專利名稱：:光刻設(shè)備及器件制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及光刻投影設(shè)備及方法。
背景技術(shù)：
：這里使用的術(shù)語“可編程構(gòu)圖結(jié)構(gòu)”應(yīng)當(dāng)被廣義地解釋成表示任何可用來賦予入射輻射束構(gòu)圖的截面的可配置或可編程的結(jié)構(gòu)或領(lǐng)域，所述構(gòu)圖的截面對(duì)應(yīng)于將在襯底的目標(biāo)部分上生成的圖形；術(shù)語“光閥”和“空間光調(diào)制器”(SLM)也可在本文中用到?？偟膩碚f，這種圖形與在目標(biāo)部分諸如集成電路中生成的器件或其他器件(見下文)中的特定功能層相對(duì)應(yīng)。此類構(gòu)圖結(jié)構(gòu)的例子包括-可編程反射鏡陣列。這種裝置的一個(gè)例子是具有黏彈性控制層和反射層的矩陣可尋址表面。該裝置的基本原理是(例如)反射表面的被尋址的區(qū)域?qū)⑷肷漭椛浞瓷錇檠苌漭椛?，而未尋址的區(qū)域?qū)⑷肷漭椛浞瓷錇榉茄苌漭椛?。使用合適的過濾器可以將非衍射輻射從反射束中過濾掉，而只留下衍射輻射；以這種方式，輻射束就變?yōu)楦鶕?jù)矩陣可尋址表面的尋址圖形進(jìn)行構(gòu)圖。以相應(yīng)的方式可以使用光柵光閥陣列(GLVs)，其中每個(gè)GLV可包括多個(gè)反射帶，其中各個(gè)反射帶可相對(duì)彼此變形(例如在施加一個(gè)電壓時(shí))以形成一個(gè)將入射輻射反射為衍射輻射的光柵?？删幊谭瓷溏R的另一個(gè)可選的實(shí)施例使用了非常小(可能用顯微鏡才可見的)的反射鏡的矩陣布置，其中每個(gè)反射鏡在施加了合適的局部電場(chǎng)或通過使用壓電致動(dòng)裝置可單獨(dú)地關(guān)于軸傾斜。例如，這些反射鏡可以是矩陣可尋址的，因此被尋址的反射鏡將入射輻射束以一不同方向反射給未尋址的反射鏡；以此方式，反射束根據(jù)矩陣可尋址反射鏡的尋址圖形被構(gòu)圖?？墒褂煤线m的電子裝置執(zhí)行所需的矩陣尋址。在上面描述的兩種情況中，構(gòu)圖裝置可包括一個(gè)或多個(gè)可編程反射鏡陣列。這里所提到的關(guān)于反射鏡的更多信息可從例如美國專利No.5296891和5523193以及PCT專利申請(qǐng)No.WO98/38597和WO98/33096中發(fā)現(xiàn)，這些文件的內(nèi)容已結(jié)合在此作為參考。在可編程反射鏡陣列的情況下，支撐結(jié)構(gòu)可實(shí)現(xiàn)為例如可按需要固定或可移動(dòng)的框架或平臺(tái)。-可編程LCD陣列。美國專利No.5229872中給出了該結(jié)構(gòu)的一個(gè)例子，其內(nèi)容已在結(jié)合在此作為參考。如上所述，在這種情形中，支撐結(jié)構(gòu)可實(shí)現(xiàn)為例如可按需要固定或可移動(dòng)的框架或平臺(tái)。應(yīng)該意識(shí)到，在使用特征的預(yù)偏置、光學(xué)鄰近校正特征、相變技術(shù)和/或多次曝光技術(shù)時(shí)，“顯示”在可編程構(gòu)圖結(jié)構(gòu)上的圖形可以與最終轉(zhuǎn)移到襯底或其層上的圖形有相當(dāng)大的不同。光刻投影設(shè)備可以用在例如集成電路(Ics)、平板顯示器和其他包括精細(xì)結(jié)構(gòu)的裝置制造中。在這種情況下，可編程構(gòu)圖結(jié)構(gòu)可生成對(duì)應(yīng)于例如IC的單獨(dú)層的電路圖形，并且該圖形可被成像到已經(jīng)被涂布了一層輻射敏感材料(例如抗蝕劑)的襯底(例如玻璃板或硅或其他半導(dǎo)體材料的晶片)上的目標(biāo)部分(例如包括一個(gè)或多個(gè)管芯和/其一部分)中。通常，單獨(dú)的襯底將可包含整個(gè)矩陣(matrix)或通過投影系統(tǒng)連續(xù)照射(例如一次一個(gè)地)的相鄰目標(biāo)部分的網(wǎng)絡(luò)。光刻投影設(shè)備可以是通常稱作為步進(jìn)和掃描(step-and-scan)設(shè)備的類型。在這種設(shè)備中，每個(gè)目標(biāo)部分都通過在給定參考方向(“掃描”方向)上通過輻射束連續(xù)地掃描掩模圖形來照射，同時(shí)平行或反平行于該方向基本上同步地掃描襯底臺(tái)。由于通常投影設(shè)備具有放大因子M(通常小于1)，所以掃描襯底臺(tái)的速度V是因子M乘以掃描掩模臺(tái)的速度。掃描型設(shè)備中的束具有隙縫并在掃瞄方向上具有一個(gè)縫寬。關(guān)于這里所描述的關(guān)于光刻設(shè)備的更多信息例如可從美國專利No.6046792中發(fā)現(xiàn)，其內(nèi)容已在結(jié)合在此作為參考。在使用光刻投影設(shè)備的生產(chǎn)過程中，圖形(例如在掩模中)被成像到至少部分由輻射敏感材料(例如抗蝕劑)層覆蓋的襯底上。在成像之前，襯底還要經(jīng)歷各種其它工序諸如修緣(priming)、抗蝕劑涂布和/或軟烘焙。在曝光之后，襯底還要進(jìn)行其他工序，例如曝光后烘焙(PEB)、顯影、硬烘焙，和/或成像特征的測(cè)量/檢查。這套工序可作為構(gòu)圖器件(例如IC)的單獨(dú)層的基礎(chǔ)。例如，這些轉(zhuǎn)移過程將在襯底上導(dǎo)致構(gòu)圖的抗蝕劑層。此后還會(huì)有一個(gè)或多個(gè)圖形處理，例如沉積、蝕刻、離子植入(摻雜)、金屬化、氧化、化學(xué)-機(jī)械拋光等，其中每個(gè)步驟都用于產(chǎn)生、修改或完成單獨(dú)層。如果需要多個(gè)層，則對(duì)每個(gè)新層重復(fù)整個(gè)過程或其變型。最后在襯底(晶片)上就會(huì)呈現(xiàn)器件陣列。這些器件隨后通過諸如切割(dicing)或鋸割(sawing)的技術(shù)被彼此分離，從而單獨(dú)的器件可以被安裝到載體上，連接到管腳上等。關(guān)于這些處理的更多信息例如可從PetervanZant所著，書名為“MicrochipFaabricationAPracticalGuidetoSemiconductorProcessing”(第三版，McGrawHillPublishing公司出版，1997年，ISBN0-07-067250-4)的書中發(fā)現(xiàn)。術(shù)語“投影系統(tǒng)”應(yīng)被廣泛地解釋為包含了不同形式的投影系統(tǒng)，例如包括了折射光學(xué)器件、反射光學(xué)器件、反折射系統(tǒng)以及微透鏡陣列。應(yīng)該理解在該應(yīng)用中的術(shù)語“投影系統(tǒng)”簡單地指用于將圖形從可編程構(gòu)圖結(jié)構(gòu)傳送到襯底上的任何系統(tǒng)。為簡單起見，在下文中投影系統(tǒng)指的是“投影透鏡”。輻射系統(tǒng)還可包括根據(jù)這些設(shè)計(jì)類型的任何一個(gè)操作的用于引導(dǎo)、成形、減小、放大、構(gòu)圖、和/或其他控制輻射束的組件，并且這些組件還可在下面全部地或單獨(dú)的指“透鏡”。另外，光刻設(shè)備還可以是具有兩個(gè)或多個(gè)襯底臺(tái)(和/或兩個(gè)或多個(gè)掩模臺(tái))的類型。在這種“多級(jí)”裝置中，附加的臺(tái)可以被并行地使用，或在一個(gè)或多個(gè)臺(tái)上進(jìn)行預(yù)備步驟的同時(shí)一個(gè)或多個(gè)其他臺(tái)用于曝光。例如在美國專利No.5969441以及PCT申請(qǐng)No.WO98/40791中對(duì)雙級(jí)光刻設(shè)備進(jìn)行了描述，其內(nèi)容已在此作為參考引入。光刻設(shè)備還可以是這樣的類型，其中將襯底浸沒在具有相對(duì)高折射率的液體(例如水)中，從而填充投影系統(tǒng)的最終元件和襯底之間的空間。浸沒液體還可被應(yīng)用到光刻設(shè)備中的其他空間，例如位于掩模和投影系統(tǒng)的第一元件之間。使用浸沒技術(shù)來提高投影系統(tǒng)的有效數(shù)值孔徑在本領(lǐng)域中是公知的。在本文獻(xiàn)中，術(shù)語“輻射”和“束”用于包括所有類型的電磁輻射，包括紫外線輻射(例如具有365、248、193、157或126nm的波長)和EUV(遠(yuǎn)紫外輻射，例如具有范圍5-20nm的波長)，以及粒子束(例如離子束或電子束)。在目前所知的利用可編程構(gòu)圖結(jié)構(gòu)的光刻投影設(shè)備中，在構(gòu)圖的輻射束的路徑上(例如位于可編程構(gòu)圖結(jié)構(gòu)的下方)掃描襯底臺(tái)。