專利名稱：擴(kuò)散片、背光、液晶顯示裝置以及制造擴(kuò)散片的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及在表面上形成具有凸?fàn)畹慕Y(jié)構(gòu)體的擴(kuò)散片、制造擴(kuò)散片的方法、包括擴(kuò)散片的背光以及液晶顯示裝置。
背景技術(shù)：
過去，已經(jīng)將各種類型的光學(xué)片用作組合在液晶顯示裝置中的背光。例如，示例出了一種擴(kuò)散片作為各種類型的光學(xué)片的最重要的片材之一。已經(jīng)知道了一種在透明片基材的主表面上形成有凸形微透鏡(microlens)組的擴(kuò)散片(例如，參見日本專利申請公開第 2006-318668 號)。

發(fā)明內(nèi)容
近年來，由于液晶顯示裝置逐漸變得更薄，因此也進(jìn)一步期望擴(kuò)散片變得更薄。擴(kuò)散片被配置在光源和液晶面板之間，并且具有擴(kuò)散從光源輸出的光以消除亮度不均勻性或亮點(diǎn)的功能。也就是說，隨著擴(kuò)散片具有較高的霧度(haze)，擴(kuò)散片的光擴(kuò)散功能也變得較高。相反，隨著擴(kuò)散片具有較高的霧度，液晶面板在正面方向上的亮度也變得較低。鑒于上述情況，期望提供一種在抑制正面方向上的亮度降低的同時(shí)能夠提高光擴(kuò)散功能的擴(kuò)散片、包括該擴(kuò)散片的背光、液晶顯示裝置以及制造擴(kuò)散片的方法。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式，提供了一種包括透光基材、多個(gè)結(jié)構(gòu)體和平坦部的擴(kuò)散片。透光基材具有第一主表面和第二主表面。多個(gè)結(jié)構(gòu)體具有隨機(jī)地形成在第一主表面上的凸?fàn)?。平坦部形成在第一主表面上的多個(gè)結(jié)構(gòu)體之間，并且具有小于等于0. 6 μ m的表面粗糙度(Ra)。在上述擴(kuò)散片中，結(jié)構(gòu)體具有擴(kuò)散并會聚通過透光基材所傳輸?shù)墓獾墓δ?。由于結(jié)構(gòu)體隨機(jī)地形成在第一主表面上，因此可以抑制波紋(moire)的產(chǎn)生。此外，形成在第一主表面上的多個(gè)結(jié)構(gòu)體之間的平坦部具有小于等于0. 6 μ m的表面粗糙度(Ra 算術(shù)平均粗糙度)。因此，該平坦部具有光擴(kuò)散功能。因此，通過上述擴(kuò)散片，可以在抑制正面方向上的亮度降低的同時(shí)來提高光擴(kuò)散功能。平坦部具有大于等于0. 2 μ m小于等于0. 6 μ m的表面粗糙度(Ra)。如果平坦部的表面粗糙度小于0. 2 μ m，則擴(kuò)散片的霧度的上升率很小。另外，如果平坦部的表面粗糙度大于0.6 μ m，盡管擴(kuò)散片的霧度的上升率變大，但正面亮度的下降率也變大?？梢栽谕ㄟ^將平坦部的表面粗糙度設(shè)定在上述范圍內(nèi)來抑制正面亮度大幅降低的同時(shí)，來增加霧度。當(dāng)平坦部的粗糙度具有方向性時(shí)，則粗糙度在至少一個(gè)方向上小于等于0. 6 μ m就已足夠。第二主表面可以具有小于等于0.5μπι的表面粗糙度(Ra)。因此，可以增加擴(kuò)散片的霧度。此外，第二主表面的摩擦力被降低為使得防止第二主表面破損。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式，提供了一種包括擴(kuò)散片和光源的背光。
該擴(kuò)散片包括透光基材、多個(gè)結(jié)構(gòu)體和平坦部。透光基材具有第一主表面和第二主表面。多個(gè)結(jié)構(gòu)體具有隨機(jī)地形成在第一主表面上的凸?fàn)?。平坦部形成在第一主表面上的多個(gè)結(jié)構(gòu)體之間，并且具有小于等于0. 6 μ m的表面粗糙度(Ra)。光源被配置在第二主表面?zhèn)壬稀８鶕?jù)本發(fā)明的實(shí)施方式，提供了一種包括擴(kuò)散片、光源和液晶面板的液晶顯示裝置。該擴(kuò)散片包括透光基材、多個(gè)結(jié)構(gòu)體和平坦部。透光基材具有第一主表面和第二主表面。多個(gè)結(jié)構(gòu)體具有隨機(jī)地形成在第一主表面上的凸?fàn)睢Ｆ教共啃纬稍诘谝恢鞅砻嫔系亩鄠€(gè)結(jié)構(gòu)體之間，并且具有小于等于0. 6 μ m的表面粗糙度(Ra)。光源被配置在第二主表面?zhèn)壬?。液晶面板被配置在第一主表面?zhèn)壬稀Ｔ谏鲜霰彻夂鸵壕э@示裝置中，擴(kuò)散片具有光擴(kuò)散功能和光會聚功能。由于結(jié)構(gòu)體隨機(jī)地形成在第一主表面上，因此可以抑制波紋的產(chǎn)生。此外，形成在第一主表面上的多個(gè)結(jié)構(gòu)體之間的平坦部具有小于等于0. 6 μ m的表面粗糙度(Ra 算術(shù)平均粗糙度)。因此， 平坦部具有光擴(kuò)散功能。因此，可以在抑制正面方向上的亮度降低的同時(shí)提高光擴(kuò)散功能。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式，提供了一種制造擴(kuò)散片的方法，該方法包括在抗蝕劑層 (形成于母板制作基材的表面上)上形成隨機(jī)曝光圖案。通過使其上形成隨機(jī)曝光圖案的抗蝕劑層顯影，而在該抗蝕劑層上形成具有隨機(jī)圖案的開口。使用其上形成有開口的的抗蝕劑層作為掩模，而通過蝕刻母板制作基材，來制作母板，該母板具有形成為對應(yīng)于開口的凹部和由抗蝕劑層覆蓋的平坦部。將該平坦部粗糙化，以具有小于等于0. 6 μ m的表面粗糙度(Ra)。將母板的凹部和粗糙化的平坦部的形狀轉(zhuǎn)印至透光基材的主表面上，以制作擴(kuò)散片，該擴(kuò)散片具有多個(gè)凸?fàn)罱Y(jié)構(gòu)體和配置在多個(gè)結(jié)構(gòu)體之間的粗糙化平坦部。通過上述制造擴(kuò)散片的方法，制造了一種擴(kuò)散片，其中，在其主表面上形成具有光擴(kuò)散功能和光會聚功能的結(jié)構(gòu)體以及具有光擴(kuò)散功能的平坦部。因此，可以在抑制正面方向上的亮度降低的同時(shí)來提高光擴(kuò)散功能。平坦部的粗糙化包括通過吹噴粒子來照射平坦部的吹噴(blast)處理。此外，可以通過采用母板的表面的包括激光處理、鋼絲刷(wire brushing)處理和研磨處理的其他表面處理方法，而將母板的平坦部粗糙化。在吹噴處理中，通過使用粒子直徑均大于每個(gè)凹部的開口直徑的吹噴粒子，來防止凹部的內(nèi)表面被粗糙化。因此，可以保持?jǐn)U散片的結(jié)構(gòu)體的表面平滑度，并可以抑制正面亮度的降低。如上所述，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式，提供了一種在抑制正面方向上的亮度降低的同時(shí)而能夠提高光擴(kuò)散功能的擴(kuò)散片。此外，可以通過將擴(kuò)散片結(jié)合在背光或液晶顯示裝置中，來提供亮度不均勻性降低且正面亮度增加的背光或液晶顯示裝置。如附圖所示出的，根據(jù)本發(fā)明最佳實(shí)施方式的以下詳細(xì)描述，本發(fā)明的這些和其他目的、特征和優(yōu)點(diǎn)將變得更加顯而易見。


