專(zhuān)利名稱：可提升太陽(yáng)能電池轉(zhuǎn)化效率的雷射劃線定位技術(shù)方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明系一種可提升太陽(yáng)能電池轉(zhuǎn)化效率的雷射劃線定位技術(shù)方法，其目的提高可進(jìn)行光電轉(zhuǎn)化效率區(qū)之利用。
背景技術(shù)：
目前，太陽(yáng)能電池是大面積制模，但由于導(dǎo)電層阻力引起的損失使電池?zé)o法得到高效率，因此有必要分割為復(fù)數(shù)電池單元，并使其形成集成化。而其中雷射制程就是利用雷射劃線方式設(shè)計(jì)出可進(jìn)行光電轉(zhuǎn)化的電池單元，并使其集成。業(yè)界于雷射制程進(jìn)行時(shí)，大多采用基板側(cè)邊定位方式，但此方式仍有缺點(diǎn)存在。所謂基板側(cè)邊定位方式是指利用太陽(yáng)能基板邊緣做為雷射刻劃基準(zhǔn)線，進(jìn)行間距式雷射制程線刻劃。而太陽(yáng)能電池設(shè)備中有3 4道以上雷射制程不等，由于各雷射制程為非單機(jī)非連續(xù)制程，各設(shè)備間均存在結(jié)構(gòu)上機(jī)械誤差，導(dǎo)致于基板側(cè)邊定位精確度不同，最后造成各設(shè)備于基板刻劃雷射線平行度不一，只好加大線間距以避免雷射刻線交錯(cuò)，導(dǎo)致無(wú)法有效利用光電轉(zhuǎn)化效率區(qū)，進(jìn)而影響光電轉(zhuǎn) 化效率。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明系一種可提升太陽(yáng)能電池轉(zhuǎn)化效率的雷射劃線定位技術(shù)方法，包含基板進(jìn)出傳送裝置，夾持裝置，對(duì)位CXD系統(tǒng)，laser劃線系統(tǒng)及十字定位刻線。先于第一道雷射制程中增加刻劃十字定位刻線，使雷射刻線制程定位點(diǎn)為十字定位刻線，以此為基淮完成雷射刻線制程。其動(dòng)作流程系先將基板置放于第一道雷射制程設(shè)備基板進(jìn)出傳裝置，傳到定點(diǎn)并給予夾持裝置夾持，通過(guò)laser劃線系統(tǒng)計(jì)算于基板的其中一角落進(jìn)行十字定位刻線，再以定位CCD系統(tǒng)確認(rèn)十字定位刻線X/Y軸方向，經(jīng)由laser劃線系統(tǒng)計(jì)算以十字定位刻線為基準(zhǔn)線，第一道雷射制程的起始刻劃位置并進(jìn)行第一道雷射制程刻劃，刻劃完成后放開(kāi)夾持部，由基板進(jìn)出傳送裝置傳送出?；逵M(jìn)行制備第二道雷射制程時(shí)，將基板置放于第二道雷射制程設(shè)備基板進(jìn)出傳裝置進(jìn)出傳裝置，傳到定點(diǎn)并給予夾持夾持裝置夾持，以定位CCD系統(tǒng)確認(rèn)十字定位刻線X/Y軸方向，經(jīng)由laser劃線系統(tǒng)計(jì)算以十字定位刻線為基準(zhǔn)線，第二道雷射制程的起始刻劃位置并進(jìn)行第二道雷射制程刻劃，刻劃完成后放開(kāi)夾持部，由基板進(jìn)出傳送裝置傳送出。后續(xù)不論第η道雷射制程流程均同于第二道雷射制程。本發(fā)明藉以增加雷射刻線十字定位線，避免各設(shè)備因?yàn)榻Y(jié)構(gòu)上機(jī)械誤差，造成基板側(cè)邊定位精確度不同所造成之定位變異，以提高各設(shè)備刻線相互平行度，完成一種可提升太陽(yáng)能電池轉(zhuǎn)化效率的雷射劃線定位技術(shù)方法；有效提高光電轉(zhuǎn)化效率區(qū)利用，進(jìn)而提升太陽(yáng)能電池效率。
