產(chǎn)生磁場(chǎng)的磁感應(yīng)強(qiáng)度基本相同，從而在磁控 濺射區(qū)域形成磁感應(yīng)強(qiáng)度相對(duì)均勻的磁場(chǎng)。此外，本發(fā)明實(shí)施例提供的磁控濺射設(shè)備中所有連桿的初始位置都是一樣的；而 且，本發(fā)明實(shí)施例提供的磁控濺射設(shè)備還包括一個(gè)驅(qū)動(dòng)裝置12，該驅(qū)動(dòng)裝置12用于控制所 有的連桿的轉(zhuǎn)動(dòng)方向及轉(zhuǎn)動(dòng)速率，使其在轉(zhuǎn)動(dòng)的時(shí)候始終保持同步。本發(fā)明實(shí)施例提供的磁控濺射設(shè)備，通過(guò)控制其磁靶中的圓形磁鐵繞一個(gè)固定點(diǎn) 做勻速圓周運(yùn)動(dòng)，運(yùn)動(dòng)過(guò)程中同一個(gè)圓形磁鐵上各點(diǎn)的速率保持不變，使得每個(gè)圓形磁鐵 在其轉(zhuǎn)動(dòng)所覆蓋的區(qū)域內(nèi)單位時(shí)間里所產(chǎn)生的磁感應(yīng)強(qiáng)度基本相同，從而為磁控濺射區(qū)域 提供更為均勻的磁場(chǎng)；而且，本發(fā)明實(shí)施例提供的磁控濺射設(shè)備的磁靶中的磁鐵做勻速圓 周運(yùn)動(dòng)，使得平行于靶材的平面中相互垂直的兩個(gè)方向上磁感應(yīng)強(qiáng)度均勻度都能得到改善。實(shí)施例四本發(fā)明實(shí)施例提供的磁控濺射設(shè)備，在實(shí)施例三提供的磁控濺射設(shè)備的基礎(chǔ)上， 進(jìn)一步以圓形電磁鐵代替?zhèn)鹘y(tǒng)磁控濺射設(shè)備中所使用的永磁鐵來(lái)提供磁場(chǎng)，且所述圓形電 磁鐵包括間插排布的外圍S極電磁鐵和外圍N極電磁鐵。本發(fā)明實(shí)施例提供的磁控濺射設(shè)備中，其磁靶中的圓形電磁鐵焊接在連桿6的自 由端；由于所述樞接軸8在磁靶的固定板5上呈陣列形式排布，那么在連桿6的自由端上連 接的圓形電磁鐵也就形成了一個(gè)電磁鐵陣列，在該電磁鐵陣列的每一行中至少包括一個(gè) 外圍S極電磁鐵和一個(gè)外圍N極電磁鐵；同樣，在該電磁鐵陣列的每一列中至少包括一個(gè) 外圍S極電磁鐵和一個(gè)外圍N極電磁鐵。在上述電磁鐵陣列中，所有圓形電磁鐵的控制線分別連接到獨(dú)立的電源輸出端， 這樣可以方便地對(duì)每個(gè)圓形電磁鐵單獨(dú)進(jìn)行控制，比如調(diào)節(jié)其中某一個(gè)圓形電磁鐵的電 流，從而可以調(diào)節(jié)靶材上某個(gè)區(qū)域?qū)?yīng)的磁感應(yīng)強(qiáng)度的大小。本發(fā)明實(shí)施例提供的磁控濺射設(shè)備，其磁靶利用圓形電磁鐵來(lái)為磁控濺射區(qū)域提 供磁場(chǎng)，通過(guò)控制圓形電磁鐵繞一個(gè)固定點(diǎn)做勻速圓周運(yùn)動(dòng)，運(yùn)動(dòng)過(guò)程中同一個(gè)圓形電磁 鐵上各點(diǎn)的速率保持不變，使得每個(gè)圓形電磁鐵在其轉(zhuǎn)動(dòng)所覆蓋的區(qū)域內(nèi)單位時(shí)間里所產(chǎn) 生的磁感應(yīng)強(qiáng)度基本相同，從而可以為磁控濺射區(qū)域提供更為均勻的磁場(chǎng)；在此基礎(chǔ)上，本 發(fā)明實(shí)施例提供的磁控濺射設(shè)備，還可以通過(guò)調(diào)節(jié)磁靶中某個(gè)圓形電磁鐵的線圈電流來(lái)控 制該圓形電磁鐵產(chǎn)生的磁感應(yīng)強(qiáng)度，這樣不僅能更好地調(diào)節(jié)磁控濺射區(qū)域的磁場(chǎng)分布，使 其更加趨向于磁感應(yīng)強(qiáng)度均勻的磁場(chǎng)，達(dá)到靶材均勻消耗，提高靶材使用壽命的效果，而且 能夠根據(jù)當(dāng)前沉積膜層的均勻度來(lái)調(diào)節(jié)磁靶中某個(gè)區(qū)域內(nèi)的圓形電磁鐵的線圈電流，從而 消除由濺射腔內(nèi)部靶材與玻璃基板之間距離不均或?yàn)R射腔內(nèi)起輝氣體分布不均等引起的 膜層均勻性的差異，進(jìn)而達(dá)到提高產(chǎn)品性能的效果。以上所述，僅為本發(fā)明的具體實(shí)施方式
