專利名稱：一種場發(fā)射顯示器件中陽極屏的制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及場發(fā)射顯示(FED)器件領(lǐng)域，特別是涉及到場發(fā)射顯示器件中陽極屏的制備。
背景技術(shù)：
FED器件的熒光屏(簡稱陽極)是一種以帶有條狀的ΙΤ0(氧化銦 錫)導(dǎo)電層的 玻璃為襯底，在帶有ITO導(dǎo)電條上涂加熒光粉。由于FED器件工作電壓較高，以及器件本身 在工作時各個電極條之間不能有任何串?dāng)_，因此對條狀I(lǐng)TO電極間的絕緣性要求非常高。 一般的光刻方法不能滿足FED器件工藝的要求。因為利用普通的光刻方法，得到的ITO條 電極之間局部區(qū)域絕緣性較低，使得FED器件工作時出現(xiàn)干擾亮點，甚至引起條形電極間 的導(dǎo)通。另外，在ITO條上涂加熒光粉工藝時，也要采用另一種的套刻技術(shù)，這時由于利用 普通的光刻ITO層的方法使得ITO和周圍襯底玻璃表面之間的視覺反差極差，而造成ITO 條圖形的輪廓不清，套刻時對版基本無法實現(xiàn)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明為解決現(xiàn)有制作場發(fā)射陽極屏?xí)r存在ITO電極條局部區(qū)域絕緣性低而產(chǎn) 生干擾亮點，并且ITO層和襯底玻璃表面的視覺反差小，造成ITO條圖形不清楚的問題，提 供一種場發(fā)射顯示器件中陽極屏的制備方法。一種場發(fā)射顯示器件中陽極屏的制備方法，該方法由以下步驟實現(xiàn)步驟一、將ITO玻璃采用光刻方法進行光刻、腐蝕，獲得腐蝕后的ITO玻璃；步驟二、采用ITO玻璃深化腐蝕液對步驟一獲得的ITO玻璃進行深化腐蝕；步驟三、對步驟二獲得的深化腐蝕后的ITO玻璃旋涂熒光粉，通過光刻方法實現(xiàn) 場發(fā)射顯示器件陽極屏的制備；步驟二所述的ITO玻璃深化腐蝕液的制備方法為取H2O HF = 3 1的混合液 刻蝕ITO條形電極的玻璃襯底，所述HF的濃度為40%的HF的水溶液；本發(fā)明的有益效果本發(fā)明方法增加了 ITO電極條之間的電阻率，ITO導(dǎo)電電極 條間的電阻值> 1000ΜΩ，并且提高了電極之間的絕緣性能，且不損傷電極條上的ITO材料 層；本發(fā)明能夠使ITO層表面與周圍的玻璃表面之間視覺反差明顯增加，ITO條的輪廓清 晰，本發(fā)明為光刻套版對準(zhǔn)奠定了基礎(chǔ)。


圖1為本發(fā)明所述一種場發(fā)射顯示器件中陽極屏的制備方法獲得的陽極屏示意 圖；圖中1、ITO電極，2、ITO玻璃襯底。
具體實施方式
具體實施方式
一、結(jié)合圖1說明本實施方式，一種場發(fā)射顯示器件中陽極屏的制 備方法；該方法由以下步驟實現(xiàn)步驟一、將ITO玻璃采用光刻方法進行光刻、腐蝕，獲得腐蝕后的ITO玻璃；步驟二、采用ITO玻璃深化腐蝕液對步驟一獲得的ITO玻璃進行深化腐蝕；步驟三、對步驟二獲得的深化腐蝕后的ITO玻璃旋涂熒光粉，通過光刻方法實現(xiàn) 場發(fā)射顯示器件陽極屏的制備；步驟二所述的ITO玻璃深化腐蝕液的制備方法為取H2O HF = 3 1的混合液 刻蝕ITO條形電極1的玻璃襯底，所述HF的濃度為40%的HF的水溶液。本實施方式中對ITO玻璃進行深化腐蝕的方法為將深化腐蝕液放入塑料容器 內(nèi)，將步驟一獲得腐蝕后的ITO玻璃襯底2按一定的傾斜角度放置在深化腐蝕液塑料容器， 然后將深化腐蝕液均勻的噴灑在ITO玻璃襯底2表面；腐蝕時間小于20秒，采用凈水對深 化腐蝕后的ITO玻璃襯底表面清洗，獲得深化腐蝕后的ITO玻璃。本實施方式所述的清洗時間為1分鐘；所述ITO玻璃襯底2表面的腐蝕深度為3 5μ ；所述的ITO玻璃襯底2的腐蝕速率為lOu/min。所述ITO玻璃襯底2按一定的傾斜角 度放置在深化腐蝕液塑料容器，一定的傾斜角度可以為60°。本實施方式所述的深化腐蝕液的特點是只腐蝕玻璃襯底，對ITO條形電極1沒有 任何影響。本發(fā)明的制作過程工藝簡單、效果明顯，由于氫氟酸對ITO玻璃的腐蝕作用，使得 ITO玻璃的表面變得不平，從面使得經(jīng)過氫氟酸腐蝕的地方透光較差，而沒有經(jīng)過氫氟酸腐 蝕(有ITO條)處透光性相對要好，沒有經(jīng)過氫氟酸腐蝕處為ITO條形電極的位置，從而形 成大的反差，提高制作場發(fā)射器件中陽極屏的質(zhì)量。