圖IA是示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的擴(kuò)散片的主要部分的示意性透視圖，圖IB 是示出了其主要部分的示意性平面圖；圖2A是示出了形成在擴(kuò)散片的主表面上的結(jié)構(gòu)體的示意性截面圖，圖2B是示出了該結(jié)構(gòu)體的構(gòu)造的修改例的截面圖；圖3A至圖3G是示出了用于解釋制造根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的擴(kuò)散片的方法的每個(gè)步驟的示意性截面圖；圖4A和圖4B是示出了用于制造根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的擴(kuò)散片的成型裝置的構(gòu)造實(shí)例的示意圖，圖4A是示出了熔體擠出成型裝置(melt extrusion molding apparatus) 的示意圖，圖4B是示出了層壓板轉(zhuǎn)印成型裝置(laminate transfer molding apparatus) 的示意圖；圖5A至圖5C是示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的液晶顯示裝置的示意性構(gòu)造圖，圖 5A示出了第一構(gòu)造實(shí)例的示意圖，圖5B示出了第二構(gòu)造實(shí)例，并且圖5C示出了第三構(gòu)造實(shí)例；圖6是示出了表示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的擴(kuò)散片的背面的霧度與正面方向上的損失亮度之間的關(guān)系的一個(gè)實(shí)驗(yàn)結(jié)果的曲線圖；圖7是示出了一個(gè)實(shí)驗(yàn)結(jié)果的曲線圖，該實(shí)驗(yàn)結(jié)果表示在用于制造根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的擴(kuò)散片的母板上進(jìn)行吹噴處理時(shí)、吹噴粒子(blast particle)的排出壓力與通過使用該母板所制作的擴(kuò)散片的霧度之間的關(guān)系；圖8是示出了一個(gè)實(shí)驗(yàn)結(jié)果的曲線圖，該實(shí)驗(yàn)結(jié)果表示在用于制造根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的擴(kuò)散片的母板上進(jìn)行吹噴處理時(shí)、吹噴粒子的排出壓力與通過使用該母板所制作的擴(kuò)散片的正面亮度之間的關(guān)系；圖9是示出了一個(gè)實(shí)驗(yàn)結(jié)果的曲線圖，該實(shí)驗(yàn)結(jié)果表示在用于制造根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的擴(kuò)散片的母板上進(jìn)行吹噴處理時(shí)、吹噴粒子的排出壓力與該母板的表面粗糙度 (Ra)之間的關(guān)系；圖10是示出了一個(gè)實(shí)驗(yàn)結(jié)果的曲線圖，該實(shí)驗(yàn)結(jié)果表示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的擴(kuò)散片上的平坦部的表面粗糙度與霧度上升率之間的關(guān)系；圖11是示出了一個(gè)實(shí)驗(yàn)結(jié)果的曲線圖，該實(shí)驗(yàn)結(jié)果表示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的擴(kuò)散片上的平坦部的表面粗糙度與正面方向上的亮度的下降率之間的關(guān)系；圖12是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的擴(kuò)散片的主表面的放大畫面，該擴(kuò)散片是通過以 0. 5kPa的排出壓力而在用于制造擴(kuò)散片的母板上進(jìn)行吹噴處理所獲得的；圖13是示出了如圖12所示的擴(kuò)散片上的平坦部的表面粗糙度的測量結(jié)果的畫圖14是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的擴(kuò)散片的主表面的放大畫面，該擴(kuò)散片是通過以 1. OkPa的排出壓力而在用于制造擴(kuò)散片的母板上執(zhí)行吹噴處理所獲得的；圖15是示出了如圖14所示的擴(kuò)散片上的平坦部的表面粗糙度的測量結(jié)果的畫 圖16是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的擴(kuò)散片的主表面的放大畫面，該擴(kuò)散片是通過以 1. 5kPa的排出壓力而在用于制造擴(kuò)散片的母板上執(zhí)行吹噴處理所獲得的；
圖17是示出了如圖16所示的擴(kuò)散片上的平坦部的表面粗糙度的測量結(jié)果的畫圖18A是示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的擴(kuò)散片的修改例的主要部分的截面圖，圖18B為其透視圖；以及圖19是示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的擴(kuò)散片的修改例的電子顯微畫面。
具體實(shí)施例方式下文中，將參考附圖來描述本發(fā)明的實(shí)施方式。<第一實(shí)施方式>(擴(kuò)散片的構(gòu)造)圖IA是示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的擴(kuò)散片的主要部分的示意性透視圖。圖IB 是示出了擴(kuò)散片的主要部分的示意性平面圖。根據(jù)該實(shí)施方式的擴(kuò)散片1具有基材11、凸?fàn)罱Y(jié)構(gòu)體12和平坦部13。基材11具有主表面(第一主表面)Ila和主表面(第二主表面)lib。結(jié)構(gòu)體12形成在基材11的一個(gè)主表面Ila上。平坦部13形成在主表面Ila上的結(jié)構(gòu)體12之間。擴(kuò)散片1的背面?zhèn)鹊闹鞅砻鎙ib形成光的入射面，擴(kuò)散片1的前表面?zhèn)鹊闹鞅砻?Ila形成光的輸出面。擴(kuò)散片1的兩個(gè)主表面Ila和lib與空氣相接觸。主表面Ila通過利用主表面Ila與空氣層之間的界面上的折射率差，而具有諸如光擴(kuò)散功能和光會聚功能的光學(xué)功能。