，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何 熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到的變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)所述以權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
一種磁靶，包括固定板和磁鐵，其特征在于，所述固定板的板面上樞接有繞樞接軸轉(zhuǎn)動(dòng)的連桿，所述樞接軸排成陣列，且每個(gè)連桿的自由端連接有磁鐵；所述磁鐵包括間插排布的外圍S極磁鐵和外圍N極磁鐵。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁靶，其特征在于，所述磁鐵為圓形磁鐵，所述外圍S極磁鐵 為中心N極、外圍S極的圓形磁鐵，所述外圍N極磁鐵為中心S極、外圍N極的圓形磁鐵。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的磁靶，其特征在于，所述磁鐵焊接到連桿的自由端。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁靶，其特征在于，所述連桿排成至少兩行、至少兩列的陣列。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任意一項(xiàng)所述的磁靶，其特征在于，所述磁鐵為電磁鐵。
6.一種磁控濺射設(shè)備，包括靶材、背板以及磁靶，所述背板的一側(cè)固設(shè)有靶材，所述背 板的另一側(cè)設(shè)有磁靶，且所述磁靶包括固定板和磁鐵；其特征在于，所述磁靶的固定板的板 面上樞接有繞樞接軸轉(zhuǎn)動(dòng)的連桿，所述樞接軸排成陣列，且每個(gè)連桿的自由端連接有磁鐵； 所述磁鐵包括間插排布的外圍S極磁鐵和外圍N極磁鐵。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的磁控濺射設(shè)備，其特征在于，所述磁鐵為圓形磁鐵，所述外圍 S極磁鐵為中心N極、外圍S極的圓形磁鐵，所述外圍N極磁鐵為中心S極、外圍N極的圓形 磁鐵。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的磁控濺射設(shè)備，其特征在于，所述磁鐵焊接到連桿的自由端。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的磁控濺射設(shè)備，其特征在于，所述連桿排成至少兩行、至少兩 列的陣列。
10.根據(jù)權(quán)利要求6至9中任意一項(xiàng)所述的磁控濺射設(shè)備，其特征在于，所述磁鐵為電磁鐵。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的磁控濺射設(shè)備，其特征在于，所有電磁鐵的控制線分別連 接到獨(dú)立的電源輸出端。
12.根據(jù)權(quán)利要求6所述的磁控濺射設(shè)備，其特征在于，還包括驅(qū)動(dòng)裝置； 所述驅(qū)動(dòng)裝置控制所有的連桿在轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)始終保持同步。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種磁靶及具有該磁靶的磁控濺射設(shè)備，涉及磁控濺射技術(shù)領(lǐng)域，用以改善靶材區(qū)域性消耗嚴(yán)重的問題。本發(fā)明實(shí)施例提供的磁靶，包括固定板和磁鐵，而且所述固定板的板面上樞接有繞樞接軸轉(zhuǎn)動(dòng)的連桿，所述樞接軸排成陣列，且每個(gè)連桿的自由端連接有磁鐵；所述磁鐵包括間插排布的外圍S極磁鐵和外圍N極磁鐵。本發(fā)明實(shí)施例提供的磁靶及具有該磁靶的磁控濺射設(shè)備適用于改善磁控濺射設(shè)備中靶材區(qū)域性消耗嚴(yán)重的問題。
文檔編號(hào)C23C14/35GK101805889SQ20091007807
公開日2010年8月18日 申請(qǐng)日期2009年2月13日 優(yōu)先權(quán)日2009年2月13日
發(fā)明者張文余, 趙鑫 申請(qǐng)人:北京京東方光電科技有限公司