專利名稱：真空鍍膜軸向運(yùn)動控制裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種高真空連續(xù)鍍膜用軸向運(yùn)動控制裝置。
本實(shí)用新型的真空鍍膜軸向運(yùn)動控制裝置包括供帶輥、收帶輥61、61’、隨動壓帶輥62、62’、連接支撐裝置5、傳動減速裝置4、步進(jìn)電機(jī)3、PLC可編程控制器1，供帶輥、收帶輥61、61’及隨動壓帶輥62、62’固定于連接支撐裝置5上，供帶輥、收帶輥61、61’分別位于鍍膜基臺7兩側(cè)，兩個隨動壓帶輥62、62’分別位于供帶輥、收帶輥61、61’與鍍膜基臺7之間，供帶輥、收帶輥61、61’、隨動壓帶輥62、62’軸向平行于步進(jìn)電機(jī)3的軸向并垂直于圓柱形真空室中軸，由PLC可編程控制器1控制的步進(jìn)電機(jī)3與傳動減速裝置4驅(qū)動連接，傳動減速裝置4驅(qū)動連接支撐裝置5沿供帶輥、收帶輥61、61’及隨動壓帶輥62、62’的軸向往復(fù)運(yùn)動，帶動基體帶同步往復(fù)運(yùn)動。
該裝置采用供帶輥、收帶輥、隨動壓帶輥、連接支撐裝置、傳動減速裝置、步進(jìn)電機(jī)、PLC可編程控制器等裝置實(shí)現(xiàn)真空鍍膜卷繞系統(tǒng)沿供帶輥、收帶輥軸向平行無級調(diào)速往復(fù)運(yùn)動，使基體帶無斜拉伸現(xiàn)象，無軸向沖擊振動現(xiàn)象，可以有效地提高卷繞基體帶的卷取質(zhì)量，基體帶沿供帶輥、收帶輥軸向往復(fù)運(yùn)動間接擴(kuò)展了離子束濺射及輔助沉積鍍制膜均勻區(qū)尺寸，提高了現(xiàn)有高真空鍍膜設(shè)備真空室容積利用率，可實(shí)現(xiàn)300mm以上寬幅基體帶高效生產(chǎn)的要求，滿足了市場對寬幅特殊功能鍍膜產(chǎn)品的需求，降低了設(shè)備制造、使用、維護(hù)等成本，提高了離子束濺射及輔助沉積源的利用率達(dá)到節(jié)省能源的作用。
圖2為本實(shí)用新型置于真空室內(nèi)的俯視示意圖。
權(quán)利要求1.一種真空鍍膜軸向運(yùn)動控制裝置，包括供帶輥、收帶輥(61、61’)、隨動壓帶輥(62、62’)、連接支撐裝置(5)、傳動減速裝置(4)、步進(jìn)電機(jī)(3)、PLC可編程控制器(1)，其特征在于供帶輥、收帶輥(61、61’)及隨動壓帶輥(62、62’)固定于連接支撐裝置(5)上，供帶輥、收帶輥(61、61’)分別位于鍍膜基臺(7)兩側(cè)，兩個隨動壓帶輥(62、62’)分別位于供帶輥、收帶輥(61、61’)與鍍膜基臺(7)之間，供帶輥、收帶輥(61、61’)、隨動壓帶輥(62、62’)軸向平行于步進(jìn)電機(jī)(3)的軸向并垂直于圓柱形真空室中軸，由PLC可編程控制器(1)控制的步進(jìn)電機(jī)(3)與傳動減速裝置(4)驅(qū)動連接，傳動減速裝置(4)驅(qū)動連接支撐裝置(5)沿供帶輥、收帶輥(61、61’)及隨動壓帶輥(62、62’)的軸向往復(fù)運(yùn)動，帶動基體帶同步往復(fù)運(yùn)動。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種高真空連續(xù)鍍膜用軸向運(yùn)動控制裝置，該裝置的供帶輥、收帶輥、隨動壓帶輥固定于連接支撐裝置上構(gòu)成卷繞系統(tǒng)，供帶輥、收帶輥分別設(shè)置于鍍膜基臺兩側(cè)，兩個隨動壓帶輥分別設(shè)置于供帶輥、收帶輥與鍍膜基臺之間，供帶輥、收帶輥、隨動壓帶輥輥軸方向平行于步進(jìn)電機(jī)的軸向并垂直于圓柱形真空室中軸，PLC可編程控制器控制步進(jìn)電機(jī)實(shí)現(xiàn)轉(zhuǎn)動方向反轉(zhuǎn)，與步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動連接的傳動減速裝置驅(qū)動連接支撐裝置沿供帶輥、收帶輥、隨動壓帶輥輥軸方向往復(fù)運(yùn)動，帶動基體帶同步往復(fù)運(yùn)動。該裝置用于真空鍍膜可實(shí)現(xiàn)基體帶無斜拉伸、軸向無沖擊，鍍膜基體帶幅寬達(dá)到300mm以上，提高了現(xiàn)有真空鍍膜設(shè)備利用率。
文檔編號C23C14/56GK2552944SQ0224183
公開日2003年5月28日 申請日期2002年7月4日 優(yōu)先權(quán)日2002年7月4日
發(fā)明者楊濱 申請人:昆明貴金屬研究所