具體地，結(jié)構(gòu)體12具有光擴(kuò)散功能和光會聚功能，而平坦部13具有光擴(kuò)散功能。具有透明特性的片材或薄膜可以被用作基材11。例如，已知的高分子材料可用作基材11的材料。三乙酰纖維素(TAC)、聚酯(TPEE)、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚酰亞胺 (PI)、聚酰胺(PA)、芳族聚酰胺、聚乙烯(PE)、聚丙烯酸酯、聚醚砜、聚砜、聚丙烯(PP)、二乙酰纖維素、聚氯乙烯、丙烯酸樹脂(PMMA)、聚碳酸酯(PC)、環(huán)氧樹脂、尿素樹脂，氨酯樹脂、 聚氰胺樹脂等示例為已知的聚合物材料。如果需要，基材11可以包含填充劑、增塑劑、穩(wěn)定劑、抗降解劑、分散劑、阻燃劑、紫外線吸收劑等?；?1的厚度沒有特別限制，例如，從生產(chǎn)率的觀點(diǎn)來看，其厚度在25 μ m至300 μ m的范圍內(nèi)。多個(gè)凸?fàn)罱Y(jié)構(gòu)體12隨機(jī)地(不規(guī)則地)形成在基材11的主表面Ila上。這些結(jié)構(gòu)體12整體地形成在基材11的主表面Ila上。也就是說，擴(kuò)散片1具有由單熱塑樹脂材料形成的單層結(jié)構(gòu)。與具有多層結(jié)構(gòu)的擴(kuò)散片不同，通過采用這種單層結(jié)構(gòu)不會發(fā)生界面反射，從而提高了亮度。此外，形成擴(kuò)散片1的樹脂可以循環(huán)再使用。(結(jié)構(gòu)體)形成在基材11的主表面Ila上的每個(gè)結(jié)構(gòu)體12均具有相同或基本相同的形狀。 在該實(shí)施方式中，每個(gè)結(jié)構(gòu)體12均具有部分球面形狀。該部分球面形狀是通過切除球面形狀的一部分所獲得的形狀?？紤]到結(jié)構(gòu)體在如下所述的制造過程中的脫模性(demolding)， 該部分球面形狀小于半球狀是優(yōu)選的。此外，該部分球面形狀包括基本的部分球面形狀。 與部分球面形狀相比較，本文中的基本的部分球面形狀指的是在不引起光學(xué)特性(諸如亮度)惡化的情況下使部分球面形狀在一范圍內(nèi)輕微變形所獲得的形狀。圖加是用于解釋每個(gè)結(jié)構(gòu)體12的形狀的示意圖。每個(gè)結(jié)構(gòu)體12的尺寸可以根據(jù)結(jié)構(gòu)體12的形狀轉(zhuǎn)印方法來選擇。例如，當(dāng)采用熔體擠出成型方法作為形狀轉(zhuǎn)印方法時(shí)， 結(jié)構(gòu)體12的環(huán)形底面的平均直徑D大于等于50 μ m小于等于100 μ m。如果平均直徑D小于50 μ m，則可轉(zhuǎn)印性趨于降低。相反，如果平均直徑D大于100 μ m,則當(dāng)擴(kuò)散片1安裝在液晶顯示裝置上時(shí)，可見度趨于降低。另一方面，例如，當(dāng)采用層壓板轉(zhuǎn)印成型方法作為形狀轉(zhuǎn)印方法時(shí)，結(jié)構(gòu)體12的環(huán)形底面的平均直徑D大于等于20 μ m小于等于50 μ m。如果平均直徑D小于20 μ m,則制作母板會趨于困難。相反，如果平均直徑D大于50 μ m,則生產(chǎn)率會趨于下降。本文中的熔體擠出成型方法指的是將熱熔樹脂擠壓成片狀并將母板輥?zhàn)拥陌纪罐D(zhuǎn)印至片狀樹脂上的方法。另外，本文中的層壓板轉(zhuǎn)印成型方法指的是通過熱傳遞將壓紋帶(emboss belt)的凹凸轉(zhuǎn)印至片材上的方法。應(yīng)當(dāng)注意的是，將在下文中詳細(xì)地描述采用這些成型方法的成型裝置。結(jié)構(gòu)體12的縱橫比h/r(r 結(jié)構(gòu)體的平均半徑，h 結(jié)構(gòu)體的平均高度)大于0. 85 小于等于1. 50，優(yōu)選地，為大于等于0. 95小于等于1. 10。如果縱橫比h/r小于等于0. 85， 則在背光中使用一個(gè)或多個(gè)擴(kuò)散片1時(shí)的亮度會趨于降低。另一方面，如果縱橫比h/r大于1. 5，則可轉(zhuǎn)印性會趨于降低。當(dāng)在背光中使用多個(gè)擴(kuò)散片1時(shí)，多個(gè)擴(kuò)散片中關(guān)于光源而配置在最遠(yuǎn)位置處的擴(kuò)散片1的縱橫比最大是優(yōu)選的。這是因?yàn)殛P(guān)于光源而配置在最遠(yuǎn)位置處的擴(kuò)散片1的縱橫比的變化影響背光的亮度最為明顯。當(dāng)在背光中使用包括至少一個(gè)擴(kuò)散片1的多個(gè)光學(xué)片時(shí)，結(jié)構(gòu)體12的縱橫比h/r 為大于0. 50小于等于1. 50，優(yōu)選地，為大于等于0. 55小于等于1. 10。如果結(jié)構(gòu)體12的縱橫比h/r小于等于0. 50，則在背光中使用多個(gè)光學(xué)片時(shí)的亮度會趨于下降。另一方面，如果縱橫比h/r大于1. 50，則可轉(zhuǎn)印性趨于降低。當(dāng)在背光中使用包括多個(gè)擴(kuò)散片1的多個(gè)光學(xué)片時(shí)，多個(gè)擴(kuò)散片中關(guān)于光源而配置在最遠(yuǎn)位置處的擴(kuò)散片的縱橫比最大是優(yōu)選的。這是由于該擴(kuò)散片(多個(gè)擴(kuò)散片中關(guān)于光源而配置在最遠(yuǎn)位置處)的縱橫比的變化對背光亮度的影響最為明顯。每個(gè)結(jié)構(gòu)體12在結(jié)構(gòu)體12和基材11的主表面Ila之間的邊界附近的側(cè)面角θ 優(yōu)選地為大于等于65°小于等于90°。如果側(cè)面角θ小于65°，則亮度會趨于大幅度地降低。優(yōu)選地，為了獲得較高的亮度，側(cè)面角θ約為70士2°是優(yōu)選的。另一方面，如果側(cè)面角θ大于90°，則使結(jié)構(gòu)體12脫模趨于變得困難。本文中的表述“每個(gè)結(jié)構(gòu)體12在結(jié)構(gòu)體12和基材11的主表面Ila之間的邊界附近的側(cè)面角”指的是，當(dāng)沿著結(jié)構(gòu)體12的中心線切割結(jié)構(gòu)體時(shí)、在結(jié)構(gòu)體12的切面的輪廓與平坦部13的輪廓的交點(diǎn)(intersection) 附近的、結(jié)構(gòu)體12的輪廓與平坦部的輪廓的切線所形成的角度。圖2B是示出了結(jié)構(gòu)體12的另一構(gòu)造實(shí)例的示意圖。如圖2B所示，每個(gè)結(jié)構(gòu)體 12可以包含具有透鏡功能的主體1 和從主體12a的底面朝基材11延伸的基部(basal portion) 12b。即使結(jié)構(gòu)體12在高度上有所變化，也可以通過形成這些基部12b而使結(jié)構(gòu)體12的主體1 具有半球狀或接近半球狀的形狀。