在可編程構(gòu)圖結(jié)構(gòu)上設(shè)置圖形并隨后在輻射系統(tǒng)的脈沖期間在襯底上曝光該圖形。在輻射系統(tǒng)的下一次脈沖之前的時(shí)間間隔中，襯底臺(tái)將襯底移動(dòng)到曝光襯底的下一個(gè)目標(biāo)部分(可能包括之前的目標(biāo)部分的全部或部分)所需的位置，并且如果需要的話，更新可編程構(gòu)圖結(jié)構(gòu)上的圖形。這種過程可以重復(fù)進(jìn)行直到襯底上的一條完整的線(例如目標(biāo)部分的行)已經(jīng)被掃描，從而開始了一條新線。在輻射系統(tǒng)的脈沖所持續(xù)的小且有限的時(shí)間內(nèi)，襯底臺(tái)必然已移動(dòng)一個(gè)小且有限的距離。此前，這類移動(dòng)對(duì)于利用可編程構(gòu)圖結(jié)構(gòu)的光刻投影設(shè)備不是問題，例如，因?yàn)樵诿}沖期間襯底移動(dòng)的尺寸相對(duì)于正在襯底上曝光的特征的尺寸相對(duì)較小。因此產(chǎn)生的誤差不顯著。然而，隨著襯底上制造的特征的尺寸變得更小，這種誤差就變得更加顯著了。美國專利申請(qǐng)No.2004/0141166中對(duì)此問題提出了一種解決方案。雖然在本文中在制造IC中對(duì)使用根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的設(shè)備的進(jìn)行了特定的參照，但應(yīng)明確理解的是這種設(shè)備也具有許多其他可能的應(yīng)用。例如，可以在集成光學(xué)系統(tǒng)、用于磁疇存儲(chǔ)器的引導(dǎo)和檢測(cè)圖形、液晶顯示面板(LCD)、薄膜磁頭、薄膜晶體管(TFT)LCD面板、印刷電路板(PCBs)、DNA分析裝置等的制造過程中得到應(yīng)用。本領(lǐng)域技術(shù)人員可以認(rèn)識(shí)到，在這類可選應(yīng)用的上下文中，任何用到的術(shù)語“晶片”或“管芯”應(yīng)認(rèn)為可以分別被更加通用的術(shù)語“襯底”和“目標(biāo)部分”所代替。
發(fā)明內(nèi)容根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，提供了一種光刻投影設(shè)備，包括投影系統(tǒng)，用于將構(gòu)圖的輻射束投射到襯底的目標(biāo)部分上；定位結(jié)構(gòu)，用于在由構(gòu)圖的輻射束曝光期間相對(duì)于投影系統(tǒng)移動(dòng)襯底；可在樞軸上轉(zhuǎn)動(dòng)的(pivotable)反射鏡，用于在構(gòu)圖的輻射束的至少一個(gè)脈沖期間相對(duì)于投影系統(tǒng)移動(dòng)構(gòu)圖的輻射束；和致動(dòng)器，用于根據(jù)基本上對(duì)應(yīng)于輻射系統(tǒng)的脈沖頻率的振蕩(oscillation)定時(shí)而振蕩地在樞軸上轉(zhuǎn)動(dòng)反射鏡以便在所述至少一個(gè)脈沖期間與襯底的移動(dòng)基本上同步地掃描構(gòu)圖的輻射束。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，提供了一種器件制造方法，包括提供脈沖輻射束；根據(jù)期望的圖形對(duì)脈沖輻射束構(gòu)圖；將構(gòu)圖的輻射束投射到至少部分地覆蓋襯底的輻射敏感材料層的目標(biāo)部分上；相對(duì)投影系統(tǒng)移動(dòng)襯底，該投影系統(tǒng)在曝光期間中將構(gòu)圖輻射束投射到襯底上；以及根據(jù)基本上對(duì)應(yīng)于構(gòu)圖的輻射束的脈沖頻率的振蕩定時(shí)而振蕩地在樞軸上轉(zhuǎn)動(dòng)可在樞軸上轉(zhuǎn)動(dòng)的反射鏡，從而在構(gòu)圖的輻射束的至少一個(gè)脈沖期間相對(duì)于投影系統(tǒng)改變構(gòu)圖的輻射束的路徑，其中在所述至少一次脈沖期間與襯底的移動(dòng)基本上同步地改變?cè)撀窂讲⑶移渲性摌?gòu)圖的輻射束的截面被投射到與襯底的目標(biāo)部分表面基本上平行的平面上。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，提供了一種器件制造方法，包括相對(duì)于投影系統(tǒng)移動(dòng)襯底，該投影系統(tǒng)在曝光期間將構(gòu)圖的輻射束投射到襯底上；根據(jù)基本上對(duì)應(yīng)于構(gòu)圖的輻射束的脈沖頻率的振蕩定時(shí)而振蕩地在樞軸上轉(zhuǎn)動(dòng)可在樞軸上轉(zhuǎn)動(dòng)的反射鏡從而與襯底的移動(dòng)基本上同步地改變構(gòu)圖的輻射束的路徑；以及將構(gòu)圖的輻射束投射到襯底上。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，這里提供了一種光刻設(shè)備，包括用于調(diào)節(jié)輻射束的照明系統(tǒng)；構(gòu)造成支撐構(gòu)圖裝置的支架，該構(gòu)圖裝置能夠在輻射束的截面上賦予該輻射束圖形以形成構(gòu)圖的輻射束；構(gòu)造成保持襯底的襯底臺(tái)；和用于將構(gòu)圖的輻射束投射到襯底的目標(biāo)部分上的投影系統(tǒng)；其中該設(shè)備包括用于測(cè)量構(gòu)圖裝置位置的位置測(cè)量系統(tǒng)；用于測(cè)量襯底位置的位置測(cè)量系統(tǒng)；以及輻射束位置調(diào)節(jié)器，用于響應(yīng)于構(gòu)圖裝置和襯底的測(cè)量的相對(duì)位置與期望的相對(duì)位置的偏差相對(duì)于投影系統(tǒng)的位置調(diào)節(jié)投射到襯底上的構(gòu)圖的輻射束的位置。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，提供了一種器件制造方法，包括使用構(gòu)圖裝置構(gòu)圖輻射束；將構(gòu)圖的輻射束投射到襯底的目標(biāo)部分上以形成曝光；在所述曝光期間測(cè)量構(gòu)圖裝置的位置；在所述曝光期間測(cè)量襯底的位置；使用輻射束位置調(diào)節(jié)器以響應(yīng)于構(gòu)圖裝置和襯底的測(cè)量的相對(duì)位置與期望的相對(duì)位置的偏差相對(duì)于投影系統(tǒng)調(diào)節(jié)投射到襯底上的構(gòu)圖的輻射束的位置。僅通過舉例的方式參照示意性附圖描述本發(fā)明的實(shí)施例，其中圖1描述了根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的光刻投影設(shè)備；圖2示意地描述了根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的用來移動(dòng)構(gòu)圖的輻射束的結(jié)構(gòu)；圖3示意地描述了一個(gè)結(jié)構(gòu)，用來在該結(jié)構(gòu)部分移動(dòng)之后移動(dòng)構(gòu)圖的輻射束；圖4示意地描述了一個(gè)結(jié)構(gòu)，用來在該結(jié)構(gòu)進(jìn)一步移動(dòng)之后移動(dòng)構(gòu)圖的輻射束；圖5示意地描述了可用于控制該結(jié)構(gòu)的移動(dòng)的控制環(huán)路的一個(gè)示例；圖6示意地描述了用來移動(dòng)構(gòu)圖的輻射束的結(jié)構(gòu)的變形，；圖7示意地描述了根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)特定實(shí)施例的控制系統(tǒng)；圖8示意地描述了根據(jù)本發(fā)明的不同的特定實(shí)施例的控制系統(tǒng)；圖9示意地描述了可通過本發(fā)明的一個(gè)特定實(shí)施例使用的柔性支架；圖10示意地描述了將本發(fā)明應(yīng)用于利用掩模來構(gòu)圖輻射束的光刻設(shè)備。在這些附圖中，相應(yīng)的附圖標(biāo)記表示相應(yīng)的部件。具體實(shí)施方式本發(fā)明的實(shí)施例包括，例如方法和設(shè)備，其可用于減少在輻射系統(tǒng)的脈沖期間由襯底的移動(dòng)造成的誤差。