本技術(shù)涉及納米壓印，尤其涉及一種壓印裝置。

背景技術(shù)：

1、近幾年，“元宇宙”概念經(jīng)歷了從概念到真正實(shí)現(xiàn)了各類(lèi)相關(guān)實(shí)體產(chǎn)品的落地過(guò)程，讓用戶(hù)真實(shí)感受到“元宇宙”的存在。其中，ar眼鏡和mr頭顯是兩款最具代表性的產(chǎn)品。實(shí)際上，實(shí)現(xiàn)這兩種產(chǎn)品的制造可以采用不同的光學(xué)顯示方案。

2、在波導(dǎo)光學(xué)中，與陣列光波導(dǎo)和全息光波導(dǎo)相比，表面浮雕衍射光波導(dǎo)具有可完全復(fù)用現(xiàn)有半導(dǎo)體的制造加工技術(shù)和設(shè)備，可以滿(mǎn)足消費(fèi)級(jí)成像需求，并且具備大規(guī)模生產(chǎn)制造的能力而被給予厚望。

3、目前表面浮雕衍射光波導(dǎo)的批量化生產(chǎn)，主要依賴(lài)于納米壓印技術(shù)，由于壓印技術(shù)工藝的限制，難易實(shí)現(xiàn)大批量的量產(chǎn)，致使目前ar眼鏡無(wú)法普及，這其中的難點(diǎn)在于如何實(shí)現(xiàn)波導(dǎo)的大批量壓印以實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。經(jīng)檢索，如現(xiàn)有技術(shù)cn111679554b公開(kāi)了一種雙腔式納米壓印機(jī)構(gòu)，通過(guò)氣壓控制壓印木板緊緊壓在襯底上，其中壓印模板未完全張緊地夾于壓印夾具，預(yù)留一定的余量，通過(guò)提高壓強(qiáng)將壓印模板緊緊壓在襯底表面，但本領(lǐng)域技術(shù)人員知悉，壓印都是微納結(jié)構(gòu)，尺寸在幾十至幾百納米，通過(guò)未張緊的壓印模板在受力作用下壓印時(shí)，難以對(duì)準(zhǔn)襯底，且如何控制張緊的尺度，是難以實(shí)現(xiàn)的，當(dāng)張緊尺度不同時(shí)，所帶來(lái)壓印結(jié)構(gòu)和尺寸的變化是巨大的，是難以被接受的；如現(xiàn)有技術(shù)cn218866308u公開(kāi)了一種納米壓印裝置，通過(guò)壓力組件5與升降機(jī)構(gòu)2對(duì)模片4與基片5之間進(jìn)行壓印，可通過(guò)壓力組件5對(duì)模片4施壓，具有一定彎曲形變的模片4與基片3相切接觸慢慢擴(kuò)展，避免貼合過(guò)程中產(chǎn)生氣泡；完成光固成型后，壓印組件5通過(guò)通氣口52排出高壓氣體，使壓力腔收縮，同時(shí)升降機(jī)構(gòu)2向上升起，將模片4與基片3分離。但本領(lǐng)域技術(shù)人員知悉，基于前述相同的理由，彎曲形變的模片在壓印時(shí)將導(dǎo)致壓印結(jié)構(gòu)的變化，影響是巨大的，且在脫模時(shí)，通過(guò)升降機(jī)構(gòu)上升，這種直上直下的脫模方式將影響壓印的微結(jié)構(gòu)，甚至是巨大的；更進(jìn)一步，如cn111929985a公開(kāi)了一種壓印的脫模方式，通過(guò)控制整個(gè)運(yùn)動(dòng)過(guò)程復(fù)制硬模具基板112和玻璃基板211的角度一直與斜齒光柵角度為50度的目的，呈左底角為50度的平行四邊形移動(dòng)，以這種的方式完成脫模，避免了脫模時(shí)原始模具的斜齒損傷固化的聚合物膠體斜齒光柵結(jié)構(gòu)的問(wèn)題，在一定程度上緩解了脫模時(shí)對(duì)壓印結(jié)構(gòu)的損傷，但可知曉，往往壓印的結(jié)構(gòu)并不單一，不僅僅只有斜齒，在一個(gè)晶圓上壓印時(shí)，壓印的結(jié)構(gòu)包括直齒、斜齒、閃耀，或多個(gè)不同的組合，但僅僅靠脫斜齒的方式難以實(shí)現(xiàn)整個(gè)晶圓的脫模，尤其是針對(duì)多種壓印結(jié)構(gòu)，難以保證各個(gè)光柵結(jié)構(gòu)齒的完整形貌，因此，現(xiàn)有技術(shù)采用的未張緊的壓印方式或斜齒的脫模方式對(duì)壓印質(zhì)量的改善是有限的，甚至未張緊的壓印將難以實(shí)現(xiàn)模板與襯底的對(duì)準(zhǔn)，且壓印的結(jié)構(gòu)是難以控制的。因此，對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員而言，亟需改善壓印工藝，提高壓印和脫模時(shí)的質(zhì)量。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本實(shí)用新型提供了一種壓印裝置，解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的問(wèn)題，使得在壓印時(shí)壓印模板能夠準(zhǔn)確對(duì)準(zhǔn)晶圓，且壓印模板處于張緊狀態(tài)，以減少對(duì)壓印結(jié)構(gòu)的影響；同時(shí)通過(guò)獨(dú)立設(shè)計(jì)的脫模方式，適用于目前多種光柵結(jié)構(gòu)的脫模，尤其是在同一晶圓上存在閃耀、斜齒、直齒等多種齒形混合的情況下，本實(shí)用新型能盡可能減少脫模對(duì)各個(gè)齒形結(jié)構(gòu)帶來(lái)的損傷問(wèn)題，保證結(jié)構(gòu)的完整性。