也就是說，可以使每個(gè)結(jié)構(gòu)體12在結(jié)構(gòu)體12和基材11的主表面Ila之間的邊界附近的側(cè)面角在如上所述的65°以上且90° 以下的范圍內(nèi)。因此，可以提高擴(kuò)散片1的亮度。每個(gè)主體1 優(yōu)選地具有部分球面形狀。 本文中的主體1 指的是在一范圍內(nèi)的部分A，在該范圍內(nèi)，當(dāng)從擴(kuò)散片1的面內(nèi)方向觀察結(jié)構(gòu)體12以及結(jié)構(gòu)體12之間的平坦部13時(shí)，由每個(gè)結(jié)構(gòu)體12的輪廓的切線和結(jié)構(gòu)體12 之間的平坦部13的輪廓的切線所形成的角度大于等于0°小于等于85°。此外，基部12b指的是在一范圍內(nèi)的部分B，在該范圍內(nèi)，當(dāng)從擴(kuò)散片1的面內(nèi)方向觀察結(jié)構(gòu)體12和結(jié)構(gòu)體 12之間的平坦部13時(shí)，由每個(gè)結(jié)構(gòu)體12的輪廓的切線和結(jié)構(gòu)體12之間的平坦部13的輪廓的切線所形成的角度大于等于85°小于等于90°。例如，基部12b的平均長度1 (部分B關(guān)于基材11的主表面Ila的高度)為0 < 1 ^ 20 μ m0通過將基部12b的平均長度1設(shè)定為0 < 1，即使當(dāng)結(jié)構(gòu)體12在高度上有所變化時(shí)，也可以使結(jié)構(gòu)體12的主體1 具有如上所述的半球狀或接近半球狀的形狀。此外，通過將基部12b的平均長度1設(shè)定為1 ( 20μπι，可以抑制可轉(zhuǎn)印性的降低。例如，結(jié)構(gòu)體12相對于基材11的主表面Ila的填充率為大于等于60%小于等于 80%。如果填充率小于55%，則亮度會趨于降低。另一方面，如果填充率大于80%，則趨于產(chǎn)生波紋。本文中的波紋包括當(dāng)層壓多個(gè)擴(kuò)散片1時(shí)所產(chǎn)生的波紋、當(dāng)擴(kuò)散片1和液晶面板組合使用時(shí)所產(chǎn)生的相對于面板像素的波紋、以及當(dāng)擴(kuò)散片1和擴(kuò)散板組合使用時(shí)所產(chǎn)生的相對于擴(kuò)散板間距的波紋。結(jié)構(gòu)體12具有相同或基本相同的高度。例如，結(jié)構(gòu)體12的高度的變化量(K)滿足0 < I(彡10%，優(yōu)選地，為0 < K彡8%?？梢酝ㄟ^將結(jié)構(gòu)體12的高度的變化量⑷設(shè)置在這樣一個(gè)范圍內(nèi)來提高擴(kuò)散片1的亮度。(平坦部)平坦部13形成在基材11的主表面Ila上的結(jié)構(gòu)體12之間，平坦部13被形成為使得在與結(jié)構(gòu)體12的底面相同的平面上圍繞每個(gè)結(jié)構(gòu)體12。平坦部13的表面適度地被粗糙化，以獲得通過平坦部13所透射的光的擴(kuò)散功能。 也就是說，隨著平坦部13的表面粗糙度變大，因此可以獲得更高的霧度值。另一方面，隨著霧度值變高，正面方向上的亮度趨于降低。擴(kuò)散片1的霧度值還根據(jù)平坦部13占據(jù)擴(kuò)散片 1的主表面Ila的比率(即結(jié)構(gòu)體12的填充率)來變化。因此，平坦部13的表面粗糙度可適當(dāng)?shù)赜山Y(jié)構(gòu)體12的填充率來確定。如上所述，例如，當(dāng)結(jié)構(gòu)體12的填充率為60%至80%時(shí)，平坦部13的表面粗糙度具有小于等于0. 6 μ m的算術(shù)平均粗糙度(Ra)。通過以這種方式來限定平坦部13的表面粗糙度，可以在抑制亮度下降的同時(shí)適當(dāng)?shù)卣{(diào)整平坦部13的霧度。如果平坦部13被粗糙化為具有大于等于0. 2 μ m小于等于0. 6 μ m的表面粗糙度(Ra)，則與未粗糙化的平坦部的情況相比較，可以在將正面亮度的下降率抑制為小于等于3%的同時(shí)，使平坦部的霧度增加大約 20%。形成具有上述表面粗糙度(Ra)的平坦部13的方法沒有特別限制。在該實(shí)施方式中，通過使用下文將描述的成型裝置來制造擴(kuò)散片1。在這種情況下，通過轉(zhuǎn)印在成型裝置中使用的母板的形狀來形成擴(kuò)散片1的主表面11a。然后，將對應(yīng)于平坦部13的母板的平坦部粗糙化，以具有在上述范圍內(nèi)的表面粗糙度，使得同時(shí)形成平坦部13和結(jié)構(gòu)體12。應(yīng)當(dāng)注意的是，平坦部13的粗糙化不限于平坦部13的表面的均勻粗糙化，并且包括其表面的局部粗糙化。具體地，通過在平坦部13的表面上形成細(xì)微凹凸或者通過使得在其表面上產(chǎn)生細(xì)微裂縫，來將平坦表面粗糙化。此外，當(dāng)平坦部13的粗糙度具有方向性時(shí)， 粗糙度在至少一個(gè)方向上小于等于0. 6 μ m就已足夠。(其他部分)基材11的背面?zhèn)鹊闹鞅砻鎙ib形成為平坦表面。在這種情況下，主表面lib可以為平滑的表面。然而，如果適度地將主表面lib粗糙化，則可以防止主表面lib由于摩擦而破損，從而減少外觀上的缺陷。此外，如果將主表面lib粗糙化，則可以增強(qiáng)主表面lib的光擴(kuò)散功能。因此，可以僅增大擴(kuò)散片1的霧度值，以有助于降低亮度的不均勻性。另一方面，正面亮度由于主表面lib的霧度增加而趨于降低。圖6是示出了表示該趨勢的實(shí)例的實(shí)驗(yàn)結(jié)果的曲線圖。從圖6中顯而易見的是，正面亮度的損失率隨著擴(kuò)散片的背面上的霧度增大而增加。因此，可以根據(jù)目標(biāo)擴(kuò)散片1的霧度值和正面亮度特性來設(shè)定主表面lib的表面粗糙度。另外，也考慮主表面Ila的霧度值(具體地，平坦部13的表面粗糙度，結(jié)構(gòu)體12的填充率等)來設(shè)定主表面lib的表面粗糙度。例如，如果結(jié)構(gòu)體12的填充率大于等于60%小于等于80%，并且平坦部13的表面粗糙度(Ra)小于等于0.6 μ m， 則主表面lib的表面粗糙度(Ra)小于等于0. 5 μ m。[制造擴(kuò)散片的方法]接下來，參考圖3A至圖3F來描述制造擴(kuò)散片1的方法的實(shí)例。(抗蝕劑層形成處理)首先，在母板制作基材21 (作為要處理的目標(biāo))的表面上形成抗蝕劑層22 (參見圖3A)。例如，母板制作基材21 (作為要處理的目標(biāo))由金屬材料形成。可以使母板制作基材21的表面預(yù)先進(jìn)行諸如鍍銅的電鍍處理，母板制作基材21(作為要處理的目標(biāo))包括板狀、片狀、膜狀、塊狀、圓柱狀、圓筒狀、圓環(huán)狀等。例如，可以使用無機(jī)抗蝕劑和有機(jī)抗蝕劑的任一種作為抗蝕劑層22的材料。應(yīng)當(dāng)注意的是，當(dāng)母板制作基材21具有圓柱狀或圓筒狀時(shí)，抗蝕劑層22形成在其外圓周表面上。