圖1示意地描述了根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)特定實(shí)施例的光刻投影設(shè)備1，該設(shè)備包括用于提供輻射束的輻射系統(tǒng)(例如，具有能夠提供輻射束的結(jié)構(gòu))。在這個(gè)特定例子中，用來提供輻射束PB(例如UV或EUV照射)的輻射系統(tǒng)Ex、IL還包括了輻射源LA；可編程構(gòu)圖結(jié)構(gòu)PPM(例如可編程反射鏡陣列)，配置成用于將圖形施加給輻射束。通常，可編程構(gòu)圖結(jié)構(gòu)的位置相對(duì)于投影系統(tǒng)PL是固定的。然而，它也可以替代地被連接到用來將其相對(duì)于投影系統(tǒng)PL精確定位的定位結(jié)構(gòu)上；用于保持襯底的目標(biāo)臺(tái)(襯底臺(tái))WT。在這個(gè)例子中，襯底臺(tái)WT被提供有用于保持襯底W(例如涂布抗蝕劑的半導(dǎo)體晶片)的襯底保持器并被連接到用于相對(duì)于投影系統(tǒng)PL和(例如干涉測(cè)量)測(cè)量結(jié)構(gòu)IF準(zhǔn)確定位襯底的定位結(jié)構(gòu)PW，測(cè)量結(jié)構(gòu)IF用于準(zhǔn)確地指示襯底和/或襯底臺(tái)相對(duì)于投影系統(tǒng)PL的位置；以及投影系統(tǒng)(“投影透鏡”)PL(例如石英和/或CaF2投影透鏡系統(tǒng)、包括了由這些材料制成的透鏡元件的反折射系統(tǒng)、和/或反射鏡系統(tǒng))，用于將構(gòu)圖的輻射束投影到襯底W的目標(biāo)部分C(例如包含一或多個(gè)管芯和/或其一個(gè)或多個(gè)部分)上。投影系統(tǒng)可將可編程構(gòu)圖結(jié)構(gòu)的圖像投射到襯底上。如這里所描述的，該設(shè)備為反射型的(例如，具有反射可編程構(gòu)圖結(jié)構(gòu))。然而，通常，其也可是透射型的(例如，具有透射可編程構(gòu)圖結(jié)構(gòu))，或具有兩種類型的特點(diǎn)。源LA(例如汞燈、受激準(zhǔn)分子激光器、電子槍、激光產(chǎn)生的等離子體源或放電等離子體源，或圍繞儲(chǔ)存環(huán)或同步加速器中的電子束的路徑配置的波動(dòng)器(undulator))產(chǎn)生輻射束。該輻射束被直接或橫穿一個(gè)調(diào)節(jié)結(jié)構(gòu)或場(chǎng)例如一個(gè)束擴(kuò)展器Ex后被輸送到照明系統(tǒng)(照明器)IL中。照明器IL包括用于設(shè)定輻射束中強(qiáng)度分布的外和/或內(nèi)徑向范圍(通常稱作σ-外和σ-內(nèi))的調(diào)節(jié)結(jié)構(gòu)或場(chǎng)AM，其可影響由輻射束傳送到例如襯底上的輻射能量的角分布。另外，該設(shè)備通常包括不同的其他組件，例如積分器IN和聚光器CO。以這種方式，照射在可編程構(gòu)圖結(jié)構(gòu)PPM上的束PB在其截面上具有期望的均勻性和強(qiáng)度分布。關(guān)于圖1應(yīng)該注意的是源LA可位于光刻投影設(shè)備的殼體內(nèi)(通常當(dāng)源LA是例如汞燈時(shí))，但是也可遠(yuǎn)離光刻投影設(shè)備，其產(chǎn)生的輻射束被引入該設(shè)備(例如借助于適當(dāng)?shù)亩ㄏ蚍瓷溏R)；后面的方案通常是當(dāng)源LA是受激準(zhǔn)分子激光器時(shí)。本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例和權(quán)利要求包含了這兩種方案。在典型的源LA中，存在可在光刻成像處理中導(dǎo)致成像誤差的多個(gè)影響因素。在一個(gè)實(shí)施例中，其中源LA提供脈沖輻射，例如可包括脈沖振幅變化、脈沖寬度變化、脈沖-脈沖變化，即所知的抖動(dòng)(jitter)。輻射束PB從而截取(intercept)被保持在掩模臺(tái)(未示出)的可編程構(gòu)圖結(jié)構(gòu)PPM。在被可編程構(gòu)圖結(jié)構(gòu)PPM選擇性地反射之后(可選擇地，橫穿之后)，輻射束PB通過投影系統(tǒng)PL，后者將輻射束PB會(huì)聚到襯底W的目標(biāo)部分C上。在圖1的實(shí)施例中，分束器BS用來將輻射束引導(dǎo)到構(gòu)圖結(jié)構(gòu)PPM，同時(shí)還允許它穿過投影系統(tǒng)PL，但是其他可選的幾何尺寸也在本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例的范圍之內(nèi)。應(yīng)該意識(shí)到，雖然這里所描述的本發(fā)明的實(shí)施例與結(jié)合了可編程構(gòu)圖結(jié)構(gòu)以將圖形賦予輻射束的光刻設(shè)備相關(guān)，本發(fā)明不限于這種設(shè)置。特別地，本發(fā)明的實(shí)施例可以和這樣的光刻投影設(shè)備共同使用，在該光刻投影設(shè)備中，例如保持在掩模臺(tái)上掩模被用于將圖形賦予輻射束。借助于定位結(jié)構(gòu)(以及干涉測(cè)量結(jié)構(gòu)IF)，襯底臺(tái)WT可被精確地移動(dòng)，以便例如在輻射束PB的路徑上定位不同的目標(biāo)部分C。當(dāng)使用時(shí)，可編程構(gòu)圖結(jié)構(gòu)PPM的定位結(jié)構(gòu)可以被用于相對(duì)于輻射束PB的路徑準(zhǔn)確地定位可編程構(gòu)圖結(jié)構(gòu)PPM(例如在放置了可編程構(gòu)圖結(jié)構(gòu)PPM之后、在掃描之間，和/或在掃描期間)。通常，可借助于未在圖1中明確示出的長沖程模塊(例如用于粗定位)和短沖程模塊(例如用于精細(xì)定位)實(shí)現(xiàn)目標(biāo)臺(tái)WT的移動(dòng)。可以使用類似的系統(tǒng)來定位可編程構(gòu)圖結(jié)構(gòu)PPM。應(yīng)該意識(shí)到，為了提供所需要的相對(duì)運(yùn)動(dòng)，輻射束可選地或附加地是可移動(dòng)的，而目標(biāo)臺(tái)和/或可編程構(gòu)圖結(jié)構(gòu)PPM可具有固定位置?？删幊虡?gòu)圖結(jié)構(gòu)PPM和襯底W可以利用襯底對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記P1、P2(可能與可編程構(gòu)圖結(jié)構(gòu)PPM的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記結(jié)合使用)來對(duì)齊。該描述的設(shè)備可用于多種不同的模式。在一個(gè)掃描模式中，掩模臺(tái)可在給定方向(所謂“掃描方向”，例如y方向)以速度v運(yùn)動(dòng)，因此引起輻射束PB掃描掩模圖像。與此同時(shí)，襯底臺(tái)WT以速度V＝Mv沿相同或相反的方向同步地移動(dòng)，其中M是投影系統(tǒng)PL的放大率(通常M＝1/4或1/5)。在某些實(shí)施例中，縮小率顯著小于1，例如小于0.3、小于0.1、小于0.05、小于0.01、小于0.005、或小于0.0035。同樣地，預(yù)計(jì)M可大于0.001，或位于一個(gè)從0.001到前面所提到的上限的范圍之內(nèi)。以此方式，就可以對(duì)一個(gè)相對(duì)大的目標(biāo)部分進(jìn)行曝光，而不損害分辨率。在另一種模式中，掩模臺(tái)基本上保持固定地保持可編程構(gòu)圖結(jié)構(gòu)，并且在賦予輻射束的圖形被投射到目標(biāo)部分C上的同時(shí)移動(dòng)或掃描襯底臺(tái)WT。在這種模式下，通常使用脈沖輻射源并且如果需要的話在襯底臺(tái)WT的每次移動(dòng)之后或在掃描期間的連續(xù)輻射脈沖之間更新可編程構(gòu)圖結(jié)構(gòu)。這種操作模式可以容易地應(yīng)用到使用可編程構(gòu)圖結(jié)構(gòu)例如上面所提到的可編程反射鏡陣列的光刻設(shè)備中。也可以使用上面所描述的模式的組合和/或變形，或使用完全不同的模式。例如附圖1中所描述的設(shè)備可以用于下列方式。在脈沖模式中，可編程構(gòu)圖結(jié)構(gòu)PPM基本保持固定，并且使用脈沖輻射源將整個(gè)圖形投射到襯底的目標(biāo)部分C上。襯底臺(tái)WT以基本恒定的速度移動(dòng)以便使得輻射束PB跨襯底W掃描一條線。