專利名稱：液滴噴射頭、其制造方法以及液滴噴射裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及通過例如噴墨記錄法等噴射液滴來進行圖像記錄的液滴噴射頭，以及制造所述液滴噴射頭的方法和配備有所述液滴噴射頭的液滴噴射裝置。
背景技術：
通常，作為通過從多個噴嘴噴出液滴而在諸如紙張等記錄介質上進行印刷的液滴噴射裝置，噴墨記錄裝置是公知的。這些噴墨記錄裝置由于具有例如體積小、廉價以及安靜等多種優(yōu)點，已在市場上被廣泛地銷售。特別是，通過使用壓電元件來改變壓力室的壓力以噴射油墨液滴的壓電噴墨型記錄裝置或通過熱能的作用來使油墨膨脹以噴射油墨液滴的熱噴墨型記錄裝置，都具有提供高速印刷和高解像度等眾多優(yōu)點。
在上述噴墨型記錄裝置之中，在噴墨記錄頭中，出現(xiàn)一些問題，例如，當將油墨液滴從噴嘴噴出時，油墨液滴附著在噴嘴周圍，或由于油墨從噴嘴溢出的上溢(overshoot)現(xiàn)象使油墨泄漏。因此，會發(fā)生油墨噴出方向的傾斜或者油墨的液滴直徑或速度的波動，由此導致噴墨記錄頭的印刷性能顯著地降低。鑒于這種情況，用疏水膜涂布噴嘴表面，以便防止油墨液滴附著到噴嘴周圍。
在已經公開的一種結構中，在噴嘴板上形成類金剛石碳膜，且進一步在其上形成氟化類金剛石碳膜(日本專利號2,983,679)。然而，由于氟化類金剛石碳膜耐刮擦性較弱，當為防止油墨液滴附著到噴嘴周邊而用刮板在噴射孔周圍進行掃刮(wiping)時，會出現(xiàn)例如氟化類金剛石碳膜剝離或磨損等問題。
此外，粘合劑用于接合噴嘴板和安裝在噴嘴板上的金屬板。在將例如聚酰亞胺等聚合物樹脂用于噴嘴板時，由于該粘合劑的耐油墨性低，該粘合劑的粘合強度會因油墨浸透到粘合劑中而降低，由此會影響整個噴頭的粘合性。
為了克服上述問題，已經有人提出一種噴墨記錄頭，該噴墨記錄頭在噴嘴板上依次層疊了類金剛石碳膜和疏水膜(日本特開2004-284121號公報)。在所提出的方案中，所提供的噴墨記錄頭在疏水性、耐刮擦性、粘合性和耐油墨性等性能方面表現(xiàn)優(yōu)異。
從噴嘴加工性或噴射穩(wěn)定性的觀點出發(fā)，將上述疏水膜的厚度制作得很薄。另一方面，縮小疏水膜的厚度會引起耐刮擦性(耐磨損性)不夠等問題。類似的問題不僅出現(xiàn)在噴墨記錄頭中，也出現(xiàn)在一般的液滴噴射頭中。

發(fā)明內容
鑒于上述情況，本發(fā)明提供了一種在噴嘴表面上設置有疏水膜的液滴噴射頭和所述液滴噴射頭的制造方法，所述液滴噴射頭在耐刮擦性以及噴嘴加工性和噴射穩(wěn)定性方面表現(xiàn)優(yōu)異。本發(fā)明還提供了配備有該液滴噴射頭的液滴噴射裝置。
根據本發(fā)明的第一方面，提供了一種液滴噴射頭，所述液滴噴射頭配備有液體噴射能量驅動裝置以從噴嘴噴出液體，所述液滴噴射頭包括噴嘴板，該噴嘴板具有用于噴射液滴的所述噴嘴；設置在該噴嘴板上的四面體非晶碳膜；和設置在該四面體非晶碳膜上的疏水膜。
根據本發(fā)明的第二方面，提供了一種液滴噴射頭的制造方法，所制造的液滴噴射頭配備有液體噴射能量驅動裝置以從噴嘴噴出液體，所述制造方法包括在用于噴射液滴的所述噴嘴形成之前，在噴嘴板上形成四面體非晶碳膜；在該四面體非晶碳膜上形成疏水膜；以及在所述噴嘴板上形成所述噴嘴。