(曝光處理)接下來，例如，通過諸如激光束的光Ll來照射抗蝕劑層22，而在抗蝕劑層22上隨機(jī)地形成曝光部分22a (參見圖3B)。例如，形成在抗蝕劑層22上的每個(gè)曝光部分2 的形狀為圓環(huán)狀或基本圓環(huán)狀。當(dāng)形成均具有這種形狀的曝光部分時(shí)，每個(gè)曝光部分22a的尺寸可以根據(jù)在形狀轉(zhuǎn)印處理(將在下面描述)中使用的轉(zhuǎn)印方法的類型來選擇。例如，當(dāng)使用熔體擠出成型方法作為轉(zhuǎn)印方法時(shí)，曝光部分的底面的平均直徑D為大于等于50 μ m 小于等于100 μ m。例如，當(dāng)使用層壓板轉(zhuǎn)印成型方法作為轉(zhuǎn)印方法時(shí)，曝光部分的底面的平均直徑D為大于等于20 μ m小于等于50 μ m。(顯影處理)然后，使其上形成有曝光部分22a的抗蝕劑層22顯影。通過顯影，在抗蝕劑層22 上形成對應(yīng)于曝光部分2 的開口 22b(參見圖3C)。在圖3C中，通過使用正性抗蝕劑作為抗蝕劑而將開口 22b形成為對應(yīng)于曝光部分。然而，抗蝕劑不限于上述實(shí)例。也就是說，可以通過使用負(fù)性抗蝕劑作為抗蝕劑來移除曝光部分。(蝕刻處理)隨后，通過使用在其上形成有開口 22b的抗蝕劑層22作為掩模，來蝕刻母板制作基材21的表面。通過蝕刻，在母板制作基材21的表面上形成了具有相同或基本相同的深度的凹部21a(參見圖3D)?？梢圆捎酶晌g刻和濕蝕刻的任一種作為蝕刻。然而，從蝕刻設(shè)備較簡單的角度來看，優(yōu)選地采用濕蝕刻。此外，例如，可以采用各向同性蝕刻和各向異性蝕刻的任一種作為蝕刻，并且可以根據(jù)所期望的結(jié)構(gòu)體12的形狀來適當(dāng)?shù)剡x擇蝕刻。(抗蝕劑移除處理)
然后，通過拋光(ashing)等來移除形成在母板制作基材的表面上的抗蝕劑層 22(參見圖3E)。結(jié)果，獲得了具有凹凸表面的母板23。凹凸表面包括具有結(jié)構(gòu)體12的倒置形狀的凹部21a以及由抗蝕劑層22覆蓋的平坦部21b。(電鍍處理)然后，根據(jù)需要，通過使母板23的凹凸表面進(jìn)行電鍍處理，來形成諸如鍍鎳，鍍鎳磷或鍍鉻的電鍍層。在該實(shí)施方式中，母板23的凹凸表面進(jìn)行鍍鉻處理。(粗糙化處理)隨后，將母板23的平坦部21b粗糙化。在該實(shí)施方式中，使母板23的平坦部21b 進(jìn)行吹噴處理，以將平坦部21b粗糙化(參見圖3F)。也就是說，如圖3F所示，通過使吹噴粒子Bl高速地噴射在母板23上，而將平坦部21b的表面粗糙化。盡管使用了玻璃粒子作為吹噴粒子，但吹噴粒子并不限于此，可以使用金屬粒子、樹脂粒子等。此外，如果母板23受到吹噴粒子的照射，在一些情況下，會在覆蓋母板23的平坦部21b的鍍鉻層上引起細(xì)微裂縫。在鍍鉻層上產(chǎn)生的裂縫除了使平坦部21b的表面由于吹噴粒子的碰撞而發(fā)生變形的作用之外，還起到了增大平坦部的表面粗糙度的作用。另一方面，為了防止凹部21a的內(nèi)表面被粗糙化，使用了粒子直徑均大于每個(gè)凹部21a的直徑(開口直徑)的吹噴粒子。因此，保持了通過使用母板23 (將在下文描述) 所制作的擴(kuò)散片1的結(jié)構(gòu)體12的表面粗糙度，從而抑制了正面亮度的降低。例如，由于吹噴處理?xiàng)l件會影響到擴(kuò)散片1的主表面lla(通過使用母板23而在其上進(jìn)行形狀轉(zhuǎn)印)的霧度值和正面亮度，所以考慮組成主表面Ila的結(jié)構(gòu)體12的填充率來設(shè)定吹噴處理?xiàng)l件。例如，圖7是示出了表示吹噴粒子的排出壓力(母板上的照射壓力) 與擴(kuò)散片主表面Ila(通過使用母板而在其上進(jìn)行形狀轉(zhuǎn)印)的霧度值之間的關(guān)系的實(shí)驗(yàn)結(jié)果的曲線圖。另外，圖8是示出了表示吹噴粒子Bl在母板23上的排出壓力與擴(kuò)散片主表面Ila(通過使用母板而在其上進(jìn)行形狀轉(zhuǎn)印)的正面亮度之間的關(guān)系的實(shí)驗(yàn)結(jié)果的曲線圖。使用結(jié)構(gòu)體12的填充率分別為59% (樣品1) ,63% (樣品2)和74% (樣品3) 的三個(gè)樣品作為測量樣品。在該實(shí)施方式中，使用粒子直徑均為75 μ m至90 μ m的玻璃珠 (glass bead)作為吹噴粒子，并且吹噴粒子的排出嘴和母板23的平坦部21b之間的距離被設(shè)定為20cm。吹噴粒子的排出壓力由空氣的噴出壓力(ejection pressure)設(shè)定。使用圓筒母板(其外圓周表面已進(jìn)行鍍鉻)作為母板23。在母板23繞其軸每分鐘旋轉(zhuǎn)50次的同時(shí)而通過吹噴粒子來對其照射。制備出相對于三個(gè)樣品1至3的三種類型的母板。在用于制作樣品1的母板上的凹部的直徑被設(shè)定為68 μ m,在用于制作樣品2的母板上的凹部的直徑被設(shè)定為70 μ m,并且在用于制作樣品3的母板上的凹部的直徑被設(shè)定為和76 μ m。如圖7和圖8所示，隨著吹噴粒子的排出壓力的增加，霧度值趨于增大，而正面亮度趨于降低。在圖8中，當(dāng)樣品2的正面亮度被設(shè)定為基準(zhǔn)時(shí)，正面亮度由“相對亮度”來表示。如果每個(gè)樣品的排出壓力均大于lkPa，則亮度的降低和霧度的增加會明顯較大。亮度降低的原因可以認(rèn)為是由于吹噴粒子的碰撞而導(dǎo)致凹部21a的邊緣部分變形。如圖7和圖8所示，在吹噴粒子的排出壓力大約為0. 至的范圍內(nèi)，可以在將亮度的降低抑制在小于等于4%的同時(shí)，而使每個(gè)樣品的霧度值增加大約80%。平坦部21b的表面粗糙度(Ra)根據(jù)吹噴粒子在平坦部21b上的照射壓力(排出壓力)、吹噴粒子的粒子直徑，吹噴粒子的類型等而不同。因此，為了獲得理想的表面粗糙度，期望考慮這些處理?xiàng)l件。例如，圖9是示出了表示吹噴粒子Bl在母板23上的排出壓力與平坦部13在擴(kuò)散片主表面Ila (通過使用母板而在其上執(zhí)行形狀轉(zhuǎn)印)上的表面粗糙度 (Ra)之間的關(guān)系的實(shí)驗(yàn)結(jié)果的曲線圖。使用用于制作上述樣品1至3的母板作為母板23。 此外，在圖9中，繪出了母板的平坦部的表面粗糙度的平均值及其偏差(+3 ο，-3 ο )。如圖9所示，隨著吹噴粒子的排出壓力變大，平坦部21b的表面粗糙度(Ra)增大。 當(dāng)吹噴粒子的排出壓力在如上述實(shí)例中的0. 7kPa至1. 3kPa的范圍內(nèi)時(shí)，可以獲得大于等于0. 2 μ m小于等于0. 6 μ m的表面粗糙度(Ra)。圖10和圖11分別是示出了表示擴(kuò)散片主表面Ila的平坦部13的表面粗糙度(Ra) 與擴(kuò)散片1的霧度值的上升率之間的關(guān)系以及擴(kuò)散片主表面Ila的平坦部13的表面粗糙度(Ra)與正面亮度的下降率之間的關(guān)系的實(shí)驗(yàn)結(jié)果的曲線圖。