一種用于硅基薄膜太陽能電池的激光刻劃裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種用于刻劃硅基薄膜太陽能電池的裝置，屬于太陽能電池設(shè)備【技術(shù)領(lǐng)域】。為解決現(xiàn)有激光刻劃設(shè)備不能同時(shí)兼顧成本和刻劃復(fù)雜圖形的技術(shù)問題，設(shè)計(jì)一種用于硅基薄膜太陽能電池的激光刻劃裝置，主要由支架及光學(xué)系統(tǒng)、除塵機(jī)構(gòu)構(gòu)成，其特征在于所述光學(xué)系統(tǒng)包括激光器、擴(kuò)束鏡、分光鏡、反射鏡、振鏡和聚焦鏡，擴(kuò)束鏡連接激光器和分光鏡，形成多束激光，且每束激光的傳播方向上均依次設(shè)有振鏡及聚光鏡。本實(shí)用新型突破了傳統(tǒng)具有分光飛行光學(xué)系統(tǒng)或偏振掃描光學(xué)系統(tǒng)的激光刻劃裝置的限制，刻劃效率高，設(shè)備成本低。
【專利說明】—種用于硅基薄膜太陽能電池的激光刻劃裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種用于刻劃硅基薄膜太陽能電池的裝置，屬于太陽能電池設(shè)備【技術(shù)領(lǐng)域】。
【背景技術(shù)】
[0002]激光刻劃裝置是硅基薄膜太陽能電池制造中必不可少的關(guān)鍵設(shè)備。激光刻劃裝置主要包括光學(xué)系統(tǒng)及其控制系統(tǒng)，其中光學(xué)系統(tǒng)是核心，目前應(yīng)用在薄膜太陽能電池業(yè)內(nèi)的主要有分光飛行光學(xué)系統(tǒng)和振鏡掃描光學(xué)系統(tǒng)，分光飛行系統(tǒng)主要用于刻劃大尺寸薄膜電池，如中國專利申請(qǐng)?zhí)?00920106830.7《薄膜太陽能電池劃線裝置》，而振鏡掃描光學(xué)系統(tǒng)主要用在小尺寸的復(fù)雜圖形的刻劃上。如中國專利200810236766.4《一種用于薄膜太陽能電池刻膜及打點(diǎn)的新裝置》，通過光學(xué)元件(如分光鏡)將激光分成能量近似相等的兩束或四束，各個(gè)子光束通過光路傳導(dǎo)至不同的激光頭，激光頭經(jīng)聚焦后作用在需加工的基片膜層上，在刻劃過程中，激光頭組合做高速往返運(yùn)動(dòng)，而基片保持不動(dòng)，刻劃速度快，激光器數(shù)量少，但刻線間距由激光頭間距確定，要在刻劃前一次性調(diào)整好，在刻劃過程中不可改變，造成無法刻劃間距不等的復(fù)雜圖形，不能滿足薄膜太陽能電池產(chǎn)品的多樣化要求，而且由于分光鏡所分多束激光不完全一致，需要通過偏光鏡進(jìn)行角度校正，而這些校正均不可實(shí)時(shí)調(diào)整，容易造成刻劃線出現(xiàn)誤差，繼而影響電池的電性能。振鏡掃描光學(xué)系統(tǒng)穩(wěn)定性高，可以實(shí)現(xiàn)任意間距的復(fù)雜的圖形，且激光頭利用率接近100%，但是由于激光束經(jīng)聚焦后受焦深的限制，單個(gè)激光頭的有效工作區(qū)域有限，所需激光器數(shù)量較多，設(shè)備及其維護(hù)成本聞。
[0003]激光刻劃裝置中的除塵機(jī)構(gòu)的功能是將被激光去除的膜層、顆粒有效的收集起來，一方面避免粉塵、顆粒對(duì)凈化車間潔凈度的影響，另一方面降低其對(duì)電池芯板電性能的負(fù)面影響。如中國專利201220015196.8《用于薄膜太陽能電池激光刻槽的除塵機(jī)構(gòu)》，在激光作用位置及玻璃基板正上方安裝除塵終端即吸嘴，吸嘴經(jīng)柔性管道連接到抽風(fēng)系統(tǒng)，在激光刻膜的過程中，除塵系統(tǒng)中具有特定抽速的風(fēng)機(jī)開始工作，在管道內(nèi)部產(chǎn)生負(fù)壓，將吸嘴下方、玻璃基板上方空間含膜層顆粒、粉塵的空氣經(jīng)柔性管道吸入除塵系統(tǒng)內(nèi)部，經(jīng)過濾除塵后將尾氣排出至廠務(wù)排風(fēng)系統(tǒng)。