可編程構(gòu)圖結(jié)構(gòu)PPM上的圖形可根據(jù)需要在輻射系統(tǒng)的脈沖之間進(jìn)行更新，并且對(duì)脈沖進(jìn)行定時(shí)以便在襯底W上的所需位置處曝光連續(xù)的目標(biāo)部分C。因此，輻射束PB可以跨襯底W掃描以曝光一條襯底的整個(gè)圖形。該過程可重復(fù)進(jìn)行直到整個(gè)襯底W被逐行曝光。也可以使用不同的模式。由于襯底臺(tái)在成像期間的相對(duì)運(yùn)動(dòng)，輻射源LA處的時(shí)域變化映射到襯底臺(tái)WT處的空間域變化。這產(chǎn)生了兩個(gè)主要影響。首先，當(dāng)脈沖間隔發(fā)生變化時(shí)，襯底上的成像位置也發(fā)生變化。例如，稍長于平均值的脈沖間隔會(huì)導(dǎo)致襯底的成像部分之間的更大的距離。第二，由于在脈沖區(qū)間襯底的較長或較短部分橫穿圖像場(chǎng)，脈沖持續(xù)時(shí)間的變化會(huì)導(dǎo)致模糊效應(yīng)。為了解決襯底臺(tái)WT的運(yùn)動(dòng)，根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的裝置包括形成投影系統(tǒng)PL一部分的反射鏡10，如圖2所示。特別地，反射鏡10最好最接近投影系統(tǒng)PL的光瞳定位或是位于其共軛面內(nèi)。雖然附圖2顯示的投影系統(tǒng)為具有平分(bisecting)投影系統(tǒng)PL的反射鏡10兩部分裝置，但這通常并不是本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例所需要的。相反的，投影系統(tǒng)PL的特定布置可以根據(jù)其他期望的成像特性按需變化。應(yīng)該意識(shí)到，反射鏡10應(yīng)該是基本上平面的，雖然在實(shí)際中也可能允許某些彎曲，由此投影系統(tǒng)的一部分光功率駐留在反射鏡中。還布置有一個(gè)或一組致動(dòng)器12，用來在成像操作期間移動(dòng)反射鏡10。在一個(gè)特定的實(shí)施例中，致動(dòng)器12被布置以相對(duì)高的頻率關(guān)于一個(gè)小的角度反復(fù)地轉(zhuǎn)動(dòng)反射鏡10，也就是振蕩地在樞軸上轉(zhuǎn)動(dòng)反射鏡。具體地，關(guān)于位于反射鏡的反射面的軸轉(zhuǎn)動(dòng)。附圖2中所示的系統(tǒng)具有1∶1的放大率，以及反射鏡10的相對(duì)大的轉(zhuǎn)動(dòng)。因此，像平面16上的焦點(diǎn)14從光軸18移動(dòng)一個(gè)相對(duì)大的量d。在實(shí)際中，這可以是顯著縮小的，并且反射鏡10的傾斜也可以非常小，以便位移量也非常的小。特別地，圖像的位移應(yīng)該基本上對(duì)應(yīng)于襯底臺(tái)在輻射源的單個(gè)脈沖持續(xù)時(shí)間期間橫穿的距離。例如，在邊緣射線位置的在反射鏡10處的1nm的位移映射為在像平面16處的1/NA的位移量，其中NA是投影系統(tǒng)PL的數(shù)值孔徑。類似地，在光瞳D[以m]處在輻射束直徑上平移(translate)的反射鏡轉(zhuǎn)動(dòng)變化a’[以rad/s]等于如下的襯底級(jí)的速度v[以m/s]v＝a’D/(2NA)。圖3和4所示示意地示出了由于連續(xù)的脈沖被成像到聚焦平面上，在單次掃描中后來的多次。在圖3中，反射鏡10轉(zhuǎn)動(dòng)通過它的過零區(qū)間(zero-crossing)，焦點(diǎn)14與光軸18對(duì)齊。圖4繼續(xù)該運(yùn)動(dòng)并且焦點(diǎn)14再一次在與圖2的初始位移相反的方向遠(yuǎn)離光軸18。在典型的光刻設(shè)備中，源LA具有約1-10kHz的脈沖重復(fù)率。因此，保證反射鏡10能與該頻率同相地適當(dāng)振動(dòng)是有益的，這意味著致動(dòng)器或多個(gè)致動(dòng)器12適用于高頻操作。另外，如果這樣設(shè)計(jì)反射鏡10使得沿著其相關(guān)的安裝結(jié)構(gòu)，其具有與源LA的脈沖頻率基本上相等的共振頻率，那么移動(dòng)反射鏡10所需的能量就可以被最小化。這就具有了附加效果，即致動(dòng)器上的負(fù)載及從而反射鏡10的變形負(fù)載應(yīng)將被最小化。為了進(jìn)一步達(dá)到將反射鏡10的振動(dòng)的頻率與源LA的脈沖頻率相匹配的目標(biāo)，可能包括在控制環(huán)路中與反射鏡10相連的傳感器30、其(多個(gè))致動(dòng)器12，和襯底臺(tái)(如果需要)。為了將反射鏡的移動(dòng)與源脈沖頻率同步，還可以使用不同的方法。例如，來自振動(dòng)反射鏡上的傳感器30的信號(hào)可用于觸發(fā)源脈沖，或是可用鎖相環(huán)系統(tǒng)，其中源頻率固定為反射鏡的平均共振頻率，同時(shí)控制器將反射鏡頻率及相位調(diào)節(jié)為固定的源頻率。如另一例子，提供外部定時(shí)源觸發(fā)源脈沖并且用于控制反射鏡運(yùn)動(dòng)的相位及幅度。除了確保反射鏡10的振動(dòng)的頻率與源LA的頻率基本上同步，保證反射鏡10的轉(zhuǎn)動(dòng)速度的振幅A相應(yīng)于襯底臺(tái)的掃描速度是有益的。另外例如，在典型系統(tǒng)中，實(shí)際的值如下。掃描速度可以約是10mm/s，NA＝1，和D＝20mm。這導(dǎo)致在反射鏡10的正弦轉(zhuǎn)動(dòng)運(yùn)動(dòng)的過零區(qū)間處的a’＝1rad/s。假定對(duì)于正弦運(yùn)動(dòng)a＝Asin(2πtυ)，其中A是弧度制的振幅，因此時(shí)間導(dǎo)數(shù)等于a’＝A2πυcos(2πtυ)。在t＝0時(shí)這就變?yōu)閍’＝A2πυ。因此對(duì)于1Hz的振動(dòng)，反射鏡運(yùn)動(dòng)的幅度變?yōu)锳＝0.16mrad。選擇反射鏡的正弦轉(zhuǎn)動(dòng)運(yùn)動(dòng)可允許一些有利的影響。特別地，通過選擇靠近過零區(qū)間的運(yùn)動(dòng)的一部分與成像脈沖一致，和小的振幅，正弦運(yùn)動(dòng)基本上是線性的。另外，在運(yùn)動(dòng)的端點(diǎn)處逐漸減速和加速降低了反射鏡上的壓力，而如果不檢查的話，該壓力會(huì)隨著時(shí)間導(dǎo)致反射鏡的變形。然而應(yīng)該意識(shí)到，本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例并不限于使用正弦轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。反射鏡還可被耦合到一個(gè)或多個(gè)配重(balancemasses)。一個(gè)或多個(gè)配重用于承受和隔離致動(dòng)器振動(dòng)反射鏡時(shí)產(chǎn)生的力。特別地，一個(gè)或多個(gè)配重用于在與致動(dòng)器產(chǎn)生的力相反的方向可以自由運(yùn)動(dòng)，保持配重-反射鏡系統(tǒng)的動(dòng)量守恒，由此減小引入到光刻設(shè)備的其他部分的力。盡管，如上所述，反射鏡組件(也即反射鏡、其相關(guān)的安裝結(jié)構(gòu)及驅(qū)動(dòng)其的致動(dòng)器系統(tǒng)的組合)的共振頻率可以設(shè)定為與源LA的脈沖頻率相匹配，在實(shí)際中這很難精確地實(shí)現(xiàn)。例如，由于制造誤差或工作期間的熱效應(yīng)，組件的共振頻率可有大到1％的變化。另外，源LA的頻率在工作時(shí)也可變化，導(dǎo)致需要以不是精確的其共振頻率的另一頻率操作反射鏡。另外，對(duì)于某些構(gòu)造，還期望相對(duì)大的阻尼。因此，可預(yù)計(jì)如果希望使用一個(gè)鎖相環(huán)(PPL)或是位置伺服控制來控制反射鏡的振蕩，就需要控制器以為反射鏡振蕩頻率的多倍的頻率操作。例如，如果源具有6KHz的脈沖頻率，反射鏡也將具有相同的頻率而反射鏡的控制器將具有例如60KHz的頻率。應(yīng)該意識(shí)到采樣頻率應(yīng)該是期望的振蕩頻率的整數(shù)倍從而避免產(chǎn)生不期望的諧波。然而，在本發(fā)明的一個(gè)特定實(shí)施例中，提供了一種附圖7所示的控制系統(tǒng)。在此結(jié)構(gòu)中，信號(hào)發(fā)生器40產(chǎn)生一對(duì)應(yīng)于反射鏡運(yùn)動(dòng)的期望的振蕩頻率、相位和振幅的參考信號(hào)。