在本發(fā)明的液滴噴射頭的制造方法中，通過在疏水膜的下層設置作為具有高硬度的薄膜的四面體非晶碳膜，即使減小了疏水膜的厚度，也可以獲得噴嘴加工性、噴射穩(wěn)定性、耐刮擦性得到改善的液滴噴射頭。
根據本發(fā)明的第三方面，提供了一種配備有本發(fā)明的上述液滴噴射頭的液滴噴出裝置。
通過配備本發(fā)明的上述液滴噴射頭，本發(fā)明的液滴噴出裝置可以長期穩(wěn)定地噴射液滴。


將根據下述附圖來詳細說明本發(fā)明的示例性實施方案，其中圖1是顯示本發(fā)明的實施方案所述的噴墨記錄裝置的構造示意圖；圖2是顯示本發(fā)明的實施方案所述的噴墨記錄單元的記錄頭配置的示意圖；圖3是顯示實施方案所述的噴墨記錄單元的印刷區(qū)域的示意圖；圖4是顯示本發(fā)明的實施方案所述的噴墨記錄頭的構造的截面圖；圖5A至5F是顯示本發(fā)明的實施方案所述的噴墨記錄頭的制造流程的流程圖；以及圖6是顯示ta-C膜的膜厚度和針孔密度之間的關系的曲線圖。
具體實施例方式
以下將參照附圖描述本發(fā)明。在這里，在所有附圖中將具有基本上相同功能的部件用相同符號表示，并且在某些情況下有可能會省略對它們的重復敘述。
圖1是顯示本發(fā)明的實施方案所述的噴墨記錄裝置的構造示意圖。圖2是顯示本發(fā)明的實施方案所述的噴墨記錄單元的記錄頭配置的示意圖。圖3是顯示實施方案所述的噴墨記錄單元的印刷區(qū)域的示意圖。
參照圖1，該實施方案所述的噴墨記錄裝置10(液滴噴出裝置)一般由下述部分組成用于送出紙張的紙張供給部分12；用于控制紙張的位置的配準調整(registration adjustment)部分14；用于通過噴出油墨液滴(液滴)在記錄介質P上形成圖像的記錄頭部分16；配備有用于記錄頭16的維護的維護部分18的記錄部分20；用于進行記錄頭16的維護的維護部分18；以及用于將承載有在記錄部分20中形成的圖像的紙張排出的出紙部分22。
紙張供給部分12由下述部件組成層疊和堆放紙張的堆紙器24，以及用于將紙張逐張地從堆紙器24輸送到配準調整部分14的輸送裝置26。
配準調整部分14配備有環(huán)狀形成(loop formation)部分28和用于控制紙張的位置的導向部件29。使紙張通過該部件，利用該紙張的彈性來矯正紙張的歪斜且控制輸送的時機，然后，使紙張進入到記錄部分20中。
在出紙部分22中，經由出紙帶23將承載有在記錄部分20中形成的圖像的紙張存放到托盤25中。
在記錄頭16和維護部分18之間，構造用于輸送記錄介質P的紙張傳送裝置。通過星輪17和輸送輥19將記錄介質P夾緊以連續(xù)地(不停地)進行輸送。然后，將油墨液滴從記錄頭部分16噴射到紙張上，從而在紙張上形成圖像。
維護部分18由配置在噴墨記錄單元30(記錄頭32)對面的維護裝置21組成，可以對噴墨記錄單元30(記錄頭32)進行處理，例如覆蓋、掃刮，以及虛擬噴射(dummy jetting)和抽真空。
參照圖2，每個噴墨記錄單元30均配備有在與紙張輸送方向垂直的方向上布置的多個噴墨記錄頭32。多個噴嘴33在噴墨記錄頭32上以矩陣狀形成。通過從噴嘴33將油墨液滴噴到在紙張傳送裝置中連續(xù)輸送的記錄介質P上，在記錄介質P上形成圖像。此處，例如分別對應用于記錄所謂全色圖像的黃色、品紅色、青色和黑色的各種顏色，設置至少四個噴墨記錄單元30。