此類除塵機(jī)構(gòu)針對(duì)非晶硅單結(jié)薄膜太陽能電池P2/P3刻劃是有效的，但針對(duì)非晶/微晶疊層薄膜太陽能電池P2/P3刻劃，其除塵效果欠佳，原因在于:第一，非晶/微晶薄膜太陽能電池吸收層厚度一般超過1.3 μ m，其厚度遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于非晶硅單結(jié)電池吸收層厚度(一般<500nm)，由于厚度的增加導(dǎo)致P2/P3激光刻劃的過程中產(chǎn)生更多的粉塵和顆粒，使除塵難度加大；第二，微晶硅膜層致密度低于非晶硅膜層，孔隙率高且晶粒呈柱狀生長，導(dǎo)致刻劃過程中產(chǎn)生的顆粒、粉塵的粒徑偏小，一旦落在膜面上，很難將其去除，使除塵的難度加大，一般的除塵系統(tǒng)不能滿足工藝的要求。根據(jù)現(xiàn)場(chǎng)測(cè)試的結(jié)果顯示，殘留在基板上的顆粒和粉塵中，影響太陽能電池電性能，而且超過90%的顆粒和粉塵可以通過氣流吹掃被除去，說明現(xiàn)有激光設(shè)備的除塵效果不理想。
【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本實(shí)用新型解決現(xiàn)有激光刻劃裝置不能同時(shí)兼顧成本和刻劃復(fù)雜圖形的技術(shù)問題，同時(shí)克服傳統(tǒng)激光刻劃裝置在工作運(yùn)行中產(chǎn)生一些較小徑粒的顆粒，影響太陽能電池電性能等問題。
[0005]為了實(shí)現(xiàn)以上任務(wù)，本實(shí)用新型全新概念地設(shè)計(jì)一種硅基薄膜太陽能電池的激光刻劃裝置，主要由支架及光學(xué)系統(tǒng)、除塵機(jī)構(gòu)構(gòu)成，其特征在于所述光學(xué)系統(tǒng)包括激光器、擴(kuò)束鏡、分光鏡、反射鏡、振鏡和聚焦鏡，擴(kuò)束鏡連接激光器和分光鏡，形成多束激光，且每束激光的傳播方向上均依次設(shè)有振鏡及聚光鏡。
[0006]擴(kuò)束鏡連接分光鏡，激光由分光鏡分成反射光和折射光，所述折射光或反射光經(jīng)過反射鏡與反射光或折射光形成平行的激光束，每束激光的傳播方向上均設(shè)有振鏡及聚光鏡，即每束激光均由振鏡偏振處理進(jìn)入聚光鏡聚焦，刻劃膜層。
[0007]分光鏡和振鏡之間裝有擋光裝置，在不需要刻劃對(duì)應(yīng)刻線時(shí)可通過擋光裝置將激光擋住，振鏡包括由電機(jī)控制自由轉(zhuǎn)動(dòng)的X軸振鏡和Z軸振鏡。
[0008]擋光裝置前面設(shè)有反射鏡，可以根據(jù)需要改變激光方向。
[0009]聚焦鏡為F- Θ聚焦鏡，該聚焦鏡的端口有保護(hù)鏡，以防刻劃過程中灰塵污染聚焦鏡。
[0010]光學(xué)系統(tǒng)至少有兩套，每套光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)至少有兩個(gè)振鏡，多束激光同時(shí)對(duì)基片進(jìn)行刻劃，有效提高激光刻劃效率。
[0011]為了去除激光刻劃裝置在工作運(yùn)行中產(chǎn)生一些較小徑粒的顆粒，本實(shí)用新型設(shè)計(jì)的激光刻劃裝置的除塵機(jī)構(gòu)安裝在支架上，位于光學(xué)系統(tǒng)上方，除塵機(jī)構(gòu)主要由除塵罩、粉塵過濾機(jī)構(gòu)和抽氣風(fēng)機(jī)及輔助吹掃構(gòu)件組成。輔助吹掃構(gòu)件包括依次連接的吹掃氣體源、氣體過濾單元、電磁控制閥、氣體壓力控制單元、氣體管道和氣體吹掃單元，氣體管道連通到氣體吹掃單元。除塵罩為倒三角形和梯形疊加形狀的空腔，梯形位于倒三角形下端，呈底端敞口狀，在敞口內(nèi)側(cè)有半圓，在倒三角形頂端依次連接粉塵過濾裝置和抽氣風(fēng)機(jī)。氣體吹掃單元為中空?qǐng)A管，其上分布多個(gè)內(nèi)徑為f 1.5mm的氣孔，該氣孔的末端為圓錐形擴(kuò)孔。氣體吹掃單元的中空?qǐng)A管為不銹鋼管或氯化聚氯乙烯管。氣體吹掃單元為兩個(gè)，分別位于除塵罩的底端敞口的兩外側(cè)，中空?qǐng)A管上的氣孔朝向除塵罩下端的內(nèi)側(cè)。
