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低溫化學(xué)鍍鎳溶液的制作方法

文檔序號(hào):3409283閱讀:754來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:低溫化學(xué)鍍鎳溶液的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種化學(xué)鍍鎳溶液,特別是一種低溫化學(xué)鍍鎳溶液,屬于材料表面化學(xué)處理應(yīng)用技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
化學(xué)鍍與電鍍工藝相比較具有鍍層均勻,無(wú)明顯邊緣效應(yīng),適合形狀復(fù)雜工件、腔體件、深孔件、管件內(nèi)壁等表面施鍍。具有工藝簡(jiǎn)單,不需電源,節(jié)省能源,通過敏化、活化等前處理,可以在非金屬材料表面形成導(dǎo)電層等優(yōu)點(diǎn)。在航空航天工業(yè)、汽車工業(yè)、電子計(jì)算機(jī)、食品工業(yè)、化工、塑料、印刷等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。
目前化學(xué)鍍鎳工藝主要采用酸性高溫鍍液,具有能耗大,易使工件變形,鍍液穩(wěn)定性差的缺點(diǎn)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)的不足,而提供一種鍍液穩(wěn)定、鍍層均勻且污染小的低溫化學(xué)鍍鎳溶液。所述低溫化學(xué)鍍鎳溶液是由下述原料配比而成硫酸鎳20-35克/升;次亞磷酸鈉25-45克/升;檸檬酸鈉25-45克/升;氯化銨25-45克/升;三乙醇胺5-20毫升/升;氧化胺5-30毫升/升;十二烷基磺酸鈉1-5克/升;硫脲1-8毫克/升,然后加水至1升,并加入適量氫氧化鈉,調(diào)整pH值到8-12。
制備方法(1)稱取計(jì)量的硫酸鎳、次亞磷酸鈉、檸檬酸鈉、氯化銨、三乙醇胺、氧化胺、十二烷基磺酸鈉、硫脲、氫氧化鈉,分別用少許水將其分別溶解。
(2)將溶解的硫酸鎳溶液倒入氯化銨溶液中混合均勻。
(3)再將檸檬酸鈉、三乙醇胺、、氧化胺、十二烷基磺酸鈉、硫脲溶液依次倒入上述步驟2所得的混合溶液中,并將其混合均勻。
(4)加入次亞磷酸鈉溶液,混合均勻。
(5)用蒸餾水將步驟4所得的溶液稀釋到計(jì)算體積,并用氫氧化鈉溶液調(diào)節(jié)鍍液至所需pH值。
使用本發(fā)明進(jìn)行表面處理主要包括下列步驟(1)將工件按常規(guī)電鍍前處理進(jìn)行除油、除銹處理;非金屬材料要進(jìn)行粗化、敏化、活化等前處理。
(2)將處理完畢的工件浸入鍍液中,對(duì)于比鎳穩(wěn)定的金屬需用鐵等活潑金屬進(jìn)行觸發(fā)。
本發(fā)明具有如下優(yōu)點(diǎn)1、該鍍液在常溫下即可施鍍,在20℃~70℃的較寬溫度范圍內(nèi)均可得到滿意的鍍層。
2、鍍液穩(wěn)定,鍍層均勻、光亮。本鍍液采用氧化胺、氯化銨及三乙醇胺作為絡(luò)合劑,鍍液穩(wěn)定;硫脲作為穩(wěn)定劑,添加十二烷基磺酸鈉后在綜合作用下可得到均勻光亮的鍍層。
3、污染小。本鍍液中無(wú)其他重金屬雜質(zhì),用氫氧化鈉來(lái)調(diào)節(jié)pH值,無(wú)氨氣污染。