參照圖3，設定每個噴墨記錄單元30的噴嘴33的印刷區(qū)域寬度，使其寬于設想通過該噴墨記錄裝置10在其上記錄圖像的記錄介質P的最大紙張寬度PW，由此，無需在紙張寬度方向上移動噴墨記錄單元30就可以橫跨記錄介質P的全部寬度記錄圖像(即所謂全寬陣列(FWA))。在這里，印刷區(qū)域以除位于兩端的不進行印刷的空白頁邊之外的最大記錄區(qū)域為基準，但是一般設定印刷區(qū)域比需要進行印刷的最大紙張寬度PW大。這是因為，有可能存在以與輸送方向成特定角度傾斜(歪斜)的方式輸送的紙張，以及存在對無頁邊空白的印刷的大量需求。
隨后，在具有上述結構的噴墨記錄裝置10中，將詳細敘述噴墨記錄頭32。圖4是顯示本發(fā)明的實施方案所述的噴墨記錄頭的構造的截面圖。圖5A至5F是顯示本發(fā)明的實施方案所述的噴墨記錄頭的制造流程的流程圖。
參照圖4，將保護板34、噴嘴板36、池板38、連通孔板40和42、壓力室板44和振動板46層疊在適當?shù)奈恢貌⑼ㄟ^熱熔或使用粘合劑進行粘合，由此制造噴墨記錄頭32。然后，在噴嘴板36上的保護板34的表面上依次形成四面體非晶碳(在下文中，稱為ta-C)膜48和疏水膜49。
將用于噴墨的噴嘴33形成在噴嘴板36中。在接合噴嘴板36的保護板34中，在噴嘴33的周圍形成梯級孔52。借助于該梯級孔52，使噴嘴33周圍的噴嘴表面54以相對于保護板34的板表面56(保護板34的涂布有ta-C膜48和疏水膜49的表面)呈凹狀的方式后退。這樣，可以避免在印刷時往上移動的記錄介質P與板表面56接觸，由此防止噴嘴33周圍的疏水膜49被損壞。
疏水膜49用于防止油墨附著到噴嘴33周圍。得益于該疏水膜49的存在，從噴嘴33噴出的油墨液滴可以恒定地垂直噴向板表面56。
然而，當疏水膜49的厚度增加時，噴嘴加工性和噴射穩(wěn)定性降低。另一方面，當疏水膜49的厚度減少時，即使噴嘴加工性和噴射穩(wěn)定性得到改善，耐刮擦性也會降低。
鑒于此，在疏水膜49的下層設置ta-C膜48，以利于減少疏水膜49的厚度，這樣可用來改善噴嘴加工性和噴射穩(wěn)定性，同時，也改善了耐刮擦性。
另外，參照圖4，在池板38中形成與噴嘴33相通的連通孔58。同樣，在連通孔板40和42中分別形成連通孔60和62。噴嘴33、連通孔58與連通孔60和62在噴嘴板36和連通孔板40和42層疊的狀態(tài)下互相連通，并且與形成在壓力室板44中的壓力室64連接。
另一方面，在池板38中形成油墨池66，從油墨供給孔(未示出)供給的油墨貯存在該處。同樣，在連通孔板40和42中分別形成供給孔68和70，使得與油墨池66相通。油墨池66、供給孔68和70以及壓力室64在池板38、連通孔板40和42以及壓力室板44層疊的狀態(tài)下互相連通。在振動板46上(在與接合壓力室板44的表面相對的表面上)，起壓力發(fā)生器作用的單板型壓電元件50安裝在壓力室64的上方，且從柔性布線基板(未示出)將驅動電壓施加到壓電元件50。
用于從噴嘴噴出液體的液滴噴射能量裝置不僅限于上述的壓電元件50，例如，也可以利用應用加熱元件(電熱轉換元件)的熱系統(tǒng)。
在上述噴墨記錄頭32中，形成了油墨的流道，該流道從油墨池66起，連續(xù)貫穿所述供給孔68和70、壓力室64、連通孔60和62、連通孔58以及噴嘴33。將從油墨供給孔(未示出)供給且貯存在油墨池66中的油墨經由供給孔68和70引入以充填到壓力室64內。當向壓電元件50施加驅動電壓時，振動板46與壓電元件50一起彎曲而變形，膨脹或壓縮壓力室64。這引起壓力室64的體積改變，從而在壓力室64中產生壓力波。通過該壓力波的作用，使油墨運動，由此從噴嘴33噴出油墨液滴。