[0012]本實(shí)用新型的積極效果:
[0013]1.激光刻劃裝置對(duì)激光先分光后偏振，將分光后的激光進(jìn)行偏振，不僅可以刻劃大尺寸的復(fù)雜圖形的電池，還能減少激光器使用數(shù)量，有效降低設(shè)備成本，提高生產(chǎn)效率。突破了傳統(tǒng)具有分光飛行光學(xué)系統(tǒng)或偏振掃描光學(xué)系統(tǒng)的激光刻劃裝置的限制。
[0014]2.本實(shí)用新型設(shè)計(jì)的激光刻劃裝置還能實(shí)時(shí)準(zhǔn)確校正，保證刻劃線高度一致，提高產(chǎn)品質(zhì)量，克服現(xiàn)有激光刻劃裝置分光飛行光學(xué)系統(tǒng)分光后需要校正補(bǔ)償?shù)娜毕荨?br> [0015]3.激光刻劃裝置的除塵機(jī)構(gòu)設(shè)有輔助吹掃構(gòu)件，可以對(duì)激光刻劃后留在膜面上的較小徑粒的顆粒和粉塵進(jìn)行更好的再次吹掃，使得電池芯板不會(huì)因?yàn)闅埩暨@些顆粒和粉塵而降低電性能。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0016]圖1:本實(shí)用新型硅基薄膜太陽能電池激光刻劃裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。[0017]圖2:激光刻劃裝置的除塵機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0018]圖3:實(shí)施例一的示意圖。
[0019]圖4:實(shí)施例二的示意圖。
[0020]圖5:實(shí)施例三的示意圖。
[0021]圖6:圖5中激光刻劃裝置的局部剖面示意圖。
[0022]圖7:激光刻劃裝置中除塵機(jī)構(gòu)的氣體吹掃單元19的吹氣孔結(jié)構(gòu)示意圖。
[0023]圖1至圖7中:1、激光器，2、擴(kuò)束鏡，3、分光鏡，4、Z軸振鏡，5、X軸振鏡，6、聚焦鏡，7、保護(hù)鏡，8、反射鏡，9、擋光裝置，IO、Z軸轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)，11、X軸轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)，12、支架，13、激光系統(tǒng)固定板，14、振鏡罩，15、基片工作臺(tái)，16、吸塵罩支架，17、吸塵罩，18、基片，19、氣體吹掃單元，20、氣體管道，21、氣體壓力控制單元，22、電磁控制閥，23、氣體過濾單元，24、吹掃氣體源，25、抽氣管，26、粉塵過濾裝置，27、抽氣風(fēng)機(jī)。
【具體實(shí)施方式】
[0024]實(shí)施例一
[0025]見圖3，本實(shí)施例的激光刻劃裝置采用單套光學(xué)系統(tǒng)，包括激光器1、擴(kuò)束鏡2、分光鏡3、Z軸振鏡4、X軸振鏡5、聚焦鏡6、保護(hù)鏡7和反射鏡8，激光器I發(fā)出的一束激光經(jīng)過擴(kuò)束鏡2后由分光鏡3分成X軸向的折射光和Y軸向的反射光，折射光經(jīng)Z軸振鏡4偏振后再經(jīng)過X軸振鏡5，使激光向上再經(jīng)聚焦鏡6到達(dá)基片膜層表面，進(jìn)行刻劃，而同時(shí)另一束反射光再經(jīng)過一個(gè)反射鏡8將光路反射成和折射光一致的X軸向后，反射光經(jīng)另一 Z軸振鏡4偏振后再經(jīng)過X軸振鏡5，使激光向上再經(jīng)聚焦鏡6到達(dá)基片膜層表面，進(jìn)行刻劃，由一個(gè)激光器實(shí)現(xiàn)兩束激光同時(shí)刻劃。