權(quán)利要求
一種場發(fā)射顯示器件中陽極屏的制備方法，其特征是，該方法由以下步驟實現(xiàn)步驟一、將ITO玻璃采用光刻方法進行光刻、腐蝕，獲得腐蝕后的ITO玻璃；步驟二、采用ITO玻璃深化腐蝕液對步驟一獲得的ITO玻璃進行深化腐蝕；步驟三、對步驟二獲得的深化腐蝕后的ITO玻璃旋涂熒光粉，通過光刻方法實現(xiàn)場發(fā)射顯示器件陽極屏的制備；步驟二所述的ITO玻璃深化腐蝕液的制備方法為取H2O∶HF＝3∶1的混合液刻蝕ITO條形電極(1)的玻璃襯底，所述HF的濃度為40％的HF的水溶液。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種場發(fā)射顯示器件中陽極屏的制備方法，其特征在于，對 ITO玻璃進行深化腐蝕的方法為將深化腐蝕液放入塑料容器內(nèi)，將步驟一獲得腐蝕后的 ITO玻璃襯底(2)按一定的傾斜角度放置在深化腐蝕液塑料容器，然后將深化腐蝕液均勻 的噴灑在ITO玻璃襯底(2)表面；腐蝕時間小于20秒，采用凈水對深化腐蝕后的ITO玻璃 襯底表面清洗，獲得深化腐蝕后的ITO玻璃。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種場發(fā)射顯示器件中陽極屏的制備方法，其特征在于，所 述清洗時間為1分鐘。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種場發(fā)射顯示器件中陽極屏的制備方法，其特征在于，所 述ITO玻璃襯底⑵表面的腐蝕深度為3 5 μ。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種場發(fā)射顯示器件中陽極屏的制備方法，其特征在于，所 述的ITO玻璃襯底(2)的腐蝕速率為lOu/min。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種場發(fā)射顯示器件中陽極屏的制備方法，其特征在于，所 述ITO玻璃襯底(2)按一定的傾斜角度放置在深化腐蝕液塑料容器，一定的傾斜角度為 60° 。
全文摘要
一種場發(fā)射顯示器件中陽極屏的制備方法，涉及場發(fā)射顯示器件領(lǐng)域，它解決了現(xiàn)有制作場發(fā)射陽極屏?xí)r存在ITO電極條局部區(qū)域絕緣性低而產(chǎn)生干擾亮點，并且ITO層和襯底玻璃表面的視覺反差小，造成ITO條圖形不清楚的問題，將ITO玻璃采用光刻方法進行光刻、腐蝕，采用ITO玻璃深化腐蝕液對ITO玻璃進行深化腐蝕；對深化腐蝕后的ITO玻璃旋涂熒光粉，通過光刻方法實現(xiàn)場發(fā)射顯示器件陽極屏的制備；ITO玻璃深化腐蝕液的制備方法為取H2O∶HF＝3∶1的混合液刻蝕ITO條形電極的玻璃襯底，所述HF的濃度為40％的HF的水溶液。本發(fā)明適用于場發(fā)射器件中套版光刻技術(shù)。
文檔編號H01J9/20GK101866797SQ20101022899
公開日2010年10月20日 申請日期2010年7月16日 優(yōu)先權(quán)日2010年7月16日
發(fā)明者孫曉娟, 宋航, 李志明, 繆國慶, 蔣紅, 陳一仁, 黎大兵 申請人:中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機械與物理研究所