接著，將敘述制造噴墨記錄頭32的方法。
首先，參照圖5A，將其中形成噴嘴33之前的板形的噴嘴板36和其中形成梯級孔52之前的板形的保護板34通過熱熔接合在一起。通過無粘合劑的熱熔接合噴嘴板36和保護板34這兩者時，因為不需要調節(jié)兩者的位置，所以它們能夠高效地接合。對于噴嘴板36，可以使用硅片、SUS(鋼鐵用不銹鋼)板或合成樹脂板等等，優(yōu)選使用機械強度、耐化學性和薄膜化優(yōu)秀的合成樹脂。在本實施方案中，將聚酰亞胺用于噴嘴板36。與使用傳統(tǒng)SUS的情況比較，使用聚酰亞胺的有利之處在于可以更容易地加工噴嘴，并且當對油墨施加噴射能量時，可借助阻尼效應來抑制互相干擾。對于保護板34，可以使用金屬板、樹脂膜、液晶膜或樹脂板等等。在本實施方案中，將SUS用于保護板34。
隨后，參照圖5B，在板形的保護板34中形成梯級孔52。在形成梯級孔52時，首先，形成抗蝕劑層，通過掩摸在抗蝕劑層上形成圖案后，去除抗蝕劑層中不需要的部分，以形成與梯級孔52的位置對應的孔部分。然后，通過濕法蝕刻在保護板34上形成梯級孔52的圖案，然后除去抗蝕劑層。該梯級孔52的深度設定為例如約5微米到20微米。
然后，參照圖5C，在保護板34的表面上即噴墨記錄頭32(見圖1)的噴出側表面上，形成ta-C膜48，其后，形成疏水膜49。
ta-C(四面體非晶碳)膜48由具有高硬度和高楊氏模量的含碳物質制成，其硬度高于傳統(tǒng)的類金剛石碳，因而，在防止由刮或擦引起的刮痕方面非常出眾。
對于形成ta-C膜48的方法沒有特別的限制，可以應用等離子體增強化學氣相沉積法或陰極電弧法。陰極電弧法是通過電弧放電從碳(石墨)提取C+來形成膜的方法。通過這種陰極電弧法形成的膜具有的性能在例如“International Conference on Micromechatronics for Information andPrecision Equipment”(東京，1997年7月20日～23日，第357-362頁)中已有描述，而且，與通過例如反應濺射法或ECR-CVD(電子回旋共振-化學氣相沉積)法等其他方法形成的DLC(類金剛石碳)膜比較，通過陰極電弧法形成的膜的有利之處在于具有較強的sp3鍵、較高的硬度和較低的摩擦系數(shù)。
ta-C膜48的典型特性值見表1。為了進行比較，天然金剛石層、類金剛石碳(DLC)層和撓性類金剛石碳(FDLC)層的典型特性值也列于表1。
表1

如表1所示，與DLC和FDLC層比較，ta-C膜48具有較低的成膜溫度，因而抑制了由于成膜引起的噴嘴板反向彎曲(retroflection)或保護板和噴嘴板之間的剝離。表1還顯示出ta-C膜的密度很高，因而增強了對相鄰膜的粘合性，從而使得難以將ta-C膜從相鄰膜剝離。
ta-C膜48的厚度優(yōu)選為約3納米～80納米，更優(yōu)選為約10納米～50納米，進一步優(yōu)選為約20納米～40納米。當厚度低于所述范圍時，可能會出現(xiàn)膜的缺陷或耐刮擦性降低。另一方面，當膜厚度超過所述范圍時，噴嘴加工性或噴射穩(wěn)定性可能會降低。
