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線光源生成裝置的制作方法

文檔序號:40383710發(fā)布日期:2024-12-20 12:06閱讀:6來源:國知局
線光源生成裝置的制作方法

本申請涉及激光設(shè)備,具體而言,涉及一種線光源生成裝置。


背景技術(shù):

1、相關(guān)技術(shù)中的線光源生成裝置包括激光器和導(dǎo)光柱,激光器發(fā)出的光從導(dǎo)光柱的其中一端射入導(dǎo)光柱中,光在導(dǎo)光柱中傳播時,從側(cè)面的設(shè)定區(qū)域(沿導(dǎo)光柱長度方向的條形區(qū)域)出射從而形成線光源。相關(guān)技術(shù)中的線光源生成裝置,在沿導(dǎo)光柱的長度方向上的出光分布不夠均勻,且出光功率較低。


技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本申請的目的包括提供一種線光源生成裝置,其能夠提高出光功率,且具有較高的出光均勻性。

2、本申請的實施例可以這樣實現(xiàn):

3、本申請?zhí)峁┮环N線光源生成裝置,包括垂直腔面發(fā)射激光器光源和導(dǎo)光柱,導(dǎo)光柱的兩端分別具有入射端面和反射端面,導(dǎo)光柱的外周面包括反射側(cè)面和出光側(cè)面,出光側(cè)面為條形平面且延伸方向平行于導(dǎo)光柱的軸線,入射端面和反射端面均傾斜于導(dǎo)光柱的軸線,反射側(cè)面、反射端面均鍍有反射膜,垂直腔面發(fā)射激光器光源的遠場分布為基模模式,垂直腔面發(fā)射激光器光源用于向入射端面發(fā)射光束。

4、在可選的實施方式中,入射端面和反射端面相對于導(dǎo)光柱的軸線的傾角為15°~35°。

5、在可選的實施方式中,入射端面相對于導(dǎo)光柱的軸線的傾角大于反射端面相對于導(dǎo)光柱的軸線的傾角。

6、在可選的實施方式中,沿靠近出光側(cè)面的一側(cè)向背離出光側(cè)面的一側(cè),入射端面相對于導(dǎo)光柱的軸線具有漸變的傾角;和/或,沿靠近出光側(cè)面的一側(cè)向背離出光側(cè)面的一側(cè),反射端面相對于導(dǎo)光柱的軸線具有漸變的傾角。

7、在可選的實施方式中,入射端面包括依次連接的至少兩個入射子平面,各個入射子平面均相對于導(dǎo)光柱的軸線傾斜,并且各個入射子平面沿靠近出光側(cè)面的一側(cè)向背離出光側(cè)面的一側(cè)排布;

8、反射端面包括依次連接的至少兩個反射子平面,各個反射子平面均相對于導(dǎo)光柱的軸線傾斜,并且各個反射子平面沿靠近出光側(cè)面的一側(cè)向背離出光側(cè)面的一側(cè)排布。

9、在可選的實施方式中,入射端面和反射端面均為弧面,入射端面和反射端面上的任意一點的切平面均相對于導(dǎo)光柱的軸線傾斜。

10、在可選的實施方式中,反射側(cè)面包括反射柱面和兩個內(nèi)凹面,兩個內(nèi)凹面分別連接于反射柱面在周向上的兩側(cè),并與出光側(cè)面相連。

11、在可選的實施方式中,內(nèi)凹面在垂直于導(dǎo)光柱軸線的截面下的輪廓為拋物線。

12、在可選的實施方式中,出光側(cè)面為矩形條狀平面,出光側(cè)面的寬度為0.5~5mm;

13、出光側(cè)面的散射函數(shù)為0.5~0.995。

14、在可選的實施方式中,入射端面與出光側(cè)面的夾角為鈍角,反射端面與出光側(cè)面的夾角為銳角。

15、在可選的實施方式中,出光側(cè)面和入射端面上均鍍有增透膜。

16、在可選的實施方式中,激光器發(fā)出的光束的波長為700~1310nm,遠場發(fā)散角為8°~25°。

17、本申請實施例提供的線光源生成裝置的有益效果包括:

18、本申請實施例提供的線光源生成裝置包括垂直腔面發(fā)射激光器光源和導(dǎo)光柱,導(dǎo)光柱的兩端分別具有入射端面和反射端面,導(dǎo)光柱的外周面由反射側(cè)面和出光側(cè)面,出光側(cè)面為條形平面且延伸方向平行于導(dǎo)光柱的軸線,入射端面和反射端面均傾斜于導(dǎo)光柱的軸線,反射側(cè)面、反射端面均鍍有反射膜,垂直腔面發(fā)射激光器光源的遠場分布為基模模式,垂直腔面發(fā)射激光器光源用于向入射端面發(fā)射光束。通過將導(dǎo)光柱的入射端面傾斜設(shè)置,使得垂直腔面發(fā)射激光器光源發(fā)出的光束從入射端面進入導(dǎo)光柱時發(fā)生折射,導(dǎo)光柱內(nèi)的光線具有較為復(fù)雜、曲折的傳播路徑,能夠提高出光側(cè)面的出光均勻度,減少暗區(qū)和亮斑。并且,入射端面和反射端面相較于導(dǎo)光柱的軸線傾斜,能夠減少回返光,即減少光線從入射端面入射后,直接到達反射端面,并反射回到入射端面并從入射端面射出導(dǎo)光柱。因此,本申請實施例提供線光源生成裝置能夠減少光線損失,提高出光功率。



