一種缺口線端的opc修正方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及半導(dǎo)體領(lǐng)域，具體地，本發(fā)明涉及一種缺口線端的0PC修正方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 集成電路制造技術(shù)是一個(gè)復(fù)雜的工藝，技術(shù)更新很快。表征集成電路制造技術(shù)的 一個(gè)關(guān)鍵參數(shù)為最小特征尺寸，即關(guān)鍵尺寸（criticaldimension，CD)，隨著關(guān)鍵尺寸的縮 小，甚至縮小至納米級，而正是由于關(guān)鍵尺寸的減小才使得每個(gè)芯片上設(shè)置百萬個(gè)器件成 為可能。
[0003] 目前，在先進(jìn)的半導(dǎo)體制造工藝中，隨著光刻尺寸越來越小，分辨率增強(qiáng)技術(shù) (RET，resolutionenhancementtechnique)被普遍米用。其中，在 130nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)以下， RET技術(shù)中的光學(xué)鄰近效應(yīng)修正技術(shù)（OPC,opticalproximitycorrection)作為一種常規(guī) 的技術(shù)手段被采用。在修正過程中，兩種方式的經(jīng)常使用，一種稱為基于規(guī)則的0PC，另一 種是基于模型的〇PC(MB0PC，ModelBased0PC);當(dāng)選擇MB0PC方法時(shí)，會將許多邊切分成 比較短的分段，然后設(shè)置各個(gè)分段的⑶目標(biāo)值，通過引入誤差因子，即模型模擬值與目標(biāo) 值的差值，邊緣位置誤差（EPE，EdgePlacementError),評價(jià)0PC每一個(gè)循環(huán)（loop)的結(jié) 果。當(dāng)版圖中所有分段的EPE的統(tǒng)計(jì)值達(dá)到一定的范圍時(shí)，認(rèn)為所有的分段放置結(jié)束；這個(gè) 放置過程一般需要3-8輪的反復(fù)運(yùn)算，才能保證版圖中所有分段的EPE的統(tǒng)計(jì)值達(dá)到一定 的范圍。這個(gè)過程中，相鄰的分段會有相反的移動方向，造成局部位置的反復(fù)多次計(jì)算，可 能最終的EPE值，還是差強(qiáng)人意。
[0004] 同時(shí)已有的商業(yè)軟件中對于分段的⑶目標(biāo)值的放置位置，一般比較固定，設(shè)置為 每個(gè)分段的中心或者分段的末端，當(dāng)然也可以手動調(diào)整設(shè)置。但是，這些目標(biāo)值一般都是通 過工程師的經(jīng)驗(yàn)來調(diào)整。而這些目標(biāo)值的位置直接影響了 0PC軟件的計(jì)算速度和結(jié)果。
[0005] 其中，在半導(dǎo)體器件中正常的線端如圖1所示，所述圖案在左側(cè)以及右側(cè)的線條 均為正常的直線，圖2中所述器件的線端則為有臺階的線條，具體地，其左側(cè)線條正常， 右側(cè)線條為有臺階或者缺口的線條；其中線端具有缺口的線條是由于其他層的圖案的 Boolean引起的，所述其他層的圖案可以是孔，如圖3所示，或者線條，如圖4所示。正常線 端的目標(biāo)值只有一個(gè)，如圖5所示，而所述特定線端(具有缺口的線端)可能會形成多個(gè)目標(biāo) 值（targetpoints)，如圖6所示，而多個(gè)目標(biāo)值很可能引起多個(gè)目標(biāo)值之間的平衡（trade off)，因?yàn)椴⒉皇撬械哪繕?biāo)值同時(shí)被瞄準(zhǔn)，因此需要更多計(jì)算步驟以得到精確的結(jié)構(gòu)，同 時(shí)由于工程師需要通過手動對目標(biāo)值進(jìn)行移動，所述移動至因個(gè)體經(jīng)驗(yàn)的不同引起差別。
[0006] 目前，在器件制備過程中造成如圖2所示的情況有很多，例如圖形布線時(shí)，經(jīng)常 需要用到孔的布爾運(yùn)算等操作，經(jīng)常會導(dǎo)致一些臺階出現(xiàn)，例如為了滿足設(shè)計(jì)規(guī)則（DRC， DesignRule)，可能有些地方就會產(chǎn)生臺階，如圖2右側(cè)圖形所示。
[0007] 正常的線端如果沒有臺階，則正常的目標(biāo)值應(yīng)該在線端的中心位置，如圖5所示， 而當(dāng)這樣的臺階的出現(xiàn)，目標(biāo)值就增加成了兩點(diǎn)，如圖6所示，這不僅會對計(jì)算的精度有影 響，同時(shí)還會影響計(jì)算的時(shí)間。因此需要對目前的方法作進(jìn)一步的改進(jìn)，以解決上述問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008] 在
【發(fā)明內(nèi)容】
部分中引入了一系列簡化形式的概念，這將在【具體實(shí)施方式】部分中進(jìn) 一步詳細(xì)說明。本發(fā)明的
【發(fā)明內(nèi)容】
部分并不意味著要試圖限定出所要求保護(hù)的技術(shù)方案的 關(guān)鍵特征和必要技術(shù)特征，更不意味著試圖確定所要求保護(hù)的技術(shù)方案的保護(hù)范圍。