然后該信號(hào)通過相位補(bǔ)償器41和振幅補(bǔ)償器42進(jìn)行修正以產(chǎn)生相位和振幅補(bǔ)償信號(hào)43。該補(bǔ)償信號(hào)被提供給致動(dòng)器系統(tǒng)44，從而導(dǎo)致反射鏡45的振蕩。傳感器46用于測(cè)量反射鏡的實(shí)際運(yùn)動(dòng)。從而，相位和振幅計(jì)算單元47確定反射鏡的實(shí)際運(yùn)動(dòng)與由信號(hào)發(fā)生器40產(chǎn)生的參考信號(hào)所代表的期望運(yùn)動(dòng)之間的差異。據(jù)此，相位和振幅計(jì)算單元47確定反射鏡的期望和實(shí)際運(yùn)動(dòng)之間的相差以及反射鏡運(yùn)動(dòng)的期望和實(shí)際振幅之間的差異。這些差異分別被反饋給相位補(bǔ)償器41和振幅補(bǔ)償器42，以產(chǎn)生相位和振幅補(bǔ)償信號(hào)43。有利的是，雖然參考信號(hào)發(fā)生器40和測(cè)量反射鏡運(yùn)動(dòng)的傳感器46需要以多倍于反射鏡振蕩頻率的頻率工作的電子器件，但是相位和振幅計(jì)算單元47、相位補(bǔ)償器41和振幅補(bǔ)償器42不需要以如此高的頻率工作。因此，控制系統(tǒng)的成本就可以被降低。然而在實(shí)際中，相位和振幅計(jì)算單元47的至少一部分可在較高的采樣頻率下工作。圖8顯示了根據(jù)本發(fā)明另一特定實(shí)施例用于反射鏡運(yùn)動(dòng)的控制系統(tǒng)。和前面一樣，信號(hào)發(fā)生器50產(chǎn)生一個(gè)代表反射鏡的所需運(yùn)動(dòng)的參考信號(hào)。振幅補(bǔ)償器51調(diào)節(jié)信號(hào)的振幅以提供一個(gè)將被提供給致動(dòng)器系統(tǒng)53的振幅補(bǔ)償信號(hào)52，從而導(dǎo)致反射鏡54的振蕩。和前面一樣，傳感器55用于測(cè)量反射鏡的運(yùn)動(dòng)并且相位和振幅計(jì)算單元56測(cè)量反射鏡的實(shí)際運(yùn)動(dòng)和由信號(hào)發(fā)生器50產(chǎn)生的參考信號(hào)表示的期望運(yùn)動(dòng)之間的差異。如上面討論的相對(duì)于圖7的特定實(shí)施例，相位和振幅計(jì)算單元56確定反射鏡運(yùn)動(dòng)的期望和實(shí)際相位和振幅之間的差異并將振幅差異反饋給振幅補(bǔ)償器51，用于產(chǎn)生振幅補(bǔ)償信號(hào)52。但是，在這個(gè)特定實(shí)施例中，相位補(bǔ)償器57利用反射鏡的期望和實(shí)際運(yùn)動(dòng)之間的相差確定反射鏡組件的共振頻率的所需變化。這還提供給共振頻率調(diào)節(jié)單元58，其調(diào)節(jié)反射鏡組件的共振頻率從而減小反射鏡的期望和實(shí)際運(yùn)動(dòng)之間的相差。如上面討論的相對(duì)于圖7的實(shí)施例，雖然參考信號(hào)發(fā)生器50和傳感器55必須以為反射鏡振蕩頻率的多倍的頻率工作，但控制系統(tǒng)的剩余部分可以在較低頻率下工作。因此，可以最小化控制系統(tǒng)的成本。有利的是，因?yàn)樵谶@個(gè)實(shí)施例中反射鏡組件的共振頻率被調(diào)節(jié)到與所需的振蕩頻率相匹配，必須被提供給反射鏡組件的致動(dòng)器系統(tǒng)的驅(qū)動(dòng)信號(hào)的幅度就可大大減小。在這個(gè)方面上，應(yīng)該意識(shí)到驅(qū)動(dòng)信號(hào)的幅度不僅受反射鏡組件內(nèi)阻尼的影響，還受到反射鏡組件的期望振蕩頻率與固有共振頻率之間的差異的大小的影響。因?yàn)榉瓷溏R組件可以被安裝在投影系統(tǒng)內(nèi)，因此減小反射鏡組件所需的驅(qū)動(dòng)信號(hào)的幅度是很有利的。提供給反射鏡組件的驅(qū)動(dòng)信號(hào)的幅度越大，反射鏡組件內(nèi)所產(chǎn)生的熱量就越大，因此會(huì)對(duì)投影系統(tǒng)的精度產(chǎn)生不利的影響。反射鏡組件的共振頻率可以通過提供一種系統(tǒng)來調(diào)節(jié)，通過該系統(tǒng)流體或其它材料，例如金屬削屑(shavings)，可以被有控制地加入反射鏡組件或從反射鏡組件中去除從而調(diào)節(jié)其質(zhì)量。可選地或附加地，通過改變反射鏡組件的剛度來調(diào)節(jié)共振頻率。后面的方法避免了例如由于從反射鏡組件加入和/或去除質(zhì)量的方法所導(dǎo)致的反射鏡組件的重心位置改變所帶來的混亂。圖9顯示了一個(gè)通過其可以調(diào)節(jié)反射鏡組件剛度的結(jié)構(gòu)。特別地，圖中示出了活動(dòng)架(flexiblemount)60可以用于將反射鏡61安裝到投影設(shè)備內(nèi)的基準(zhǔn)62，例如設(shè)備的基準(zhǔn)架或基座上?；顒?dòng)架60包括一個(gè)填充磁-流變(MR)流體的腔63。鄰近腔63是一個(gè)或多個(gè)連接到控制器65的電磁鐵64。磁-流變流體的一個(gè)屬性是流體的粘性和由此的剛度可以作為應(yīng)用到流體的磁場(chǎng)的函數(shù)改變。因此，通過調(diào)節(jié)應(yīng)用給腔63內(nèi)的磁-流變流體的磁場(chǎng)，就可以調(diào)節(jié)活動(dòng)架60的剛度。調(diào)節(jié)一個(gè)或多個(gè)這樣的活動(dòng)架60的剛度就可以調(diào)節(jié)整個(gè)反射鏡組件的剛度。也可以使用用于調(diào)節(jié)反射鏡組件剛度的其他結(jié)構(gòu)。本發(fā)明所的實(shí)施例能夠提供這樣一種能力由于減小了與襯底臺(tái)運(yùn)動(dòng)相關(guān)的模糊，從而增加脈沖時(shí)間。增加的脈沖時(shí)間的一個(gè)有利的結(jié)果是能夠減小峰值強(qiáng)度，而不減小每次脈沖的總能量，從而減小對(duì)光學(xué)元件潛在的損害。另一有用的結(jié)果是時(shí)間模式(temporalmode)的數(shù)量會(huì)增加，從而減少光學(xué)系統(tǒng)中的斑點(diǎn)。最后，較長的脈沖時(shí)間允許截短(truncate)單個(gè)脈沖的能力，從而允許脈沖-脈沖劑量控制調(diào)節(jié)。由襯底在輻射脈沖期間相對(duì)于投影系統(tǒng)的運(yùn)動(dòng)所引起的誤差可以通過提供一或多個(gè)設(shè)備來與襯底在輻射脈沖期間的運(yùn)動(dòng)基本上同步地移動(dòng)構(gòu)圖的輻射束來減小，該設(shè)備允許輻射束更精確地保持在襯底上對(duì)準(zhǔn)?？捎糜谝苿?dòng)構(gòu)圖的輻射束的其他可選結(jié)構(gòu)也落在本發(fā)明一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例的范圍之內(nèi)。特別地，還可以補(bǔ)償在輻射脈沖期間襯底相對(duì)于投影系統(tǒng)的運(yùn)動(dòng)的誤差。這樣的誤差例如是與襯底相對(duì)于投影系統(tǒng)的期望運(yùn)動(dòng)的偏差，例如襯底以一個(gè)基本恒定的速度相對(duì)投影系統(tǒng)掃描。與該期望運(yùn)動(dòng)的偏差可由用于控制襯底運(yùn)動(dòng)的系統(tǒng)中的缺陷引起，例如用于控制襯底位置的致動(dòng)器內(nèi)的接頭(togging)或電機(jī)力因數(shù)(forcefactor)變化，和/或從光刻設(shè)備內(nèi)的其他部件傳遞給襯底的振動(dòng)。襯底相對(duì)于投影系統(tǒng)的運(yùn)動(dòng)與襯底期望運(yùn)動(dòng)的偏差可以通過一個(gè)傳感器的輸出而得出，該傳感器用來測(cè)量襯底或保持襯底的支架的位置或位移。襯底的期望位置與襯底的實(shí)際位置之間的差異對(duì)應(yīng)于所需要的反射鏡10的位置變化。相應(yīng)地，可以配置(多個(gè))致動(dòng)器12通過以與源LA的脈沖頻率基本上同步地振蕩反射鏡所需的運(yùn)動(dòng)的組合來控制反射鏡10的運(yùn)動(dòng)以便構(gòu)圖的輻射束以與襯底的期望位置加校正值基本上同步地掃描，以便補(bǔ)償襯底的運(yùn)動(dòng)相對(duì)其期望運(yùn)動(dòng)的偏差。校正反射鏡10以補(bǔ)償與襯底的期望運(yùn)動(dòng)的偏差可以通過調(diào)節(jié)反射鏡10振蕩的中點(diǎn)來實(shí)現(xiàn)。