使用具有結(jié)構(gòu)體12的不同填充率的三個(gè)樣品作為測量樣品，這三個(gè)樣品是通過使用用于制作樣品1至樣品3的母板來制作的。如圖10和圖11所示，隨著結(jié)構(gòu)體12的填充率變低，平坦部13的總面積增加， 并且霧度的上升率變得更大。隨著結(jié)構(gòu)體12的填充率變高，亮度的下降率變得更大?？梢哉J(rèn)為，這些趨勢是由母板(形成結(jié)構(gòu)體1 上的凹部的邊緣的變形所引起的。如上所述，當(dāng)平坦部13的表面粗糙度(Ra)在0. 2 μ m以上且0. 6 μ m以下的范圍內(nèi)時(shí)，與未粗糙化的平坦部的情況相比較，可以在將亮度的下降率抑制為小于等于3%的同時(shí)，使霧度值增加5%至18%。(形狀轉(zhuǎn)印處理)接下來，例如，將所制作的母板23附貼至諸如熔體擠出成型裝置或?qū)訅喊遛D(zhuǎn)印成型裝置的成型裝置。然后，將母板23上的凹部21a和平坦部21b的形狀轉(zhuǎn)印至基材11的一個(gè)主表面上(參見圖3G)。如上所述，制造出了如圖1所示的擴(kuò)散片1，其中，在基材11的主表面Ila上形成了多個(gè)凸?fàn)罱Y(jié)構(gòu)體12和具有預(yù)定的表面粗糙度的平坦部13 (配置在結(jié)構(gòu)體12之間)。圖12示出了通過使用母板23所制作的擴(kuò)散片1的主表面Ila的顯微圖，該母板在0. 5kPa的排出壓力下受到吹噴處理。在圖12中，在圍繞環(huán)狀結(jié)構(gòu)體的平坦部上觀測到以網(wǎng)絡(luò)形式延伸的多個(gè)裂縫。圖13是如圖12所示的片材樣品的平坦部的表面粗糙度的測量數(shù)據(jù)。在該實(shí)例中，平坦部的表面粗糙度(Ra)為0. 104μπι。應(yīng)當(dāng)注意的是，由Zygo Corporation制造的表面粗糙度測量儀器“Newview series”被用作測量設(shè)備(在下面的實(shí)例中使用相同的儀器)。圖14是示出了通過使用母板23所制作的擴(kuò)散片1的主表面Ila的顯微圖，該母板在1. OkPa的排出壓力下受到吹噴處理。在圖14中，在圍繞環(huán)狀結(jié)構(gòu)體的平坦部上觀測到以網(wǎng)絡(luò)形式延伸的多個(gè)裂縫和由吹噴粒子的碰撞所形成的細(xì)微凹凸。圖15是如圖14所示的片材樣品的平坦部的表面粗糙度的測量數(shù)據(jù)。在該實(shí)例中，平坦部的表面粗糙度(Ra) 為 0. 434 μ m。圖16是通過使用母板23所制作的擴(kuò)散片1的主表面Ila的顯微圖，該母板在 1. 的排出壓力下受到吹噴處理。在圖16中，在圍繞環(huán)狀結(jié)構(gòu)體的平坦部上觀測到以網(wǎng)絡(luò)形式延伸的多個(gè)裂縫和由吹噴粒子的碰撞所形成的細(xì)微凹凸。此外，在圖16中還觀測到結(jié)構(gòu)體和平坦部之間的邊界部分發(fā)生局部變形的狀態(tài)。圖17是如圖16所示的片材樣品的平坦部的表面粗糙度的測量數(shù)據(jù)。在該實(shí)例中，平坦部的表面粗糙度(Ra)為1.008μπι。
[擴(kuò)散片的成型裝置](成型裝置的第一實(shí)例)圖4A是示意性地示出了熔體擠出成型裝置的構(gòu)造實(shí)例的示意圖。如圖4A所示， 熔體擠出成型裝置30包括擠出機(jī)(extruder) 31、T形模32、成型輥33、彈性輥34和冷卻輥 35。成型輥33是上述母板23的實(shí)例。擠出機(jī)31熔化由送料斗(未示出)提供的樹脂材料并將樹脂材料提供給T形模 32。T形模32為具有線性開口的沖模，并且其將來自擠出機(jī)31的樹脂材料擴(kuò)展至要成型的片材的寬度，并排出所擴(kuò)展的樹脂材料。成型輥33具有圓柱狀，并且其被構(gòu)造為使得繞作為旋轉(zhuǎn)軸的中心軸旋轉(zhuǎn)。此外， 成型輥33被構(gòu)造為可冷卻。為了更具體，成型輥33具有使諸如油介質(zhì)的冷卻介質(zhì)從中流過的一個(gè)或兩個(gè)以上的流路。用于將細(xì)微圖案轉(zhuǎn)印至從T形模32排出的片材上的凹凸被設(shè)置在成型輥33的圓柱表面上。例如，這些凹凸為用于將結(jié)構(gòu)體12的形狀轉(zhuǎn)印至基材11上的細(xì)微凹凸。優(yōu)選地通過結(jié)合光刻處理和上述蝕刻處理來形成凹凸。這是因?yàn)榭梢砸种平Y(jié)構(gòu)體12在高度上的變化。凹凸包括如參考圖3G所描述的母板23的凹凸表面。彈性輥34具有圓柱狀，并且其被構(gòu)造為繞作為旋轉(zhuǎn)軸的中心軸旋轉(zhuǎn)。此外，彈性輥34的表面被構(gòu)造為彈性變形。如果片材由成型輥33和彈性輥34壓制(nip)，則擠壓與成型輥33相接觸的表面。例如，彈性輥34由鍍Ni形成的無縫管覆蓋?？梢允箯椥暂?4的表面彈性變形的彈性件被包括在彈性輥34中。彈性輥34的構(gòu)造和材料沒有限制，只要彈性輥34以預(yù)定的壓力與成型輥33相接觸時(shí)、彈性輥34的表面發(fā)生彈性變形即可。例如，橡膠材料、金屬、復(fù)合材料等可以被用作彈性輥；34的材料。此外，彈性輥34不限于輥形，并且其可以形成為帶形。彈性輥34被構(gòu)造為可冷卻。為了更具體，彈性輥34具有用于使諸如水的冷卻介質(zhì)從中流過的一個(gè)或兩個(gè)以上的流路。彈性輥34的表面可以適度地被粗糙化。在這種情況下，可以適度地將所制作的擴(kuò)散片的背面(主表面lib)粗糙化。例如，彈性輥34的表面粗糙度(Ra)小于等于0. 5 μ m。冷卻輥35具有圓柱狀，并且其被構(gòu)造為使得繞作為旋轉(zhuǎn)軸的中心軸旋轉(zhuǎn)。冷卻輥 35被構(gòu)造為可冷卻。為了更具體，冷卻輥35具有使諸如水的冷卻介質(zhì)從中流過的一個(gè)或兩個(gè)以上的流路。接下來，描述具有上述構(gòu)造的熔體擠出成型裝置30的操作。首先，通過擠出機(jī)31使樹脂材料熔化，以順次地提供給T形模32。然后，從T形模32中連續(xù)排出片材。然后，通過成型輥33和彈性輥34來壓制由T形模32排出的片材。 從而，將成型輥33的凹凸轉(zhuǎn)印至樹脂材料上。隨后，在通過成型輥33和冷卻輥35壓制基材11來抑制基材11抖動(dòng)(flop)的同時(shí)，而通過冷卻輥35將基材11從成型輥33中移除。通過上述操作，獲得了期望的擴(kuò)散片1。(成型裝置的第二實(shí)例)圖4B是示出了層壓板轉(zhuǎn)印成型裝置的構(gòu)造實(shí)例的示意圖。層壓板轉(zhuǎn)印成型裝置 40包括通過加熱輥41和冷卻輥42而旋轉(zhuǎn)的壓紋帶(emboss belt) 43以及通過兩個(gè)壓力輥 44而旋轉(zhuǎn)的平坦帶45。壓力輥44被配置為與加熱輥41和冷卻輥42相對。