具體實(shí)施例方式茲將本發(fā)明配合附圖，詳細(xì)說(shuō)明如下請(qǐng)參閱第一圖，為本發(fā)明系一種可提升太陽(yáng)能電池轉(zhuǎn)化效率的雷射劃線定位技術(shù)方法之動(dòng)作流程方塊示意圖，由圖中可知，系將欲進(jìn)行第一道雷射制程基板置入第一道雷射制程設(shè)備進(jìn)行刻劃十字定位刻線及l(fā)aser劃線系統(tǒng)計(jì)算以十字定位刻線為基準(zhǔn)線，第一道雷射制程的起始刻劃位置并進(jìn)行第一道雷射制程刻劃完成后傳送出。欲進(jìn)行第二道雷射制程基板置入第二道雷射制程設(shè)備確認(rèn)十字定位刻線及l(fā)aser劃線系統(tǒng)計(jì)算以十字定位刻線為基準(zhǔn)線，第二道雷射制程的起始刻劃位置并進(jìn)行第二道雷射制程刻劃完成后傳送出，欲進(jìn)行第η道雷射制程基板置入第η道雷射制程設(shè)備確認(rèn)十字定位刻線及l(fā)aser劃線系統(tǒng)計(jì)算以十字定位刻線為基準(zhǔn)線，第η道雷射制程的起始刻劃位置并進(jìn)行第二道雷射制程刻劃完成后傳送出，藉以增加雷射刻線十字定位線，減少設(shè)備間定位變異，提高各設(shè)備刻線相互平行度，有效提高光電轉(zhuǎn)化效率區(qū)利用，完成一種關(guān)于可提升太陽(yáng)能電池轉(zhuǎn)化效率的雷射劃線定位技術(shù)方法。請(qǐng)參閱第二圖，為本發(fā)明一種可提升太陽(yáng)能電池轉(zhuǎn)化效率的雷射劃線定位技術(shù)方法之第一道雷射制程設(shè)備刻劃十字定位線動(dòng)作示意圖，由圖中可知，欲進(jìn)行第一道雷射制程基板I由進(jìn)出傳送裝置5將基置入定位點(diǎn)，由夾持裝置2進(jìn)行夾持固定，通過(guò)laser劃線系統(tǒng)6計(jì)算，于基板的其中一角落進(jìn)行十字定位刻線4。
請(qǐng)參閱第三圖，為本發(fā)明一種可提升太陽(yáng)能電池轉(zhuǎn)化效率的雷射劃線定位技術(shù)方法之第一道雷射制程設(shè)備定位CCD系統(tǒng)確認(rèn)十字定位線動(dòng)作示意圖，以定位CCD系統(tǒng)3確認(rèn)十字定位刻線4X/Y軸方向，再經(jīng)laser劃線系統(tǒng)6計(jì)算第一道雷射制程線起始刻劃位置。請(qǐng)參閱第四圖，為本發(fā)明一種可提升太陽(yáng)能電池轉(zhuǎn)化效率的雷射劃線定位技術(shù)方法之第一道雷射制程設(shè)備刻劃線動(dòng)作示意圖，laser劃線系統(tǒng)6計(jì)算第一道雷射制程線起始刻劃位置并進(jìn)行刻劃。請(qǐng)參閱第五圖，為本發(fā)明一種可提升太陽(yáng)能電池轉(zhuǎn)化效率的雷射劃線定位技術(shù)方法之第二道雷射制程設(shè)備定位CCD系統(tǒng)確認(rèn)十字定位線動(dòng)作示意圖，以定位CCD系統(tǒng)3確認(rèn)十字定位刻線4X/Y軸方向，再經(jīng)laser劃線系統(tǒng)6計(jì)算第二道雷射制程線起始刻劃位置。請(qǐng)參閱第六圖，為本發(fā)明一種可提升太陽(yáng)能電池轉(zhuǎn)化效率的雷射劃線定位技術(shù)方法之第二道雷射制程設(shè)備刻劃線動(dòng)作示意圖，laser劃線系統(tǒng)6計(jì)算第二道雷射制程線起始刻劃位置并進(jìn)行刻劃。