可選地或附加地，可以通過控制反射鏡10的振蕩和輻射源LA的脈動(dòng)(pulsing)之間的相差來實(shí)現(xiàn)該調(diào)節(jié)?？蛇x地或附加地，如圖6所示，可以提供一個(gè)或多個(gè)第二致動(dòng)器20，通過調(diào)節(jié)(多個(gè))致動(dòng)器12的位置，相應(yīng)于補(bǔ)償襯底的運(yùn)動(dòng)與其期望的運(yùn)動(dòng)的偏差所需的校正提供對(duì)反射鏡10的位置的調(diào)節(jié)。例如，(多個(gè))致動(dòng)器12可控制反射鏡10相對(duì)于(多個(gè))致動(dòng)器12的基座12a的位置。(多個(gè))第二致動(dòng)器20就可因此配置為控制(多個(gè))致動(dòng)器12的基座12a相對(duì)于光刻設(shè)備內(nèi)的基準(zhǔn)的位置。相應(yīng)地，(多個(gè))致動(dòng)器12用于控制反射鏡10的振蕩，以便構(gòu)圖的輻射束被與襯底的期望運(yùn)動(dòng)基本上同步地掃描并且使用(多個(gè))第二致動(dòng)器20以便為襯底的運(yùn)動(dòng)與其期望的運(yùn)動(dòng)的偏差提供任何所需的校正。無論該校正被如何施加到反射鏡10的運(yùn)動(dòng)上，應(yīng)該意識(shí)到可以施加校正以便使反射鏡10關(guān)于與反射鏡關(guān)于其振蕩的軸相同的軸轉(zhuǎn)動(dòng)?？蛇x地或附加地，施加校正以使反射鏡10關(guān)于位于與構(gòu)圖的輻射束入射到該反射鏡的位置處的反射鏡的表面基本上平行、但與反射鏡關(guān)于其振蕩的的軸垂直的面內(nèi)的軸轉(zhuǎn)動(dòng)。因此，可以分別在平行和/或垂直于襯底掃描運(yùn)動(dòng)的方向上對(duì)與期望的襯底運(yùn)動(dòng)的偏差的校正進(jìn)行調(diào)節(jié)。(多個(gè))致動(dòng)器12和第二致動(dòng)器20中的一個(gè)或兩者可以由任何合適的致動(dòng)器或其組合構(gòu)成。特別地，可使用一個(gè)或多個(gè)壓電元件作為(多個(gè))致動(dòng)器12，20?？蛇x地，(多個(gè))致動(dòng)器中的一個(gè)或兩者可以是洛倫茲(Lorentz)致動(dòng)器。這類結(jié)構(gòu)的一個(gè)優(yōu)點(diǎn)是其可以被設(shè)置成使從一個(gè)組件傳遞到另一個(gè)組件的振蕩最小化。相應(yīng)地，(多個(gè))第二致動(dòng)器20，可以特別是洛倫茲(Lorentz)致動(dòng)器并配置來使從振蕩反射鏡10的致動(dòng)器12傳遞給設(shè)備的其它部分的振蕩最小化?？傊?，應(yīng)該意識(shí)到(多個(gè))致動(dòng)器12，20中的一個(gè)或兩者都能夠在多至六個(gè)自由度上調(diào)節(jié)反射鏡的位置。期望在輻射系統(tǒng)的一系列脈沖及脈沖之間的間隔期間以基本恒定的速度相對(duì)投影系統(tǒng)移動(dòng)襯底。這里所描述的設(shè)備從而可用于在輻射系統(tǒng)的至少一個(gè)脈沖的持續(xù)時(shí)間內(nèi)與襯底的運(yùn)動(dòng)基本上同步的移動(dòng)構(gòu)圖的輻射束。使襯底以基本恒定的速度運(yùn)動(dòng)可減小襯底臺(tái)及與之相關(guān)的位置驅(qū)動(dòng)器的復(fù)雜程度，并且與襯底的運(yùn)動(dòng)基本同步地移動(dòng)構(gòu)圖的輻射束可以減少由此產(chǎn)生的誤差。可以在多個(gè)脈沖期間與襯底的運(yùn)動(dòng)基本上同步地移動(dòng)構(gòu)圖的輻射束。這種設(shè)置可以使可編程構(gòu)圖結(jié)構(gòu)的圖像多次投射到襯底的同一位置上。這種技術(shù)可以在例如當(dāng)構(gòu)圖的輻射束的脈沖強(qiáng)度不足以在襯底上產(chǎn)生完全曝光時(shí)使用。與襯底基本上同步地移動(dòng)構(gòu)圖的輻射束可以減少襯底上圖形的連續(xù)曝光之間產(chǎn)生套刻精度(overlay)誤差。通過每個(gè)脈沖在襯底上曝光的可編程構(gòu)圖結(jié)構(gòu)的連續(xù)圖形可能不同。例如，可以在一個(gè)或多個(gè)隨后的脈沖中做出一個(gè)或多個(gè)校正以補(bǔ)償?shù)谝幻}沖中的誤差。可選擇地，可以利用圖形改變來產(chǎn)生用于一個(gè)或多個(gè)特征的灰度級(jí)圖像(例如通過僅對(duì)于全部數(shù)量脈沖的一部分曝光那些成像到襯底的給定部分上的特征)?？蛇x地或附加地，對(duì)于被投射到襯底的同一部分的輻射系統(tǒng)的一個(gè)或多個(gè)脈沖可改變構(gòu)圖的輻射束的強(qiáng)度、可編程構(gòu)圖結(jié)構(gòu)的照明和/或光瞳過濾(pupilfiltering)。例如可使用這種技術(shù)來增加使用在前面描述的段落中的技術(shù)產(chǎn)生的灰度級(jí)的數(shù)目或者可以被用于對(duì)于在不同方向定向的特征優(yōu)化不同的曝光。雖然在上面關(guān)于使用可編程構(gòu)圖結(jié)構(gòu)對(duì)與光刻設(shè)備中期望的襯底運(yùn)動(dòng)的偏差進(jìn)行補(bǔ)償描述了上述結(jié)構(gòu)，但應(yīng)該意識(shí)到該概念同樣可用于通過掩模將圖形施加給輻射束的設(shè)備中。在這種情況下，該掩模可被安置在支架上，因此它可以相對(duì)于被投射到其上的輻射束與襯底相對(duì)于由掩模構(gòu)圖的輻射束的運(yùn)動(dòng)同步地掃描。在這種情況下，襯底的運(yùn)動(dòng)準(zhǔn)確的反映掩模的運(yùn)動(dòng)就是必需的。但是，當(dāng)襯底和掩模的相對(duì)運(yùn)動(dòng)發(fā)生誤差時(shí)，就可以用與上面所描述相同的方式，通過使用調(diào)節(jié)投射到襯底上的輻射束相對(duì)于投影系統(tǒng)的位置的可調(diào)節(jié)反射鏡補(bǔ)償這些誤差。然而應(yīng)意識(shí)到在這種情況中，只需要反射鏡的校正運(yùn)動(dòng)，而不需要如上所述的提供與輻射系統(tǒng)的脈沖同步的反射鏡的振蕩和更新可編程構(gòu)圖結(jié)構(gòu)的圖形所需的系統(tǒng)元件。更進(jìn)一步意識(shí)到，如果投影系統(tǒng)通過一個(gè)給定的因子縮小投射到襯底上的掩模的圖像，則與掩模的運(yùn)動(dòng)相比可以通過相同的因子減小襯底的運(yùn)動(dòng)。附圖10描述了這樣一個(gè)系統(tǒng)，它包括輻射源70，例如調(diào)節(jié)輻射束的照明系統(tǒng)和使用來自源70的輻射束72照明的掩模71。投影系統(tǒng)73用于將輻射束投射到襯底74上。然而如上所述，提供可轉(zhuǎn)動(dòng)安裝的反射鏡75用于調(diào)節(jié)投射到襯底74上的構(gòu)圖的輻射束76相對(duì)于投影系統(tǒng)73的位置。提供致動(dòng)器系統(tǒng)77用于控制可轉(zhuǎn)動(dòng)安裝的反射鏡75的運(yùn)動(dòng)。在附圖10中為清楚起見，可轉(zhuǎn)動(dòng)安裝的反射鏡75在投影系統(tǒng)73后面示出。然而，需要意識(shí)到可轉(zhuǎn)動(dòng)安裝的反射鏡可以是投影系統(tǒng)73的一部分或提供在投影系統(tǒng)之前。另外，可以提供一個(gè)或多個(gè)附加的可轉(zhuǎn)動(dòng)安裝的反射鏡來提供改進(jìn)的對(duì)構(gòu)圖的輻射束相對(duì)于投影系統(tǒng)的運(yùn)動(dòng)的控制。同樣應(yīng)該意識(shí)到也可使用其他機(jī)構(gòu)以調(diào)節(jié)構(gòu)圖的輻射束相對(duì)投影系統(tǒng)的位置。提供測(cè)量系統(tǒng)78、79分別用于測(cè)量掩模71和襯底74的運(yùn)動(dòng)。基于這些測(cè)量，考慮投影系統(tǒng)73的放大率，控制器80確定構(gòu)圖的輻射束76相對(duì)于投影系統(tǒng)73的位置的所需的調(diào)節(jié)以補(bǔ)償掩模71和襯底74的期望的相對(duì)運(yùn)動(dòng)中的偏差。