[0009] 本發(fā)明提供了一種缺口線端的0PC修正方法，包括：
[0010] 步驟（a)提供具有缺口線端的線條圖案，根據(jù)基于模型的0PC修正將所述線條圖 案分為多段，并在所述缺口線端上生成多個(gè)關(guān)鍵尺寸目標(biāo)值位置；
[0011] 步驟（b)將所述多個(gè)關(guān)鍵尺寸目標(biāo)值位置減少為一個(gè)目標(biāo)值位置，并重新設(shè)置所 述目標(biāo)值位置的坐標(biāo)，以得到最佳目標(biāo)值位置，縮短修正時(shí)間。
[0012] 作為優(yōu)選，所述步驟（b)中，根據(jù)夫瑯禾費(fèi)的單孔衍射推理，在任一點(diǎn)的光的強(qiáng)度 跟所述缺口的尺寸面積成正比，將所述多個(gè)關(guān)鍵尺寸目標(biāo)值位置減少一個(gè)目標(biāo)值，并優(yōu)化 目標(biāo)值放置位置得到所述最佳目標(biāo)值位置。
[0013] 作為優(yōu)選，根據(jù)夫瑯禾費(fèi)的單孔衍射推理得到公式（I)，根據(jù)公式（I)計(jì)算所述最 佳目標(biāo)值位置的坐標(biāo)px、py:
[0014]
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種缺口線端的OPC修正方法，包括： 步驟（a)提供具有缺口線端的線條圖案，根據(jù)基于模型的0PC修正將所述線條圖案分 為多段，并在所述缺口線端上生成多個(gè)關(guān)鍵尺寸目標(biāo)值位置； 步驟（b)將所述多個(gè)關(guān)鍵尺寸目標(biāo)值位置減少為一個(gè)目標(biāo)值位置，并重新設(shè)置所述目 標(biāo)值位置的坐標(biāo)，以得到最佳目標(biāo)值位置，縮短修正時(shí)間。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟（b)中，根據(jù)夫瑯禾費(fèi)的單孔衍 射推理，在任一點(diǎn)的光的強(qiáng)度跟所述缺口的尺寸面積成正比，將所述多個(gè)關(guān)鍵尺寸目標(biāo)值 位置減少一個(gè)目標(biāo)值，并優(yōu)化目標(biāo)值放置位置得到所述最佳目標(biāo)值位置。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，根據(jù)夫瑯禾費(fèi)的單孔衍射推理得到公 式（I)，根據(jù)公式（I)計(jì)算所述最佳目標(biāo)值位置的坐標(biāo)Px、Py :
其中，A、B分別為所述線條沿x軸方向和沿y軸方向的寬度，a、b分別為所述缺口沿x軸方向和y軸方向的寬度。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述步驟（a)之后包括以下步驟： 將所述線條分割為多段并設(shè)定最小線寬，找出小于所述最小線寬的3倍的多邊形，以 確定線端，量測所述線端沿x軸方向的線寬A。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述方法還包括： 在所述多邊形中量測所述缺口沿x軸方向和y軸方向的寬度a、b，以量測所述缺口的 面積。
6. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：量測所述有缺口線端沿 y軸方向的寬度B。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述寬度B為沒有缺口的一側(cè)的沿y軸方 向的寬度。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括在確定所述缺口線端的 一個(gè)最佳目標(biāo)值位置后，對所述線條圖案進(jìn)行0PC修正的步驟。
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種缺口線端的OPC修正方法，包括：步驟（a）提供具有缺口線端的線條圖案，根據(jù)基于模型的OPC修正將所述線條圖案分為多段，并在所述缺口線端上生成多個(gè)關(guān)鍵尺寸目標(biāo)值位置；步驟（b）將所述多個(gè)關(guān)鍵尺寸目標(biāo)值位置減少為一個(gè)目標(biāo)值位置，并重新設(shè)置所述目標(biāo)值位置的坐標(biāo)，以得到最佳目標(biāo)值位置，縮短修正時(shí)間。在本發(fā)明針對特定線端例如具有缺口的線端時(shí)，在將所述線端分成多段后，在所述線端上形成多個(gè)目標(biāo)值位置，然后將所述線端上的多個(gè)目標(biāo)值位置減小為一個(gè)，并通過夫瑯禾費(fèi)（fraunhofer）的單孔衍射推理計(jì)算一個(gè)目標(biāo)值位置的坐標(biāo)，得到最佳目標(biāo)值位置的坐標(biāo)，以達(dá)到縮短運(yùn)算時(shí)間的目的，更高效的進(jìn)行修正。
【IPC分類】G03F1-36
【公開號】CN104570584
【申請?zhí)枴緾N201310485216
【發(fā)明人】陳福成
【申請人】中芯國際集成電路制造(上海)有限公司
【公開日】2015年4月29日
【申請日】2013年10月16日