離子切割槍頭的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及焊接技術領域，特別是一種MIG水冷槍焊接槍頭。
【背景技術】
[0002]等離子切割分為高頻和非高頻等離子切割，高頻等離子切割電極和電極噴嘴等配件的安裝位置固定，在引弧和切割過程中不需要位置移動。而非高頻的等離子電極的位置在引弧后有一個位置移動的動作。因此高頻和非高頻槍同規(guī)格的槍需要做兩種不同的槍頭，導致開發(fā)和生產成本加大。也限制了等離子槍的使用推廣。
【實用新型內容】
[0003]本實用新型的目的在于提供一種解決上述技術問題的離子切割槍頭。
[0004]為解決上述技術問題，本實用新型離子切割槍頭，包括:氣室；活塞，所述活塞設置在所述氣室中，在所述活塞的末端套設有螺母；電極，所述電極通過螺紋與所述活塞的前端連接；絕緣件及外銅件，所述絕緣件及所述外銅件依次設置在所述氣室的外側；外噴嘴，所述外噴嘴通過螺紋與所述外銅件連接。
[0005]在所述活塞的末端與所述螺母之間設有彈簧。在所述活塞與所述氣室之間設有密封圈。
[0006]本實用新型離子切割槍頭的電極有長短兩種，分別在高頻和非高頻的時候使用，通過電極的長短不同實現(xiàn)高頻與非高頻的非接觸和接觸引弧，即高頻的時候通過電極和活塞的配合使電極的位置固定，保持電極和電極噴嘴之間一定間距實現(xiàn)非接觸引弧。非高頻的時候通過電極的尺寸變化實現(xiàn)電極和電極噴嘴接觸且可通過氣體和彈簧的推動上下快速移動，從而實現(xiàn)非高頻的接觸引弧。
【附圖說明】
[0007]圖1為本實用新型咼子切割槍頭剖視圖；
[0008]圖2為本實用新型離子切割槍頭高頻狀態(tài)圖；
[0009]圖3為本實用新型離子切割槍頭非高頻狀態(tài)圖。
[0010]本實用新型離子切割槍頭附圖中附圖標記說明:
[0011]1-螺母 2-彈簧 3-密封圈
[0012]4-活塞 5-氣室 6-絕緣件
[0013]7-外銅件 8-外噴嘴 9-電極
[0014]10-分流器11-電極噴嘴
【具體實施方式】
[0015]下面結合附圖對本實用新型離子切割槍頭作進一步詳細說明。
[0016]如圖1所示，本實用新型等離子切割槍頭，包括:螺母1、彈簧2和密封圈3裝在活塞4上，活塞4插到氣室5中。氣室5、絕緣件6和外銅件7緊密壓接到一起。外噴嘴8通過螺紋連接到外銅件7上，電極9通過螺紋連接到活塞4上，分流器10和電極噴嘴11通過外噴嘴8安裝到氣室5上。
[0017]如圖2所示，高頻時通過電極9頂住氣室5限制活塞4上下運動，電極9本身長度變短和電極噴嘴11之間有一定距離，成為非接觸引弧。
[0018]如圖3所示，非高頻時電極9頂不到氣室5可以上下運動，且電極9長度較高頻時的電極9長，能夠在彈簧2彈力的作用力下和電極噴嘴11良好接觸，成為接觸引弧。
[0019]本實用新型離子切割槍頭的電極有長短兩種，分別在高頻和非高頻的時候使用，通過電極的長短不同實現(xiàn)高頻與非高頻的非接觸和接觸引弧，即高頻的時候通過電極和活塞的配合使電極的位置固定，保持電極和電極噴嘴之間一定間距實現(xiàn)非接觸引弧。非高頻的時候通過電極的尺寸變化實現(xiàn)電極和電極噴嘴接觸且可通過氣體和彈簧的推動上下快速移動，從而實現(xiàn)非高頻的接觸引弧。
[0020]本實用新型雖然已以較佳實施例公開如上，但其并不是用來限定本實用新型，任何本領域技術人員在不脫離本實用新型的精神和范圍內，都可以利用上述揭示的方法和技術內容對本實用新型技術方案做出可能的變動和修改，因此，凡是未脫離本實用新型技術方案的內容，依據(jù)本實用新型的技術實質對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化及修飾，均屬于本實用新型技術方案的保護范圍。
【主權項】
1.離子切割槍頭，其特征在于，包括: 氣室； 活塞，所述活塞設置在所述氣室中，在所述活塞的末端套設有螺母； 電極，所述電極通過螺紋與所述活塞的前端連接； 絕緣件及外銅件，所述絕緣件及所述外銅件依次設置在所述氣室的外側； 外噴嘴，所述外噴嘴通過螺紋與所述外銅件連接。2.根據(jù)權利要求1所述的離子切割槍頭，其特征在于，在所述活塞的末端與所述螺母之間設有彈簧。3.根據(jù)權利要求1所述的離子切割槍頭，其特征在于，在所述活塞與所述氣室之間設有密封圈。
【專利摘要】本實用新型離子切割槍頭，包括：氣室；活塞，所述活塞設置在所述氣室中，在所述活塞的末端套設有螺母；電極，所述電極通過螺紋與所述活塞的前端連接；絕緣件及外銅件，所述絕緣件及所述外銅件依次設置在所述氣室的外側；外噴嘴，所述外噴嘴通過螺紋與所述外銅件連接。本實用新型離子切割槍頭的電極有長短兩種，分別在高頻和非高頻的時候使用，通過電極的長短不同實現(xiàn)高頻與非高頻的非接觸和接觸引弧，即高頻的時候通過電極和活塞的配合使電極的位置固定，保持電極和電極噴嘴之間一定間距實現(xiàn)非接觸引弧。非高頻的時候通過電極的尺寸變化實現(xiàn)電極和電極噴嘴接觸且可通過氣體和彈簧的推動上下快速移動，從而實現(xiàn)非高頻的接觸引弧。
【IPC分類】B23K10/00
【公開號】CN204867761
【申請?zhí)枴緾N201520485239
【發(fā)明人】賈紅濤
【申請人】上海億諾科技有限公司
【公開日】2015年12月16日
【申請日】2015年7月7日