進(jìn)行形狀轉(zhuǎn)印之前的基材11可以插入到壓紋帶43 (其表面具有多個(gè)凹部43A)和平坦帶45 (不具有立體形狀)之間的空間中。壓紋帶43為上述母板23的一實(shí)例。參考圖3G所描述的母板23可以被用作壓紋帶43。在這種情況下，凹部43A由具有母板23的凹部21a和平坦部21b的凹凸表面形成。此外，通過將平坦帶45的表面粗糙化，要制作的擴(kuò)散片的背面(主表面lib)可以具有適度的表面粗糙度。接下來，描述具有上述構(gòu)造的層壓板轉(zhuǎn)印成型裝置40的操作。首先，使壓紋帶43和平坦帶45旋轉(zhuǎn)，以將進(jìn)行形狀轉(zhuǎn)印前的基材11從加熱輥41 側(cè)插入到兩根帶之間的空間中。因此，基材11的一個(gè)主表面通過加熱輥41的熱量而瞬間熔化，以將凹部43A的形狀轉(zhuǎn)印至基材11的一個(gè)主表面上。此后，通過冷卻輥42冷卻其上轉(zhuǎn)印有凹部43A的形狀的基材11的表面，以固定表面形狀。也就是說，在基材11的一個(gè)主表面上形成了多個(gè)結(jié)構(gòu)體12。通過上述操作，獲得了期望的擴(kuò)散片1。在根據(jù)該實(shí)施方式的擴(kuò)散片1中，結(jié)構(gòu)體12隨機(jī)地形成在主表面Ila上，從而抑制了波紋的產(chǎn)生。此外，在主表面Ila上的結(jié)構(gòu)體12之間所形成的平坦部13具有小于等于0.6μπι的表面粗糙度(Ra)。因此，平坦部13具有通過平坦部13所透射的光的擴(kuò)散功能。因此，可以在抑制正面方向上的亮度降低的同時(shí)，來提高光擴(kuò)散功能。根據(jù)該實(shí)施方式，由于可以在抑制正面方向上的亮度降低的同時(shí)提高光擴(kuò)散功能，所以在視覺上幾乎看不出由于擴(kuò)散片的滾動(dòng)而導(dǎo)致的亮度的不均勻性。這能夠充分地滿足使擴(kuò)散片1更薄的要求。此外，通過調(diào)節(jié)主表面lib和平坦部13的表面粗糙度，即使當(dāng)結(jié)構(gòu)體12的填充率被設(shè)定為大于等于80%時(shí)，也可以防止波紋的產(chǎn)生。〈第二實(shí)施方式〉[液晶顯示裝置的構(gòu)造](第一構(gòu)造實(shí)例)圖5A是示出了根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施方式的液晶顯示裝置的第一構(gòu)造實(shí)例的示意圖。如圖5A所示，液晶顯示裝置包括輸出光的背光6以及在時(shí)間和空間上調(diào)制從背光6輸出的光以顯示圖像的液晶面板7。下文中，將依次描述組成液晶顯示裝置的背光6和液晶面板7。(背光)例如，直下型背光、邊緣型背光或平面光源型背光可以被用作背光6。在圖5A中， 示出了直下型的背光6。例如，背光6包括反射片4、光源5、擴(kuò)散板3、兩個(gè)擴(kuò)散片1以及透鏡片2。反射片4配置在與液晶顯示裝置的顯示面相對的背面?zhèn)壬稀U(kuò)散板3、擴(kuò)散片1、透鏡片2以及擴(kuò)散片1從光源5朝液晶面板7順序地配置在光源5和液晶面板7之間。例如，冷陰極熒光燈(CCFL)、熱陰極熒光燈(HCFL)、有機(jī)電致發(fā)光(OEL)、無機(jī)電致發(fā)光(IEL)、發(fā)光二極管(LED)等可以用作光源5。反射片4是擴(kuò)散并反射從光源5輸出的光以提高光的利用效率的片材。例如，擴(kuò)散反射(白色)型反射片、鏡面反射型反射片等可以用作反射片4。例如，白聚酯薄膜或多界面反射片(例如，超白聚酯薄膜)可以用作擴(kuò)散反射型反射片4。例如，諸如銀薄膜的金屬薄膜可以用作鏡面反射型反射片4。
透鏡片2是會聚來自光源5的擴(kuò)散光以提高亮度的片材。例如，具有尖棱鏡頂?shù)睦忡R片、具有圓棱鏡頂?shù)睦忡R片、形成在一個(gè)主表面上的具有隨機(jī)棱鏡圖案的棱鏡片、形成在一個(gè)主表面上的具有相同網(wǎng)格圖案的光學(xué)片(網(wǎng)格片，web sheet)等可以用作透鏡片2?？梢葬槍γ總€(gè)擴(kuò)散片1來使用根據(jù)上述第一實(shí)施方式的擴(kuò)散片。每個(gè)擴(kuò)散片1被配置為使得一個(gè)主表面Ila面向液晶面板7的一側(cè)，以及另一主表面lib面向光源5的一側(cè)。(液晶面板)例如，諸如扭曲向列(TN)模式、超扭曲向列(STN)模式、垂直配向(VA)模式、面內(nèi)切換(IPS)模式、光學(xué)補(bǔ)償雙折射(OCB)模式、鐵電液晶(FLC)模式、聚合物分散液晶 (PDLC)模式以及相變主客(PCGH)模式等顯示模式的液晶面板可以被用作液晶面板7。此外，背光6還包括反射型偏光器(未示出)，使得可以有效地利用從光源5發(fā)射的光。因此，可以增加液晶顯示裝置的亮度，并且可以降低其功耗。反射型偏光器配置在液晶面板的一側(cè)以與液晶面板7相鄰。反射型偏光器使得彼此相垂直的偏光成分的一方從中通過，并反射偏光成分的另一方。例如，諸如有機(jī)多層膜、無機(jī)多層膜或液晶多層膜的層壓體可以被用作反射型偏光器。(第二構(gòu)造實(shí)例)圖5B是示出了根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施方式的液晶顯示裝置的第二構(gòu)造實(shí)例的示意圖。如圖5B所示，背光6包括擴(kuò)散板3和三個(gè)擴(kuò)散片1。擴(kuò)散板3和三個(gè)擴(kuò)散片1從光源 5朝向液晶面板7而順序地配置。在第二構(gòu)造實(shí)例中，除上述構(gòu)造以外的構(gòu)造與第一構(gòu)造實(shí)例的構(gòu)造相同。(第三構(gòu)造實(shí)例)圖5C是示出了根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施方式的液晶顯示裝置的第三構(gòu)造實(shí)例的示意圖。如圖5C所示，背光6包括擴(kuò)散板3、透鏡片2和擴(kuò)散片1。擴(kuò)散板3、透鏡片2和擴(kuò)散片 1從光源5朝向液晶面板7而順序地配置。在第三構(gòu)造實(shí)例中，除上述構(gòu)造以外的構(gòu)造與第一構(gòu)造實(shí)例的構(gòu)造相同。根據(jù)該實(shí)施方式，由于背光6包括根據(jù)第一實(shí)施方式的一個(gè)或多個(gè)擴(kuò)散片1，因此可以在有效地提高光源5的亮度不均勻性的同時(shí)來提高液晶顯示裝置的亮度。此外，可以由擴(kuò)散片1來代替透鏡片2。上文中，已經(jīng)描述了本發(fā)明的實(shí)施方式。然而，本發(fā)明并不限于這些實(shí)施方式，可以基于本發(fā)明的技術(shù)精神來進(jìn)行各種修改。例如，在上述實(shí)施方式中，可以將吹噴處理用作將母板(用于制作擴(kuò)散片)粗糙化的處理。然而，可以通過使用諸如鋼絲刷(wire brush)處理、激光處理、以及研磨處理的各種表面處理方法來代替吹噴處理，來執(zhí)行將母板粗糙化的處理。平坦部13由其表面粗糙度 (Ra)來限定，而與處理方法無關(guān)。平坦部的處理形狀沒有特別限制，其可以為包括球面形狀、棱鏡形狀、格柵形狀等的任何形狀。例如，圖18A和圖18B分別是示意性地示出了擴(kuò)散片2(在平坦部13的表面上形成均具有基本三角截面的棱鏡13p)的主要部分的截面圖和透視圖。可以通過將平坦部13形成為棱鏡形，來獲得平坦部上的光擴(kuò)散效果。此外，平坦部13的表面粗糙度(Ra)此時(shí)可以在棱鏡13p的脊線方向和配置方向之間不同。然而，兩個(gè)方向的至少一個(gè)具有小于等于0.6μπι的表面粗糙度(Ra)就已足夠。
