一種激光直寫垂直雙面曝光系統(tǒng)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種曝光系統(tǒng)，具體是一種激光直寫垂直雙面曝光系統(tǒng)，屬于直寫式光刻機快速掃描曝光技術(shù)領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]直寫式光刻技術(shù)是近年來發(fā)展較快的、以替代傳統(tǒng)的掩膜板式光刻技術(shù)的影像直接轉(zhuǎn)移技術(shù)，在半導(dǎo)體及PCB生產(chǎn)領(lǐng)域中有著越來越重要的地位。利用該技術(shù)可以縮短工藝流程，并降低生產(chǎn)成本。目前市場上主流的直寫式光刻機大多以單工件臺方式進行掃描曝光，先將被曝光工件的A面曝光完成后，再進行翻版，然后對B面進行曝光。在單工件臺系統(tǒng)中，用于曝光的基板的上板、對準(zhǔn)、曝光、下板是依次進行的。依據(jù)目前的結(jié)構(gòu)系統(tǒng)，各操作流程均已經(jīng)達到耗時的上限，很難再縮短某個操作步驟的操作時間，即單工件臺的直寫式光刻機由于各操作流程的串行性質(zhì)，已很難再提高產(chǎn)能。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]針對上述現(xiàn)有技術(shù)存在的問題，本發(fā)明提供一種激光直寫垂直雙面曝光系統(tǒng)，能夠提高產(chǎn)能，大大提高工作的效率。
[0004]為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用的一種激光直寫垂直雙面曝光系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括基座和被曝光工件，其特征在于，所述被曝光工件垂直放置于基座的上方，所述被曝光工件的一端與基座活動連接；在所述被曝光工件的兩側(cè)分別設(shè)有左移動光路和右移動光路，所述左移動光路和右移動光路分別與被曝光工件垂直。
[0005]所述被曝光工件沿Y方向移動時，所述左移動光路和右移動光路分別沿Z方向移動。
[0006]所述曝光系統(tǒng)能夠同時曝光被曝光工件的兩面。
[0007]所述被曝光工件包括PCB板和硅片。
[0008]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明中將被曝光工件垂直放置于基座的上方并且能夠沿Y軸方向移動，此時，設(shè)置在被曝光工件兩側(cè)的移動光路分別沿Z軸方向移動，這樣能夠同時曝光被曝光工件的正反兩面，使得工作的效率提升一倍，更好的提高了產(chǎn)能，增加了工作的效率。
【附圖說明】
[0009]圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0010]其中:1、被曝光工件，2、右移動光路，3、基座，4、左移動光路。
【具體實施方式】
[0011]下面結(jié)合附圖對本發(fā)明作進一步說明。
[0012]如圖1所示，一種激光直寫垂直雙面曝光系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括基座3和被曝光工件I，所述被曝光工件I垂直放置于基座3的上方，所述被曝光工件I的一端與基座3活動連接；在所述被曝光工件I的兩側(cè)分別設(shè)有左移動光路4和右移動光路2，所述左移動光路4和右移動光路2分別與被曝光工件垂直。其中，所述被曝光工件沿Y方向移動時，所述左移動光路4和右移動光路2分別沿Z方向移動。所述曝光系統(tǒng)能夠同時曝光被曝光工件I的正反兩面。所述被曝光工件I包括PCB板和硅片。
[0013]工作時，將被曝光工件I垂直放置于基座3的上方，被曝光工件I沿著Y軸方向移動，左移動光路4和右移動光路2分別沿Z方向移動對被曝光工件I的正反面進行掃描。
[0014]最后應(yīng)說明的是:以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實施例，并不用于限制本發(fā)明，盡管參照前述實施例對本發(fā)明進行了詳細的說明，對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，其依然可以對前述實施例中所記載的技術(shù)方案進行修改，或者進行等同替換。凡在發(fā)明的精神和原則內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種激光直寫垂直雙面曝光系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括基座(3)和被曝光工件(I )，其特征在于，所述被曝光工件(I)垂直放置于基座(3)的上方，所述被曝光工件(I)的一端與基座(3)活動連接；在所述被曝光工件(I)的兩側(cè)分別設(shè)有左移動光路(4)和右移動光路(2)，所述左移動光路(4)和右移動光路(2)分別與被曝光工件(I)垂直。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種激光直寫垂直雙面曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述被曝光工件(I)沿Y方向移動時，所述左移動光路(4)和右移動光路(2)分別沿Z方向移動。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種激光直寫垂直雙面曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述曝光系統(tǒng)能夠同時曝光被曝光工件(I)的正反兩面。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種激光直寫垂直雙面曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述被曝光工件(I)包括PCB板和硅片。
【專利摘要】本發(fā)明公開一種激光直寫垂直雙面曝光系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括基座和被曝光工件，其特征在于，所述被曝光工件垂直放置于基座的上方，所述被曝光工件的一端與基座活動連接；在所述被曝光工件的兩側(cè)分別設(shè)有左移動光路和右移動光路，所述左移動光路和右移動光路分別與被曝光工件垂直。本發(fā)明能夠同時曝光被曝光工件的正反兩面，使得工作的效率提升一倍，更好的提高了產(chǎn)能，增加了工作的效率。
【IPC分類】G03F7/20, G03F7/22
【公開號】CN105068387
【申請?zhí)枴緾N201510452798
【發(fā)明人】趙華, 張偉, 陳旻峰
【申請人】江蘇影速光電技術(shù)有限公司
【公開日】2015年11月18日
【申請日】2015年7月28日