相應(yīng)地，所需信號(hào)供給到致動(dòng)器77以調(diào)節(jié)構(gòu)圖的輻射束76相對(duì)投影系統(tǒng)73的位置。盡管上面對(duì)本發(fā)明的特定實(shí)施例進(jìn)行了描述，應(yīng)該意識(shí)到所要求保護(hù)的本發(fā)明可以用不同于所描述的方式去實(shí)現(xiàn)。例如，雖然這里描述了使用光刻設(shè)備曝光襯底上的抗蝕劑，應(yīng)該意識(shí)到本發(fā)明絕不僅限于該用途，并且根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的設(shè)備可用于在無抗蝕劑光刻中投射構(gòu)圖的輻射束。因此，已經(jīng)清楚地說明了對(duì)這些實(shí)施例的描述的意圖不再與所要求保護(hù)的本發(fā)明。權(quán)利要求1.一種光刻投影設(shè)備，包括投影系統(tǒng)，用于將構(gòu)圖的輻射束投射到襯底的目標(biāo)部分上；定位結(jié)構(gòu)，用于在由構(gòu)圖的輻射束曝光期間相對(duì)于投影系統(tǒng)移動(dòng)襯底；可在樞軸上轉(zhuǎn)動(dòng)的反射鏡，用于在構(gòu)圖的輻射束的至少一個(gè)脈沖期間相對(duì)于投影系統(tǒng)移動(dòng)構(gòu)圖的輻射束；和致動(dòng)器，用于根據(jù)基本上對(duì)應(yīng)于輻射系統(tǒng)的脈沖頻率的振蕩定時(shí)而振蕩地在樞軸上轉(zhuǎn)動(dòng)反射鏡以便在所述至少一個(gè)脈沖期間與襯底的運(yùn)動(dòng)基本上同步地掃描構(gòu)圖的輻射束。2.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中該致動(dòng)器由控制器控制，其中該控制器、致動(dòng)器和輻射系統(tǒng)被互連在控制環(huán)路結(jié)構(gòu)中，并且其中該控制環(huán)路用于保持反射鏡的振蕩和輻射系統(tǒng)的脈沖之間的基本同步。3.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中該可在樞軸上轉(zhuǎn)動(dòng)的反射鏡由支撐組件支撐，并且振蕩定時(shí)的頻率基本上對(duì)應(yīng)于反射鏡及其支撐組件的共振頻率。4.如權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其中支撐組件還包括致動(dòng)器。5.如權(quán)利要求4所述的設(shè)備，其中支撐組件還包括配重，其被構(gòu)造和布置用于將由致動(dòng)器產(chǎn)生的力與該設(shè)備的剩余部分相隔離。6.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中致動(dòng)器包括多個(gè)電機(jī)，其被構(gòu)造和布置成將轉(zhuǎn)動(dòng)力施加到反射鏡上。7.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中在使用中，反射鏡以正弦運(yùn)動(dòng)振蕩。8.如權(quán)利要求7所述的設(shè)備，其中在使用中，輻射系統(tǒng)的脈沖在定時(shí)上基本上對(duì)應(yīng)于反射鏡振蕩的正弦運(yùn)動(dòng)的過零區(qū)間。9.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中在使用中，構(gòu)圖的輻射束相對(duì)于投影系統(tǒng)的位置可以被進(jìn)一步地改變以補(bǔ)償襯底在構(gòu)圖的輻射束的脈沖期間的運(yùn)動(dòng)誤差。10.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中配置致動(dòng)器以便其可以控制可在樞軸上轉(zhuǎn)動(dòng)的反射鏡的振蕩的中點(diǎn)的位置。11.如權(quán)利要求10所述的設(shè)備，其中該可在樞軸上轉(zhuǎn)動(dòng)的反射鏡用于關(guān)于第一軸振蕩并且該致動(dòng)器用于控制可在樞軸上轉(zhuǎn)動(dòng)的反射鏡關(guān)于第一軸振蕩的中點(diǎn)的角位置。12.如權(quán)利要求10所述的設(shè)備，其中該可在樞軸上轉(zhuǎn)動(dòng)的反射鏡用于關(guān)于第一軸振蕩，并且該致動(dòng)器用于控制可在樞軸上轉(zhuǎn)動(dòng)的反射鏡關(guān)于第二軸振蕩的中點(diǎn)的角位置，該第二軸與第一軸基本上垂直并且位于與在構(gòu)圖的輻射束將入射到該可在樞軸上轉(zhuǎn)動(dòng)的反射鏡的位置處的該可在樞軸上轉(zhuǎn)動(dòng)的反射鏡的表面基本上平行的平面內(nèi)。13.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中致動(dòng)器用于控制輻射系統(tǒng)的脈沖頻率和可在樞軸上轉(zhuǎn)動(dòng)的反射鏡的振蕩的相對(duì)相位。14.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中致動(dòng)器構(gòu)造用于相對(duì)致動(dòng)器基座振蕩地在樞軸上轉(zhuǎn)動(dòng)該可在樞軸上轉(zhuǎn)動(dòng)的反射鏡，并且還包括第二致動(dòng)器，該第二致動(dòng)器用于控制基座相對(duì)于投影系統(tǒng)的位置。15.如權(quán)利要求14所述的設(shè)備，其中該致動(dòng)器用于關(guān)于第一軸振蕩該可在樞軸上轉(zhuǎn)動(dòng)的反射鏡，并且第二致動(dòng)器用于控制基座相對(duì)于投影系統(tǒng)關(guān)于第二軸的角位置，第二軸基本上與第一軸平行。16.如權(quán)利要求14所述的設(shè)備，其中該致動(dòng)器用于關(guān)于第一軸振蕩該可在樞軸上轉(zhuǎn)動(dòng)的反射鏡，并且第二致動(dòng)器用于控制基座相對(duì)于投影系統(tǒng)關(guān)于第三軸的角位置，第三軸基本上與第一軸垂直并位于與在構(gòu)圖的輻射束將入射到該可在樞軸上轉(zhuǎn)動(dòng)的反射鏡的位置處的該可在樞軸上轉(zhuǎn)動(dòng)的反射鏡的表面基本上平行的平面內(nèi)。17.如權(quán)利要求14所述的設(shè)備，其中第二致動(dòng)器包括洛侖茲致動(dòng)器并配置成使從致動(dòng)器傳遞給光刻投影設(shè)備其它部分的振動(dòng)最小化。18.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中反射鏡基本上是平面的。19.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中最接近投影系統(tǒng)的光瞳面或其共軛面定位反射鏡。20.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中反射鏡位于投影系統(tǒng)的光瞳面的共軛面內(nèi)。21.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中定位結(jié)構(gòu)用于在構(gòu)圖的輻射束的多個(gè)脈沖期間以及脈沖之間的間隔期間以基本上恒定的速度相對(duì)投影系統(tǒng)移動(dòng)襯底，并且，其中在使用時(shí)，在該構(gòu)圖的輻射束的至少一個(gè)脈沖的持續(xù)時(shí)間內(nèi)與襯底的運(yùn)動(dòng)基本上同步地移動(dòng)該構(gòu)圖的輻射束。22.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中在使用時(shí)，該構(gòu)圖的輻射束在該構(gòu)圖的輻射束的多個(gè)脈沖期間與襯底的運(yùn)動(dòng)基本上同步地被掃描，以便可以將圖形多次投射到襯底上基本上相同的位置。23.如權(quán)利要求22所述的設(shè)備，其中(i)構(gòu)圖的輻射束的強(qiáng)度，(ii)可編程構(gòu)圖結(jié)構(gòu)的照明，(iii)光瞳過濾，或(iv)(i)至(iii)的任意組合，可對(duì)于被引導(dǎo)到襯底上基本上相同的位置的構(gòu)圖的輻射束的多次投射的至少一次而改變。24.