結(jié)構(gòu)體12的表面粗糙度(Ra)小于平坦部13的表面粗糙度也已足夠。例如，結(jié)構(gòu)體12的表面粗糙度(Ra)小于等于0. 2 μ m。此外，結(jié)構(gòu)體12不限于均具有部分球面形狀的結(jié)構(gòu)體。例如，圖19示出了通過形成均具有部分球面形狀的結(jié)構(gòu)體、然后在結(jié)構(gòu)體的表面上形成細(xì)微溝槽所獲得的結(jié)構(gòu)體12的實(shí)例。由此，可以形成在球形表面部分上具有光擴(kuò)散效果并且在溝槽部分具有光會聚功能的結(jié)構(gòu)體。使擴(kuò)散片成型的方法不限于使用上述熔體擠出成型裝置和層壓板轉(zhuǎn)印成型裝置的方法。例如，可以使用諸如熱壓裝置的其他成型裝置。另外，如上述實(shí)施方式中描述的構(gòu)造、方法、形狀、材料、數(shù)值等僅為實(shí)例。因此，根據(jù)需要，可以使用與上述實(shí)例不同的構(gòu)造、方法、形狀、材料、數(shù)值等。本申請包含于2010年3月17日向日本專利局提交的日本優(yōu)先專利申請JP 2010-060395所涉及的主題，其全部內(nèi)容結(jié)合于此作為參考。本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解的是，根據(jù)設(shè)計(jì)要求和其他因素，可以進(jìn)行各種修改、 組合、子組合以及變形，只要它們在所附權(quán)利要求或其等價(jià)物的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種擴(kuò)散片，包括具有第一主表面和第二主表面的透光基材； 多個(gè)結(jié)構(gòu)體，具有隨機(jī)地形成在所述第一主表面上的凸?fàn)?；以及平坦部，形成在所述第一主表面上的所述多個(gè)結(jié)構(gòu)體之間，并且具有小于等于0. 6 μ m 的表面粗糙度(Ra)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的擴(kuò)散片，其中，所述平坦部具有大于等于0. 2 μ m小于等于0. 6 μ m的表面粗糙度(Ra)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的擴(kuò)散片，其中，所述第二主表面具有小于等于0. 5 μ m的表面粗糙度(Ra)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的擴(kuò)散片，其中， 所述多個(gè)結(jié)構(gòu)體具有部分球面形狀。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的擴(kuò)散片，其中，所述多個(gè)結(jié)構(gòu)體相對于所述第一主表面而具有大于等于60%小于等于80%的填充率。
6.一種背光，包括 擴(kuò)散片，其包括具有第一主表面和第二主表面的透光基材， 多個(gè)結(jié)構(gòu)體，具有隨機(jī)地形成在所述第一主表面上的凸?fàn)?，以及平坦部，形成在所述第一主表面上的所述多個(gè)結(jié)構(gòu)體之間，并且具有小于等于0. 6 μ m 的表面粗糙度(Ra)；以及光源，配置在所述第二主表面?zhèn)壬稀?br> 7.一種液晶顯示裝置，包括 擴(kuò)散片，其包括具有第一主表面和第二主表面的透光基材， 多個(gè)結(jié)構(gòu)體，具有隨機(jī)地形成在所述第一主表面上的凸?fàn)?，以及平坦部，形成在所述第一主表面上的所述多個(gè)結(jié)構(gòu)體之間，并且具有小于等于0. 6 μ m 的表面粗糙度(Ra)；光源，配置在所述第二主表面?zhèn)壬?；以及液晶面板，配置在所述第一主表面?zhèn)壬稀?br> 8.—種制造擴(kuò)散片的方法，包括在形成于母板制作基材的表面上的抗蝕劑層上形成隨機(jī)曝光圖案； 通過使形成有所述隨機(jī)曝光圖案的所述抗蝕劑層顯影，而在所述抗蝕劑層上形成具有隨機(jī)圖案的開口；通過使用形成有所述開口的抗蝕劑層作為掩模蝕刻所述母板制作基材，來制作母板， 所述母板具有對應(yīng)于所述開口而形成的凹部和由所述抗蝕劑層覆蓋的平坦部； 將所述平坦部粗糙化，以具有小于等于0. 6 μ m的表面粗糙度(Ra)；以及將所述母板的所述凹部和粗糙化的所述平坦部的形狀轉(zhuǎn)印至透光基材的主表面上，以制作擴(kuò)散片，所述擴(kuò)散片具有多個(gè)凸?fàn)罱Y(jié)構(gòu)體和配置在所述多個(gè)結(jié)構(gòu)體之間的粗糙化的平坦部。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制造擴(kuò)散片的方法，其中，所述平坦部的粗糙化包括其中通過吹噴粒子來照射所述平坦部的吹噴處理。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的制造擴(kuò)散片的方法，其中，在所述吹噴處理中，使用粒子直徑均大于每個(gè)所述凹部的開口直徑的吹噴粒子。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的制造擴(kuò)散片的方法，還包括在形成所述凹部之后且在將所述平坦部粗糙化之前，通過鍍鉻來覆蓋所述凹部和所述平坦部。
全文摘要
本發(fā)明公開了擴(kuò)散片、背光、液晶顯示裝置以及制造擴(kuò)散片的方法，該擴(kuò)散片包括透光基材、多個(gè)結(jié)構(gòu)體和平坦部。透光基材具有第一主表面和第二主表面。多個(gè)結(jié)構(gòu)體具有隨機(jī)地形成在第一主表面上的凸?fàn)?。平坦部形成在第一主表面上的多個(gè)結(jié)構(gòu)體之間，并且具有小于等于0.6μm的表面粗糙度(Ra)。
文檔編號F21S8/00GK102192473SQ201110058310
公開日2011年9月21日 申請日期2011年3月10日 優(yōu)先權(quán)日2010年3月17日
發(fā)明者佐佐木純, 堀井明宏, 橋本香奈子, 菅原直人, 近藤武, 青木誠 申請人:索尼公司