圖6表示了ta-C膜48的膜厚度和針孔密度之間的關系。為了進行比較，根據DLC膜產生的同一關系也示于圖6中。如圖所示，與DLC膜比較，ta-C膜48可以形成得更薄而且硬度更高。
另一方面，疏水膜49可以是例如氟類疏水膜、硅類疏水膜、等離子體聚合的保護膜或者聚四氟乙烯(PTFE)-鎳共析鍍膜。在這些之中，優(yōu)選的是具有高疏水性的氟類疏水膜，其構成材料的優(yōu)選實例包括例如，氟類樹脂，諸如四氟乙烯-六氟丙烯共聚物樹脂(FEP)、聚四氟乙烯樹脂(PTFE)、四氟乙烯-全氟烷氧基乙烯共聚物樹脂(PFA)、聚偏二氟乙烯樹脂或聚氟乙烯樹脂。特別是優(yōu)選聚四氟乙烯樹脂(PTFE)和四氟乙烯-全氟烷氧基乙烯共聚物樹脂(PFA)。
氟類疏水膜可以按照等離子體增強化學氣相生長法或者沉積法來形成。此外，氟類疏水膜也可以通過用上述方法形成氟類樹脂的前體，然后以加熱使該氟類樹脂前體聚合而形成。當然，氟類疏水膜也可以通過旋轉涂布法或噴霧法來形成。
疏水膜49的厚度優(yōu)選為約1納米～30納米，更優(yōu)選為約5納米～20納米，進一步優(yōu)選為約10納米～15納米。當厚度低于所述范圍時，可能會出現(xiàn)膜的缺陷或耐刮擦性降低。另一方面，當膜厚度超過所述范圍時，噴嘴加工性或噴射穩(wěn)定性可能會降低。
由于ta-C膜48和疏水膜49可以按照上述方法形成，因此，ta-C膜48和疏水膜49不僅可以在噴嘴板36上的保護板34的表面上以均勻厚度形成，也可以在梯級孔52(包括底部)內以均勻厚度形成。
接著，參照圖5D，將池板38通過熱熔接合到噴嘴板36的背面。通過進行所述熱熔，可以不使用粘合劑來進行接合。在該熱熔中，熱處理一般在300～360℃進行。在本實施方案中，所述熱熔通過在330℃的熱處理來進行。在這里，本實施方案中，所述接合是通過所述的熱熔來進行的，但是，所述接合也可以用粘合劑來進行。在后者情況下，例如熱處理是在200℃進行。
接下來，參照圖5E，通過用受激準分子激光(未示出)從池板38的背面(形成疏水膜49的一面)進行鉆孔，在噴嘴板36中形成噴嘴33。所形成的該噴嘴33的孔徑小于梯級孔52的孔徑。在本實施方案中，噴嘴33的孔徑設定為約25微米，梯級孔52的孔徑設定為100微米～400微米。按預定的模式形成多個這樣的噴嘴33和梯級孔52。
在這里，本實施方案中，使用受激準分子激光形成噴嘴，但是，也可以使用其它手段，例如，YAG(釔鋁石榴石)三次諧波、YAG四次諧波、蝕刻或沖孔等。在這里，考慮到加工性，最適合使用受激準分子激光。
由此制得第一層疊板。然后，如圖5F所示，第二層疊板可通過以下單獨的步驟來制備預先將連通孔板40和42與壓力室板44接合，進一步在其上接合振動板46，以覆蓋壓力室板44中的開口，由此制備第二層疊板。然后用這兩個層疊板的連通孔板40和池板38互相面對面的方式將第一層疊板和第二層疊板接合在一起。
通過這種方式，可制得噴墨記錄頭32。
如上所述，在本實施方案中，依次將作為高硬度的薄膜的ta-C膜48以及所述疏水膜49隔著保護板34而形成在噴墨記錄頭32中的噴嘴板36上。然而，在噴嘴的周圍，ta-C膜48直接形成在噴嘴板上，并在ta-C膜48上形成疏水膜49。
通過在疏水膜49的下層設置ta-C膜48，由于減少了疏水膜49的厚度，因此可改善噴嘴加工性和噴射穩(wěn)定性，同時，也改善了耐刮擦性。