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，在使用時(shí)，在被引導(dǎo)到襯底上基本上相同的位置的構(gòu)圖的輻射束的多次投射之間改變圖形的結(jié)構(gòu)。25.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，包括用于控制反射鏡運(yùn)動(dòng)的控制器，所述控制器包括參考信號(hào)發(fā)生器，用于產(chǎn)生對(duì)應(yīng)于反射鏡的期望運(yùn)動(dòng)的參考信號(hào)；傳感器，用于測(cè)量反射鏡的實(shí)際運(yùn)動(dòng)；和信號(hào)補(bǔ)償器，用于根據(jù)測(cè)量的反射鏡的運(yùn)動(dòng)和參考信號(hào)之間的相差來調(diào)節(jié)參考信號(hào)以產(chǎn)生補(bǔ)償信號(hào)；其中補(bǔ)償信號(hào)用于控制致動(dòng)器。26.如權(quán)利要求25所述的設(shè)備，其中所述信號(hào)補(bǔ)償器進(jìn)一步根據(jù)測(cè)量的反射鏡的運(yùn)動(dòng)和由參考信號(hào)代表的期望運(yùn)動(dòng)之間的幅度差異調(diào)節(jié)參考信號(hào)以產(chǎn)生補(bǔ)償信號(hào)。27.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，包括用于控制反射鏡運(yùn)動(dòng)的控制器，所述控制器包括參考信號(hào)發(fā)生器，用于產(chǎn)生對(duì)應(yīng)于反射鏡的期望運(yùn)動(dòng)的參考信號(hào)；傳感器，用于測(cè)量反射鏡的實(shí)際運(yùn)動(dòng)；和共振頻率調(diào)節(jié)單元，用于響應(yīng)于測(cè)量的反射鏡的運(yùn)動(dòng)和參考信號(hào)之間的相差調(diào)節(jié)反射鏡振蕩的共振頻率。28.如權(quán)利要求27所述的設(shè)備，其中反射鏡由至少一個(gè)活動(dòng)架支撐并且共振頻率調(diào)節(jié)單元用于控制所述活動(dòng)架的剛度。29.如權(quán)利要求28所述的設(shè)備，其中活動(dòng)架包括包含磁-流變流體的腔；并且所述共振頻率調(diào)節(jié)單元用于控制施加給所述腔的磁場(chǎng)。30.如權(quán)利要求27所述的設(shè)備，其中共振頻率調(diào)節(jié)單元構(gòu)造為使得其可以調(diào)節(jié)反射鏡和支撐反射鏡的支架中的至少一個(gè)的質(zhì)量。31.如權(quán)利要求30所述的設(shè)備，其中所述反射鏡和所述支架中的至少一個(gè)包括一個(gè)或多個(gè)腔；并且所述共振頻率調(diào)節(jié)單元用于控制所述一個(gè)或多個(gè)腔內(nèi)的流體量。32.一種器件制造方法，包括相對(duì)于投影系統(tǒng)移動(dòng)襯底，該投影系統(tǒng)在曝光期間將構(gòu)圖的輻射束投射到襯底上；根據(jù)基本上對(duì)應(yīng)于構(gòu)圖的輻射束的脈沖頻率的振蕩定時(shí)而振蕩地在樞軸上轉(zhuǎn)動(dòng)可在樞軸上轉(zhuǎn)動(dòng)的反射鏡從而與襯底的運(yùn)動(dòng)基本上同步地改變構(gòu)圖的輻射束的路徑；以及將構(gòu)圖的輻射束投射到襯底上。33.如權(quán)利要求32所述的方法，其中移動(dòng)襯底包括在構(gòu)圖的輻射束的多個(gè)脈沖期間以及脈沖之間的間隔期間以基本上恒定的速度相對(duì)投影系統(tǒng)移動(dòng)襯底，并且其中在該構(gòu)圖的輻射束的至少一個(gè)脈沖的持續(xù)時(shí)間內(nèi)與襯底的運(yùn)動(dòng)基本上同步改變所述路徑。34.如權(quán)利要求32所述的方法，還包括在該構(gòu)圖的輻射束的多個(gè)脈沖期間與襯底的運(yùn)動(dòng)基本上同步地改變構(gòu)圖的輻射束的路徑，以便可以將圖形多次投射到襯底上基本上相同的位置。35.如權(quán)利要求34所述的方法，還包括在被引導(dǎo)到襯底上基本上相同的位置的構(gòu)圖的輻射束的多次投射之間改變圖形的結(jié)構(gòu)。36.如權(quán)利要求34所述的方法，還包括對(duì)于被引導(dǎo)到襯底上基本上相同的位置的多次投射的至少一次改變(i)構(gòu)圖的輻射束的強(qiáng)度，(ii)可編程構(gòu)圖結(jié)構(gòu)的照明，(iii)光瞳過濾，或(iv)(i)至(iii)的任意組合。37.如權(quán)利要求32所述的方法，其中該反射鏡以正弦運(yùn)動(dòng)振蕩。38.如權(quán)利要求37所述的方法，其中構(gòu)圖的輻射束的脈沖在定時(shí)上基本上對(duì)應(yīng)于反射鏡的正弦運(yùn)動(dòng)的過零區(qū)間。39.如權(quán)利要求32所述的方法，其中構(gòu)圖的輻射束的路徑被進(jìn)一步改變以補(bǔ)償在構(gòu)圖的輻射束的脈沖期間的襯底的運(yùn)動(dòng)誤差。40.一種包括投影系統(tǒng)的設(shè)備，該投影系統(tǒng)具有可在樞軸上轉(zhuǎn)動(dòng)的反射鏡，用于接收構(gòu)圖的輻射束；和致動(dòng)器，在功能上被連接到該可在樞軸上轉(zhuǎn)動(dòng)的反射鏡并且用于振蕩地在樞軸上轉(zhuǎn)動(dòng)反射鏡。41.如權(quán)利要求40所述的設(shè)備，其中該可在樞軸上轉(zhuǎn)動(dòng)的反射鏡位于光學(xué)系統(tǒng)的光瞳面內(nèi)或其共軛面內(nèi)。42.如權(quán)利要求40所述的設(shè)備，其中致動(dòng)器用于以1-10kHz范圍的頻率振蕩反射鏡。43.如權(quán)利要求40所述的設(shè)備，其中還包括輻射源；和構(gòu)圖裝置，其被構(gòu)造和布置成接收由輻射源提供的輻射束并且構(gòu)圖該輻射束。44.如權(quán)利要求43所述的設(shè)備，其中該構(gòu)圖裝置是可編程構(gòu)圖裝置。45.一種光刻設(shè)備，包括用于調(diào)節(jié)輻射束的照明系統(tǒng)；構(gòu)造成支撐構(gòu)圖裝置的支架，該構(gòu)圖裝置能夠在輻射束的截面上賦予該輻射束圖形以形成構(gòu)圖的輻射束；構(gòu)造成保持襯底的襯底臺(tái)；和用于將構(gòu)圖的輻射束投射到襯底的目標(biāo)部分上的投影系統(tǒng)；其中該設(shè)備包括用于測(cè)量構(gòu)圖裝置位置的位置測(cè)量系統(tǒng)；用于測(cè)量襯底位置的位置測(cè)量系統(tǒng)；以及輻射束位置調(diào)節(jié)器，用于響應(yīng)于構(gòu)圖裝置和襯底的測(cè)量的相對(duì)位置與期望的相對(duì)位置的偏差相對(duì)于投影系統(tǒng)的位置調(diào)節(jié)投射到襯底上的構(gòu)圖的輻射束的位置。46.如權(quán)利要求45所述的設(shè)備，其中所述輻射束位置調(diào)節(jié)器包括可在樞軸上轉(zhuǎn)動(dòng)的反射鏡，其用于相對(duì)于投影系統(tǒng)移動(dòng)構(gòu)圖的輻射束；以及致動(dòng)器，用于控制反射鏡的位置。47.一種器件制造方法，包括使用構(gòu)圖裝置構(gòu)圖輻射束；將構(gòu)圖的輻射束投射到襯底的目標(biāo)部分上以形成曝光；在所述曝光期間測(cè)量構(gòu)圖裝置的位置；在所述曝光期間測(cè)量襯底的位置；使用輻射束位置調(diào)節(jié)器以響應(yīng)于構(gòu)圖裝置和襯底的測(cè)量的相對(duì)位置與期望的相對(duì)位置的偏差相對(duì)于投影系統(tǒng)調(diào)節(jié)投射到襯底上的構(gòu)圖的輻射束的位置。專利摘要用于在輻射脈沖期間補(bǔ)償光刻設(shè)備中襯底的運(yùn)動(dòng)的設(shè)備和方法包括提供被配置來與襯底基本上同步地移動(dòng)入射到襯底上的構(gòu)圖的輻射束的可在樞軸上轉(zhuǎn)動(dòng)的反射鏡。文檔編號(hào)H01L21/027GK1996149SQ200610064221公開日2007年7月11日申請(qǐng)日期2006年12月8日發(fā)明者H·威瑟,D·W·卡蘭,R·-H·穆尼格施米特,R·B·韋納,J·T·G·M·范德文,G·H·羅賓斯申請(qǐng)人:Asml荷蘭有限公司,Asml控股有限公司導(dǎo)出引文BiBTeX,EndNote,RefMan