本發(fā)明由于具有鍍液穩(wěn)定,鍍層均勻、光亮,施鍍溫度范圍廣、可以低溫施鍍等特點(diǎn),適合金屬及非金屬的表面加工,尤其適用對(duì)高溫時(shí)易變形,對(duì)工件精度要求高的工件進(jìn)行表面防護(hù)及裝飾性處理。
具體實(shí)施例方式實(shí)施例一一、化學(xué)鍍鎳液的配方硫酸鎳28克/升次亞磷酸鈉30克/升檸檬酸鈉 30克/升氯化銨25克/升三乙醇胺 5毫升/升氧化胺10毫升/升十二烷基磺酸鈉2克/升硫脲 1毫克/升氫氧化鈉 適量加水 加至1升pH11溫度 室溫二、鍍液的配制(1)稱取計(jì)量的硫酸鎳、次亞磷酸鈉、檸檬酸鈉、氯化銨、三乙醇胺、氧化胺、十二烷基磺酸鈉、硫脲、氫氧化鈉,分別用少許水將其分別溶解。
(2)將溶解的硫酸鎳溶液倒入氯化銨溶液中混合均勻。
(3)再將檸檬酸鈉、三乙醇胺、、氧化胺、十二烷基磺酸鈉、硫脲溶液依次倒入上述步驟2所得的混合溶液中,并將其混合均勻。
(4)加入次亞磷酸鈉溶液,混合均勻。
(5)用蒸餾水將步驟4所得的溶液稀釋到計(jì)算體積,并用氫氧化鈉溶液調(diào)節(jié)鍍液pH值至11。
三、化學(xué)鍍鎳(1)將銅片按常規(guī)電鍍前處理進(jìn)行除油、除銹處理。
(2)將處理完畢銅片浸入鍍液中,用鐵絲觸發(fā)。
實(shí)施例二一、化學(xué)鍍鎳液的配方硫酸鎳30克/升次亞磷酸鈉30克/升檸檬酸鈉 25克/升氯化銨30克/升三乙醇胺 10毫升/升氧化胺15毫升/升十二烷基磺酸鈉2克/升硫脲 2毫克/升氫氧化鈉 適量加水 加至1升pH11.8溫度 室溫二、鍍液的配制(1)稱取計(jì)量的硫酸鎳、次亞磷酸鈉、檸檬酸鈉、氯化銨、三乙醇胺、氧化胺、十二烷基磺酸鈉、硫脲、氫氧化鈉,分別用少許水將其分別溶解。
(2)將溶解的硫酸鎳溶液倒入氯化銨溶液中混合均勻。
(3)再將檸檬酸鈉、三乙醇胺、、氧化胺、十二烷基磺酸鈉、硫脲溶液依次倒入上述步驟2所得的混合溶液中,并將其混合均勻。
(4)加入次亞磷酸鈉溶液,混合均勻。
(5)用蒸餾水將步驟4所得的溶液稀釋到計(jì)算體積,并用氫氧化鈉溶液調(diào)節(jié)鍍液pH值至11.8。
三、化學(xué)鍍鎳(1)將銅片按常規(guī)電鍍前處理進(jìn)行除油、除銹處理。
(2)將處理完畢銅片浸入鍍液中,用鐵絲觸發(fā)。
實(shí)施例三一、化學(xué)鍍鎳液的配方硫酸鎳35克/升次亞磷酸鈉40克/升檸檬酸鈉 30克/升氯化銨20克/升三乙醇胺15毫升/升氧化胺 25毫升/升十二烷基磺酸鈉 3克/升硫脲1毫克/升氫氧化鈉適量加水加至1升pH 11.5溫度40℃二、鍍液的配制(1)稱取計(jì)量的硫酸鎳、次亞磷酸鈉、檸檬酸鈉、氯化銨、三乙醇胺、氧化胺、十二烷基磺酸鈉、硫脲、氫氧化鈉,分別用少許水將其分別溶解。
(2)將溶解的硫酸鎳溶液倒入氯化銨溶液中混合均勻。
(3)再將檸檬酸鈉、三乙醇胺、、氧化胺、十二烷基磺酸鈉、硫脲溶液依次倒入上述步驟2所得的混合溶液中,并將其混合均勻。
(4)加入次亞磷酸鈉溶液,混合均勻。
(5)用蒸餾水將步驟4所得的溶液稀釋到計(jì)算體積,并用氫氧化鈉溶液調(diào)節(jié)鍍液pH值至11.5。
(6)加熱至40℃三、化學(xué)鍍鎳(1)將鐵片按常規(guī)電鍍前處理進(jìn)行除油、除銹處理。
(2)將處理完畢的鐵片浸入鍍液中。
權(quán)利要求