[0026]工作時(shí)，基片18放置在基片工作臺(tái)15上，膜面朝上，激光光學(xué)系統(tǒng)在計(jì)算機(jī)控制下協(xié)同工作。
[0027]工作過程中刻劃X軸向刻劃線(垂直于激光頭排列方向)時(shí)，通過計(jì)算機(jī)控制Z軸轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)10帶動(dòng)Z軸振鏡4沿Z軸轉(zhuǎn)動(dòng)到一定初始位置停止，X軸轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)11帶動(dòng)X軸振鏡5沿X軸偏轉(zhuǎn)到第一組刻劃線的起始位置，由機(jī)械手夾持住基片18的兩邊進(jìn)行X軸前后運(yùn)動(dòng)(垂直于激光頭排列方向)，完成第一組六條X軸向刻劃線，第一組X軸向刻劃線完成后，基片18停止運(yùn)動(dòng)，然后X軸轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)11帶動(dòng)X軸振鏡5沿X軸偏轉(zhuǎn)到第二組刻劃線的起始位置，然后機(jī)械手夾持住基片18的兩邊開始下一個(gè)行程，完成第二組六條X軸向刻劃線，依次類推，直至實(shí)現(xiàn)各種間距的刻劃，完成對(duì)基片18的X軸向刻劃線的加工。
[0028]工作過程中刻劃Y軸向刻劃線(平行于激光頭排列的方向)時(shí)，機(jī)械手夾持住基片18的兩邊將玻璃移至第一 Y軸向刻劃線的坐標(biāo)位置，基片位置保持不變，通過計(jì)算機(jī)控制Z軸轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)10帶動(dòng)Z軸振鏡4和X軸轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)11帶動(dòng)X軸振鏡5偏轉(zhuǎn)至初始位置，然后再通過計(jì)算機(jī)控制在X軸轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)11帶動(dòng)X軸振鏡5在定義的角度范圍內(nèi)從初始位置開始按照一定的速度連續(xù)、快速轉(zhuǎn)動(dòng)，使激光束在Y軸向方向上平移，完成各激光頭刻劃區(qū)域內(nèi)Y軸向方向刻劃線的刻劃，之后擋光裝置9關(guān)閉(不出光)，X軸振鏡5回到初始位置，三套激光光學(xué)系統(tǒng)同時(shí)工作，6個(gè)激光頭獨(dú)立完成的6條Y軸向方向刻劃線左右拼接成一條Y軸向刻劃線，完成一條Y軸向刻劃線刻劃后，機(jī)械手夾持住基片18的兩邊將玻璃移至下一條橫向刻劃線的坐標(biāo)位置，各激光光學(xué)模塊內(nèi)擋光裝置9打開，使光束通過，重復(fù)上述過程完成下一條Y軸向刻劃線，依次類推，直到完成最后一條Y軸向刻劃線，至此，完成基片18的刻劃加工。
[0029]實(shí)施例二
[0030]見圖4，本實(shí)施例的激光刻劃裝置的光學(xué)系統(tǒng)包括激光器1、擴(kuò)束鏡2、分光鏡3、Z軸振鏡4、X軸振鏡5、聚焦鏡6、保護(hù)鏡7、反射鏡8和擋光裝置9，激光器I發(fā)出的一束激光經(jīng)過擴(kuò)束鏡2后由分光鏡3分成X軸向的折射光和Y軸向的反射光，折射光先由反射鏡8反射成和反射光一致的Y軸向光路，兩束光路再分別由反射鏡8反射成X軸向的光路，通過分光裝置9再經(jīng)Z軸振鏡4偏振后再經(jīng)過X軸振鏡5，使激光向上再經(jīng)聚焦鏡6到達(dá)基片膜層表面，進(jìn)行刻劃。