技術(shù)特征:

1.一種線光源生成裝置,其特征在于,包括垂直腔面發(fā)射激光器光源(100)和導(dǎo)光柱(200),所述導(dǎo)光柱(200)的兩端分別具有入射端面(210)和反射端面(220),所述導(dǎo)光柱(200)的外周面包括反射側(cè)面(230)和出光側(cè)面(240),所述出光側(cè)面(240)為條形平面且延伸方向平行于所述導(dǎo)光柱的軸線,所述入射端面(210)和所述反射端面(220)均傾斜于所述導(dǎo)光柱(200)的軸線,所述反射側(cè)面(230)、所述反射端面(220)均鍍有反射膜,所述垂直腔面發(fā)射激光器光源(100)的遠場分布為基模模式,所述垂直腔面發(fā)射激光器光源(100)用于向所述入射端面(210)發(fā)射光束。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的線光源生成裝置,其特征在于,所述入射端面(210)和所述反射端面(220)相對于所述導(dǎo)光柱(200)的軸線的傾角為15°~35°。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的線光源生成裝置,其特征在于,所述入射端面(210)相對于所述導(dǎo)光柱(200)的軸線的傾角大于所述反射端面(220)相對于所述導(dǎo)光柱(200)的軸線的傾角。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的線光源生成裝置,其特征在于,沿靠近所述出光側(cè)面(240)的一側(cè)向背離所述出光側(cè)面(240)的一側(cè),所述入射端面(210)相對于所述導(dǎo)光柱(200)的軸線具有漸變的傾角;

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的線光源生成裝置,其特征在于,所述入射端面(210)包括依次連接的至少兩個入射子平面(211),各個所述入射子平面(211)均相對于所述導(dǎo)光柱(200)的軸線傾斜,并且各個所述入射子平面(211)沿靠近所述出光側(cè)面(240)的一側(cè)向背離所述出光側(cè)面(240)的一側(cè)排布;

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的線光源生成裝置,其特征在于,所述入射端面(210)和所述反射端面(220)均為弧面,所述入射端面(210)和所述反射端面(220)上的任意一點的切平面均相對于所述導(dǎo)光柱(200)的軸線傾斜。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的線光源生成裝置,其特征在于,所述反射側(cè)面(230)包括反射柱面(231)和兩個內(nèi)凹面(232),兩個所述內(nèi)凹面(232)分別連接于所述反射柱面(231)在周向上的兩側(cè)并與所述出光側(cè)面(240)相連。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的線光源生成裝置,其特征在于,所述內(nèi)凹面(232)在垂直于所述導(dǎo)光柱(200)軸線的截面下的輪廓為拋物線。

9.根據(jù)權(quán)利要求1-8中任一項所述的線光源生成裝置,其特征在于,所述出光側(cè)面(240)為矩形條狀平面,所述出光側(cè)面(240)的寬度為0.5~5mm;

10.根據(jù)權(quán)利要求1-8中任一項所述的線光源生成裝置,其特征在于,所述入射端面(210)與所述出光側(cè)面(240)的夾角為鈍角,所述反射端面(220)與所述出光側(cè)面(240)的夾角為銳角。

11.根據(jù)權(quán)利要求1-8中任一項所述的線光源生成裝置,其特征在于,所述出光側(cè)面(240)和所述入射端面(210)上均鍍有增透膜。

12.根據(jù)權(quán)利要求1-8中任一項所述的線光源生成裝置,其特征在于,所述垂直腔面發(fā)射激光器光源(100)發(fā)出的光束的波長為700~1310nm,遠場發(fā)散角為8°~25°。


技術(shù)總結(jié)
本申請公開了一種線光源生成裝置,涉及激光設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。線光源生成裝置包括垂直腔面發(fā)射激光器光源和導(dǎo)光柱,導(dǎo)光柱的兩端分別具有入射端面和反射端面,導(dǎo)光柱的外周面包括反射側(cè)面和出光側(cè)面,入射端面和反射端面均傾斜于導(dǎo)光柱的軸線。通過將導(dǎo)光柱的入射端面傾斜設(shè)置,使得垂直腔面發(fā)射激光器光源發(fā)出的光束從入射端面進入導(dǎo)光柱時發(fā)生折射,導(dǎo)光柱內(nèi)的光線具有較為復(fù)雜、曲折的傳播路徑,能夠提高出光側(cè)面的出光均勻度,減少暗區(qū)和亮斑;并且能夠減少光線損失,提高出光功率。

技術(shù)研發(fā)人員:陳秋白,於靜靜
受保護的技術(shù)使用者:度亙核芯光電技術(shù)(蘇州)有限公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2024/12/19
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