因此，配備有所述記錄頭32的噴墨記錄裝置10可以長期穩(wěn)定地噴墨。
此處，在本實施方案中，已經敘述了與紙寬度對應的FWA的例子。然而，本發(fā)明的噴墨記錄頭并不僅限于此，也可以適用于具有主掃描機構和副掃描機構的部分寬度陣列(PWA)的裝置。
同樣，在本實施方案中，將圖像(包括字符)記錄在記錄介質P上。然而，本發(fā)明的液滴噴射頭和液滴噴射裝置并不僅限于此。也就是說，所述記錄介質不僅限于紙，所噴出的液體也不限于油墨。例如，本發(fā)明一般也可以適用于作為工業(yè)用途的液滴噴射頭和液滴噴射裝置，例如通過將油墨噴到聚合物膜或玻璃上來制備顯示設備的濾色器，以及通過將熔融狀態(tài)的焊料噴到基板上來形成電子部件安裝用凸點(bump)。
實施例在下文中，顯示了上述實施方案中用于評價的具有在噴嘴板36上依次形成的ta-C膜48和疏水膜49的實施例。為了與這些實施例比較，也顯示了比較例。
實施例1首先，使用FCVA(過濾陰極真空電弧)設備(由島津制作所株式會社制造)在聚酰亞胺膜(噴嘴板)的表面上形成厚度為3納米的ta-C膜。
其次，通過使用沉積方法形成氟類疏水膜，然后通過加熱使該膜聚合，由此在ta-C膜上形成厚度為10納米的疏水膜。
其后，從與形成的疏水膜的一側相反的一側照射受激準分子激光(波長248納米)，以形成直徑為25微米的噴嘴。
這樣，獲得了噴嘴板36。
實施例2～5根據表2，除了改變ta-C膜和疏水膜的厚度之外，用與實施例1相同的方法獲得噴嘴板。
比較例1首先，使用ECR-CVD設備在聚酰亞胺膜(噴嘴板)的表面上形成厚度為3納米的DLC膜。
其次，通過使用沉積方法形成氟類疏水膜，然后通過加熱使該膜聚合，從而在DLC膜上形成厚度為10納米的疏水膜。
其后，從與形成的疏水膜的一側相反的一側照射受激準分子激光(波長248納米)，以形成直徑為25微米的噴嘴。
這樣，獲得了噴嘴板。
比較例2首先，使用濺射方法在聚酰亞胺膜(噴嘴板)的表面上形成厚度為100納米的SiO2膜。
接著，通過使用沉積方法形成氟類疏水膜，然后通過加熱使該膜聚合，由此在SiO2膜上形成厚度為20納米的疏水膜。
其后，從與形成的疏水膜的一側相反的一側照射受激準分子激光(波長248納米)，以形成直徑為25微米的噴嘴。
這樣，獲得了噴嘴板。
評價通過使用獲得的噴嘴板，按照上述實施方案制備記錄頭，然后評價噴射穩(wěn)定性和耐刮擦性。另外，也評價在加工噴嘴時的噴嘴加工性。評價結果列于表2。
對噴射穩(wěn)定性評價如下。測定在連續(xù)噴射時液滴的量，將液滴的量基本上沒有波動的情況評價為A，將在20滴的量中有很大程度波動的情況評價為C，而在A和C之間的情況則評價為B。
耐刮擦性對耐刮擦性評價如下。將獲得的樣品裝在由富士施樂株式會社制造的刮擦測試裝置中，當用橡膠刮板刮擦疏水膜的表面5000次時，將基本沒有刮痕的情況評價為A，將許多刮痕的情況評價為C，而在A和C之間的情況則評價為B。
噴嘴加工性對噴嘴加工性評價如下。當用受激準分子激光加工噴嘴時，將具有良好的加工性、噴嘴孔均勻形成的情況評價為A，將加工性低、噴嘴孔不能均勻形成的情況評價為C，而在A和C之間的情況則評價為B。
表2

如表2所示，與比較例相比較，實施例的噴射穩(wěn)定性、耐刮擦性和噴嘴加工性均表現(xiàn)優(yōu)異。表2還顯示，優(yōu)選以預定的膜厚度形成ta-C膜和疏水膜。