[0031]工作時(shí)，基片18放置在基片工作臺(tái)15上，位于除塵機(jī)構(gòu)和光學(xué)系統(tǒng)中間，膜面朝上，激光光學(xué)系統(tǒng)在計(jì)算機(jī)控制下協(xié)同工作。
[0032]激光刻劃裝置的運(yùn)作同實(shí)施例1，在此不再贅述。
[0033]實(shí)施例三
[0034]見圖5，本實(shí)施例的激光刻劃裝置包括三套光學(xué)系統(tǒng)，三套光學(xué)系統(tǒng)Y軸向并排安裝在支架12的激光系統(tǒng)固定板13上，振鏡罩14共有六個(gè)，分別將聚焦鏡6、X軸振鏡5和X軸轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)11罩在內(nèi)部，聚焦鏡6為F- Θ聚焦鏡，保護(hù)鏡7伸出到振鏡罩14上端、振鏡罩14固定在激光系統(tǒng)固定板13上，基片工作臺(tái)15也安裝在支架12上，并在激光刻劃光學(xué)系統(tǒng)上方留有刻劃間隙，且激光刻劃裝置上裝有除塵機(jī)構(gòu)。
[0035]工作時(shí)，基片18放置在基片工作臺(tái)15上，位于除塵機(jī)構(gòu)和光學(xué)系統(tǒng)裝置中間，膜面朝上，三套激光光學(xué)系統(tǒng)相對(duì)獨(dú)立，在計(jì)算機(jī)控制下協(xié)同工作，激光刻劃過程同實(shí)施例1，在此不再贅述，以下重點(diǎn)說明激光刻劃裝置商的除塵機(jī)構(gòu)及其工作原理:
[0036]除塵機(jī)構(gòu)安裝在光學(xué)系統(tǒng)上方，除塵機(jī)構(gòu)中的吸塵罩17的中間部位正對(duì)聚焦鏡9上方的保護(hù)鏡10，吸塵罩17固定安裝在支架上的兩側(cè)的吸塵罩支架15上，吸塵罩17上部通有抽氣管25，抽氣管25經(jīng)過粉塵過濾裝置26與抽氣風(fēng)機(jī)27相連通，在吸塵罩17下端部兩側(cè)邊分別固定有氣體吹掃單元19，氣體吹掃單元19通過氣體管道20依次經(jīng)過氣體壓力控制單元21和電磁控制閥22后再經(jīng)氣體過濾單元23與吹掃氣體源24相連通，其中，吹掃氣體源24為無油壓縮空氣或氮?dú)?，氣體過濾單元25由兩部分組成，一級(jí)過濾系統(tǒng)主要過濾氣體中的顆粒，二級(jí)過濾系統(tǒng)用活性炭吸附氣體中的水分子和油分子；氣體壓力控制單元21由手動(dòng)球閥控制，將氣體壓力控制在6bar，控制氣體導(dǎo)入/切斷的電磁控制閥22，其控制信號(hào)為+24V直流信號(hào)，由機(jī)臺(tái)控制系統(tǒng)控制該觸發(fā)信號(hào)，氣體通過三通接頭將氣體由一路分為兩路氣體管道20，分別連接到固定在除塵吸嘴上的兩個(gè)氣體吹掃單元19上，高壓氣體通入氣體吹掃單元19的由CPVC制成的中空管道后，在管道內(nèi)外的壓差作用下，氣體將從中空管道上密排的直徑為1.5_小孔中噴出，形成較快速的線形氣流，氣流作用在基片18的膜面上，氣流方向與基板法線方向的夾角約15?30°，膜面上的粉塵、顆粒在外部氣流的擾動(dòng)作用下被再次吹離基片18表面，然后被上方的除塵吸嘴吸入除塵系統(tǒng)內(nèi)部。
[0037]除塵機(jī)構(gòu)的具體操作過程:基片18被定位夾緊后，除塵系統(tǒng)的抽氣風(fēng)機(jī)27開始啟動(dòng)，設(shè)備控制系統(tǒng)(CNC或運(yùn)動(dòng)控制卡)控制電磁控制閥22打開，使氣體通入氣體吹掃單元19形成線形的氣流，之后，設(shè)備控制系統(tǒng)控制光學(xué)系統(tǒng)的各子系統(tǒng)開始刻劃程序，刻劃過程中，激光束作用在玻璃基片18的膜層上時(shí)，被去除的膜層材料形成大量的小尺寸顆粒和粉塵，大部分顆粒和粉塵在離開膜層的過程中被除塵系統(tǒng)吸入、過濾收集起來，小部分顆粒和粉塵未及時(shí)被吸入除塵系統(tǒng)，在重力作用下重新落回到基板膜面上，在輔助吹掃構(gòu)件的氣流的吹掃、擾動(dòng)作用下，被氣流吹掃到的基片18的膜層上的粉塵、顆粒將重新離開基片18的表面，然后被吸入除塵系統(tǒng)后排出收集起來。