請(qǐng)參閱第七圖，為本發(fā)明一種可提升太陽(yáng)能電池轉(zhuǎn)化效率的雷射劃線定位技術(shù)方法之第η道雷射制程設(shè)備定位CCD系統(tǒng)確認(rèn)十字定位線動(dòng)作示意圖，以定位CCD系統(tǒng)3確認(rèn)十字定位刻線4Χ/Υ軸方向，再經(jīng)laser劃線系統(tǒng)6計(jì)算第η道雷射制程線起始刻劃位置。請(qǐng)參閱第八圖，為本發(fā)明一種可提升太陽(yáng)能電池轉(zhuǎn)化效率的雷射劃線定位技術(shù)方法之第η道雷射制程設(shè)備刻劃線動(dòng)作示意圖，laser劃線系統(tǒng)6計(jì)算第η道雷射制程線起始刻劃位置并進(jìn)行刻劃。以上說(shuō)明，對(duì)本發(fā)明而言只是說(shuō)明性的，非限制性的，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員理解，在不脫離權(quán)利要求所限定的精神和范圍的情況下，可作出許多修正、變化或等效，但都將落入本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。


下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步說(shuō)明。
圖I是本發(fā)明之動(dòng)作流程方塊示意圖。圖2是本發(fā)明之第一道雷射制程刻劃設(shè)備十字定位線動(dòng)作示意圖。圖3是本發(fā)明之第一道雷射制程設(shè)備定位CCD系統(tǒng)確認(rèn)十字定位線示意圖。圖4是本發(fā)明之第一道雷射制程設(shè)備刻劃線動(dòng)作示意圖。圖5是本發(fā)明之第二道雷射制程設(shè)備定位CCD系統(tǒng)確認(rèn)十字定位線示意6是本發(fā)明之第二道雷射制程設(shè)備刻劃線動(dòng)作槽動(dòng)作示意圖。圖7是本發(fā)明之第η道雷射制程設(shè)備定位CCD系統(tǒng)確認(rèn)十字定位線示意8是本發(fā)明之第η道雷射制程設(shè)備刻劃線動(dòng)作槽動(dòng)作示意圖。主要元件符號(hào)說(shuō)明 I…太陽(yáng)能基板2…夾持裝置3 …定位 CCD4----h字定位線5…基板進(jìn)出傳送裝置6…laser劃線系統(tǒng)
權(quán)利要求
1.本發(fā)明系一種可提升太陽(yáng)能電池轉(zhuǎn)化效率的雷射劃線定位技術(shù)方法，其技術(shù)方法包含基板進(jìn)出傳送裝置，夾持裝置，對(duì)位CCD，laser劃線系統(tǒng)及十字定位刻線，先將基板置放于第一道雷射制程設(shè)備基板進(jìn)出傳裝置，傳到定點(diǎn)并給予夾持裝置夾持。通過(guò)laser劃線系統(tǒng)計(jì)算于基板的其中一角落進(jìn)行十字定位刻線，再以定位CCD確認(rèn)十字定位刻線X/Y軸方向，再經(jīng)laser劃線系統(tǒng)計(jì)算以十字定位刻線為基準(zhǔn)線，第一道雷射制程的起始刻劃位置并進(jìn)行第一道雷射制程刻劃，刻劃完成后放開(kāi)夾持部，由基板進(jìn)出傳送裝置傳送出?；逵M(jìn)行制備第二道雷射制程時(shí)，將基板置放于第二道雷射制程設(shè)備基板進(jìn)出傳裝置進(jìn)出傳裝置，傳到定點(diǎn)并給予夾持夾持裝置夾持，以定位CCD確認(rèn)十字定位刻線X/Y軸方向，經(jīng)由laser劃線系統(tǒng)計(jì)算以十字定位刻線為基準(zhǔn)線，第二道雷射制程的起始刻劃位置并進(jìn)行第二道雷射制程刻劃，刻劃完成后放開(kāi)夾持部，由基板進(jìn)出傳送裝置傳送出。