權利要求
1.一種液滴噴射頭，所述液滴噴射頭配備有液體噴射能量驅動裝置以從噴嘴噴出液體，所述液滴噴射頭包括噴嘴板，該噴嘴板具有用于噴射液滴的所述噴嘴；設置在該噴嘴板上的四面體非晶碳膜；以及設置在該四面體非晶碳膜上的疏水膜。
2.如權利要求1所述的液滴噴射頭，其中，所述四面體非晶碳膜是通過等離子體增強化學氣相沉積法或者陰極電弧法而形成的。
3.如權利要求1所述的液滴噴射頭，其中，所述四面體非晶碳膜的厚度約為3納米～80納米。
4.如權利要求1所述的液滴噴射頭，其中，所述疏水膜包含氟類樹脂。
5.如權利要求4所述的液滴噴射頭，其中，所述包含氟類樹脂的疏水膜是通過等離子體增強化學氣相生長法或沉積法而形成的。
6.如權利要求4所述的液滴噴射頭，其中，所述包含氟類樹脂的疏水膜是通過以下方式形成的通過等離子體增強化學氣相生長法或沉積法來形成氟類樹脂的前體，然后通過加熱使該氟類樹脂前體聚合。
7.如權利要求1所述的液滴噴射頭，其中，所述疏水膜的厚度約為1納米～30納米。
8.如權利要求1所述的液滴噴射頭，其中，所述噴嘴板包含聚酰亞胺樹脂。
9.一種液滴噴射頭的制造方法，所述液滴噴射頭配備有液體噴射能量驅動裝置以從噴嘴噴出液體，所述制造方法包括在噴嘴板上形成用于噴射液滴的噴嘴之前，在該噴嘴板上形成四面體非晶碳膜；在該四面體非晶碳膜上形成疏水膜；以及在所述噴嘴板上形成所述噴嘴。
10.如權利要求9所述的液滴噴射頭的制造方法，其中，所述四面體非晶碳膜是通過等離子體增強化學氣相沉積法或者陰極電弧法而形成的。
11.如權利要求9所述的液滴噴射頭的制造方法，其中，所述四面體非晶碳膜的厚度約為3納米～80納米。
12.如權利要求9所述的液滴噴射頭的制造方法，其中，所述疏水膜包含氟類樹脂。
13.如權利要求12所述的液滴噴射頭的制造方法，其中，所述包含氟類樹脂的疏水膜是通過等離子體增強化學氣相生長法或沉積法而形成的。
14.如權利要求12所述的液滴噴射頭的制造方法，其中，所述包含氟類樹脂的疏水膜是通過以下方式而形成的通過等離子體增強化學氣相生長法或沉積法來形成氟類樹脂的前體，然后通過加熱使該氟類樹脂前體聚合。
15.如權利要求9所述的液滴噴射頭的制造方法，其中，所述疏水膜的厚度約為1納米～30納米。
16.如權利要求9所述的液滴噴射頭的制造方法，其中，所述噴嘴板包含聚酰亞胺樹脂。
17.如權利要求9所述的液滴噴射頭的制造方法，其中，所述的在噴嘴板上形成噴嘴包括用激光照射所述噴嘴板的與形成有所述疏水膜的表面相反的表面。
18.如權利要求17所述的液滴噴射頭的制造方法，其中，所述激光是受激準分子激光。
19.一種液滴噴出裝置，該裝置配備有權利要求1～8中任一項所述的液滴噴射頭。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種液滴噴射頭、其制造方法以及液滴噴射裝置，所述液滴噴射頭配備有液體噴射能量驅動裝置以從噴嘴噴出液體，所述液滴噴射頭包括噴嘴板，其具有用于噴射液滴的噴嘴；設置在該噴嘴板上的四面體非晶碳膜；以及設置在該四面體非晶碳膜上的疏水膜。
文檔編號C23C16/56GK101054019SQ200610164560
公開日2007年10月17日 申請日期2006年12月7日 優(yōu)先權日2006年4月10日
發(fā)明者井上洋, 片岡雅樹, 村上裕紀 申請人:富士施樂株式會社