【權(quán)利要求】
1.一種用于硅基薄膜太陽能電池的激光刻劃裝置，主要由支架及光學(xué)系統(tǒng)、除塵機(jī)構(gòu)構(gòu)成，其特征在于所述光學(xué)系統(tǒng)包括激光器、擴(kuò)束鏡、分光鏡、反射鏡、振鏡和聚焦鏡，擴(kuò)束鏡連接激光器和分光鏡，形成多束激光，且每束激光的傳播方向上均依次設(shè)有振鏡及聚光鏡。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于硅基薄膜太陽能電池的激光刻劃裝置，其特征在于所述分光鏡和振鏡之間裝有擋光裝置或反射鏡，振鏡包括由電機(jī)控制自由轉(zhuǎn)動(dòng)的X軸振鏡和Z軸振鏡。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于硅基薄膜太陽能電池的激光刻劃裝置，其特征在于所述擋光裝置前面安裝有反射鏡。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于硅基薄膜太陽能電池的激光刻劃裝置，其特征在于所述聚焦鏡為F-Θ聚焦鏡，在聚焦鏡端口安裝有保護(hù)鏡。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于硅基薄膜太陽能電池的激光刻劃裝置，其特征在于所述除塵機(jī)構(gòu)安裝在支架上，主要由除塵罩、粉塵過濾機(jī)構(gòu)和抽氣風(fēng)機(jī)及輔助吹掃構(gòu)件組成。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于硅基薄膜太陽能電池的激光刻劃裝置，其特征在于所述輔助吹掃構(gòu)件包括依次連接的吹掃氣體源、氣體過濾單元、電磁控制閥、氣體壓力控制單元、氣體管道和氣體吹掃單元，氣體管道連通到氣體吹掃單元。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于硅基薄膜太陽能電池的激光刻劃裝置，其特征在于所述除塵罩為倒三角形和梯形疊加形狀的空腔，梯形位于倒三角形下端，呈底端敞口狀，在敞口內(nèi)側(cè)有半圓，在倒三角形頂端連接依次安裝粉塵過濾裝置和抽氣風(fēng)機(jī)。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于硅基薄膜太陽能電池的激光刻劃裝置，其特征在于所述氣體吹掃單元為中空?qǐng)A管，其上分布多個(gè)內(nèi)徑為f 1.5mm的氣孔，該氣孔的末端為圓錐形擴(kuò)孔。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于硅基薄膜太陽能電池的激光刻劃裝置，其特征在于所述氣體吹掃單元的中空?qǐng)A管為不銹鋼管或氯化聚氯乙烯管，中空?qǐng)A管上的氣孔朝向除塵罩下端的內(nèi)側(cè)。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于硅基薄膜太陽能電池的激光刻劃裝置，其特征在于所述氣體吹掃單元有兩個(gè)，分布在除塵罩的底端敞口的兩外側(cè)。
【文檔編號(hào)】B23K26/142GK203636205SQ201320597396
【公開日】2014年6月11日 申請(qǐng)日期:2013年9月26日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月26日
【發(fā)明者】李毅 申請(qǐng)人:深圳市創(chuàng)益科技發(fā)展有限公司