后續(xù)不論第η道雷射制程流程均同于第二道雷射制程。藉以增加雷射刻線十字定位線，免除基板側(cè)邊定位精度不同造成影響，而提高各設(shè)備刻線相互平行度，完成一種可提升太陽(yáng)能電池轉(zhuǎn)化效率的雷射劃線定位技術(shù)方法；有效提高光電轉(zhuǎn)化效率區(qū)利用，進(jìn)而提升太陽(yáng)能電池效率。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種可提升太陽(yáng)能電池轉(zhuǎn)化效率的雷射劃線定位技術(shù)方法，其中該十字定位刻線，于欲進(jìn)行第一道雷射制程基板由第一道雷射制程設(shè)備進(jìn)出傳送裝置將基置入定位點(diǎn)，由夾持裝置進(jìn)行夾持固定，通過(guò)laser劃線系統(tǒng)計(jì)算于基板的其中一角落進(jìn)行十字定位刻線，并做為后續(xù)雷射制程設(shè)備劃線定位線。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的種可提升太陽(yáng)能電池轉(zhuǎn)化效率的雷射劃線定位技術(shù)方法，其中該基板進(jìn)出傳送裝置，是以一般載具，導(dǎo)軌形式將基板運(yùn)送至夾持裝置或載出基板。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種可提升太陽(yáng)能電池轉(zhuǎn)化效率的雷射劃線定位技術(shù)方法，其中該夾持裝置是一種夾持方式，使其基板進(jìn)行固定。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種可提升太陽(yáng)能電池轉(zhuǎn)化效率的雷射劃線定位技術(shù)方法，其中該對(duì)位CCD是以影象截取及分析方式，進(jìn)行確認(rèn)十字定位刻線X/Y軸方向。
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種可提升太陽(yáng)能電池轉(zhuǎn)化效率的雷射劃線定位技術(shù)方法，其中該laser劃線系統(tǒng)是為進(jìn)行基板刻劃十字定位刻線及對(duì)位CCD分析后進(jìn)行雷射制程劃線。
全文摘要
本發(fā)明為一種可提升太陽(yáng)能電池轉(zhuǎn)化效率的雷射劃線定位技術(shù)方法，包含基板進(jìn)出傳送裝置，夾持裝置，對(duì)位CCD系統(tǒng)，laser劃線系統(tǒng)及十字定位刻線。此技術(shù)方法先于第一道雷射制程中增加刻劃十字定位刻線，后續(xù)雷射刻線制程設(shè)備均以此十字定位刻線為基淮，以完成相對(duì)應(yīng)雷射刻線制程。本發(fā)明系以增加雷射刻線十字定位線，避免各設(shè)備因?yàn)榻Y(jié)構(gòu)上機(jī)械誤差，而造成基板側(cè)邊定位精準(zhǔn)度不同所成的定位變異，完成一種提高各設(shè)備刻線之相互平行度，有效提高光電轉(zhuǎn)化效率區(qū)之利用，進(jìn)而提升太陽(yáng)能電池效率。是一種可有效提升太陽(yáng)能電池轉(zhuǎn)化效率的雷射劃線定位技術(shù)方法。
文檔編號(hào)B23K26/42GK102825389SQ20111015961
公開(kāi)日2012年12月19日 申請(qǐng)日期2011年6月15日 優(yōu)先權(quán)日2011年6月15日
發(fā)明者許純獻(xiàn), 劉幼海, 劉吉人 申請(qǐng)人:吉富新能源科技(上海)有限公司