1.一種低溫化學(xué)鍍鎳溶液,其特征在于它是由下述原料配制而成,硫酸鎳20-35克/升;次亞磷酸鈉25-45克/升;檸檬酸鈉25-45克/升;氯化銨25-45克/升;三乙醇胺5-20毫升/升;氧化胺5-30毫升/升;十二烷基磺酸鈉1-5克/升;硫脲1-8毫克/升,然后加水至1升,并加入適量氫氧化鈉,調(diào)整pH值到8-12。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低溫化學(xué)鍍鎳溶液,其特征在于原料的具體配比硫酸鎳28克/升;次亞磷酸鈉30克/升;檸檬酸鈉30克/升;氯化銨25克/升;三乙醇胺5毫升/升;氧化胺10毫升/升;十二烷基磺酸鈉2克/升;硫脲1毫克/升,然后加水至1升,并加入適量的氫氧化鈉調(diào)整pH值到11。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低溫化學(xué)鍍鎳溶液,其特征在于原料的具體配比硫酸鎳30克/升;次亞磷酸鈉30克/升;檸檬酸鈉25克/升;氯化銨30克/升;三乙醇胺10毫升/升;氧化胺15毫升/升;十二烷基磺酸鈉2克/升;硫脲2毫克/升,然后加水至1升,并加入適量的氫氧化鈉調(diào)整pH值到11.8。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低溫化學(xué)鍍鎳溶液,其特征在于原料的具體配比硫酸鎳35克/升;次亞磷酸鈉40克/升;檸檬酸鈉30克/升;氯化銨20克/升;三乙醇胺15毫升/升;氧化胺25毫升/升;十二烷基磺酸鈉3克/升;硫脲3毫克/升,然后加水至1升,并加入適量的氫氧化鈉調(diào)整pH值到11.5,室溫為40℃。
5.制備如權(quán)利要求1或2或3或4所述的低溫化學(xué)鍍鎳溶液,其特征在于它是按照下述工藝步驟進(jìn)行(1)稱取計(jì)量的硫酸鎳、次亞磷酸鈉、檸檬酸鈉、氯化銨、三乙醇胺、氧化胺、十二烷基磺酸鈉、硫脲、氫氧化鈉,分別用少許水將其分別溶解;(2)將溶解的硫酸鎳溶液倒入氯化銨溶液中混合均勻;(3)再將檸檬酸鈉、三乙醇胺、、氧化胺、十二烷基磺酸鈉、硫脲溶液依次倒入上述步驟2所得的混合溶液中,并將其混合均勻;(4)加入次亞磷酸鈉溶液,混合均勻;(5)用蒸餾水將步驟4所得的溶液稀釋到計(jì)算體積,并用氫氧化鈉溶液調(diào)節(jié)鍍液至所需pH值。
全文摘要
低溫化學(xué)鍍鎳溶液,是由下述原料配比而成硫酸鎳20-35克/升;次亞磷酸鈉25-45克/升;檸檬酸鈉25-45克/升;氯化銨25-45克/升;三乙醇胺5-20毫升/升;氧化胺5-30毫升/升;十二烷基磺酸鈉1-5克/升;硫脲1-8毫克/升,加水至1升,然后加入適量氫氧化鈉,調(diào)整pH值到8-12。本發(fā)明由于具有鍍液穩(wěn)定,鍍層均勻、光亮,施鍍溫度范圍廣、可以低溫施鍍等特點(diǎn),適合金屬及非金屬的表面加工,尤其適用對(duì)高溫時(shí)易變形,對(duì)工件精度要求高的工件進(jìn)行表面防護(hù)及裝飾性處理。
文檔編號(hào)C23C18/32GK1847453SQ20061004655
公開日2006年10月18日 申請(qǐng)日期2006年5月12日 優(yōu)先權(quán)日2006年5月12日
發(fā)明者武士威, 孫挺, 宋學(xué)君, 張長(zhǎng)生 申請(qǐng)人:武士威, 孫挺, 宋學(xué)君, 張長(zhǎng)生
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