2、本實(shí)用新型提供了一種壓印裝置，包括基板、上殼體、密封件、連接件和載臺(tái)；所述上殼體通過(guò)所述連接件與所述載臺(tái)連接，以在所述上殼體與所述載臺(tái)之間形成密封腔室一；所述密封件設(shè)置于所述載臺(tái)和所述基板之間，以在所述載臺(tái)與所述基板之間形成密封腔室二；在所述載臺(tái)上形成壓印模板；在所述載臺(tái)遠(yuǎn)離所述壓印模板的一側(cè)設(shè)置至少兩個(gè)伸縮件，至少兩個(gè)所述伸縮件位于所述載臺(tái)與所述基板之間，通過(guò)所述伸縮件的伸縮作用使得所述載臺(tái)在不同的壓印區(qū)域被提升不同的高度。

3、在一些實(shí)施例中，在所述上殼體和所述基板上均獨(dú)立設(shè)置至少一個(gè)通氣孔，在所述上殼體的中部設(shè)置至少一透明區(qū)域。

4、在一些實(shí)施例中，所述密封件適應(yīng)于所述載臺(tái)的不同高度變化。

5、在一些實(shí)施例中，不同的所述伸縮件伸縮不同的高度，控制不同壓印區(qū)域的所述載臺(tái)被提升不同的高度，使得所對(duì)應(yīng)連接區(qū)域的所述壓印模板也被適應(yīng)于所述伸縮件的高度變化。

6、在一些實(shí)施例中，所述連接件和所述密封件可一體化設(shè)置。

7、在一些實(shí)施例中，其特征在于，所述壓印模板貼合于所述載臺(tái)且遠(yuǎn)離所述基板的一側(cè)。

8、在一些實(shí)施例中，所述載臺(tái)在不同區(qū)域的提升高度不同，以適應(yīng)于不同光柵結(jié)構(gòu)齒方向的變化，所述不同區(qū)域被限定為不同所述伸縮件所在的位置。

9、進(jìn)一步，所述載臺(tái)呈環(huán)形結(jié)構(gòu)，至少兩個(gè)所述伸縮件均勻布置于所述載臺(tái)的一側(cè)，所述伸縮件的位置適配于不同壓印光柵結(jié)構(gòu)的朝向。

10、在一些實(shí)施例中，所述上殼體通過(guò)所述連接件與所述載臺(tái)間接連接，以在所述上殼體與所述載臺(tái)之間形成密封腔室一。

11、進(jìn)一步，在一些實(shí)施例中，所述載臺(tái)與所述基板通過(guò)所述密封件間接連接，以在所述載臺(tái)與所述基板之間形成密封腔室二。

12、本實(shí)用新型提供了一種壓印裝置，在裝置中設(shè)置了多個(gè)伸縮件，不同的伸縮件伸縮不同的高度，控制不同壓印區(qū)域的載臺(tái)被提升不同的高度，使得所對(duì)應(yīng)連接區(qū)域的壓印模板也被適應(yīng)于伸縮件的高度變化，壓印模板被提升不同的高度，進(jìn)而控制脫模時(shí)不同區(qū)域的脫模情況，避免了現(xiàn)有技術(shù)中的缺陷。

技術(shù)特征：

1.一種壓印裝置，包括基板、上殼體、密封件、連接件和載臺(tái)；其特征在于，所述上殼體通過(guò)所述連接件與所述載臺(tái)連接，以在所述上殼體與所述載臺(tái)之間形成密封腔室一；所述密封件設(shè)置于所述載臺(tái)和所述基板之間，以在所述載臺(tái)與所述基板之間形成密封腔室二；在所述載臺(tái)上形成壓印模板；在所述載臺(tái)遠(yuǎn)離所述壓印模板的一側(cè)設(shè)置至少兩個(gè)伸縮件，至少兩個(gè)所述伸縮件位于所述載臺(tái)與所述基板之間，通過(guò)所述伸縮件的伸縮作用使得所述載臺(tái)在不同的壓印區(qū)域被提升不同的高度。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓印裝置，其特征在于，在所述上殼體和所述基板上均獨(dú)立設(shè)置至少一個(gè)通氣孔，在所述上殼體的中部設(shè)置至少一透明區(qū)域。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的壓印裝置，其特征在于，不同的所述伸縮件伸縮不同的高度，控制不同壓印區(qū)域的所述載臺(tái)被提升不同的高度，使得所對(duì)應(yīng)連接區(qū)域的所述壓印模板也被適應(yīng)于所述伸縮件的高度變化。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的壓印裝置，其特征在于，所述連接件和所述密封件可一體化設(shè)置。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的壓印裝置，其特征在于，所述壓印模板貼合于所述載臺(tái)且遠(yuǎn)離所述基板的一側(cè)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的壓印裝置，其特征在于，所述載臺(tái)在不同區(qū)域的提升高度不同，以適應(yīng)于不同光柵結(jié)構(gòu)齒方向的變化，所述不同區(qū)域被限定為不同所述伸縮件所在的位置。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的壓印裝置，其特征在于，所述密封件適應(yīng)于所述載臺(tái)的不同高度變化。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的壓印裝置，其特征在于，所述載臺(tái)呈環(huán)形結(jié)構(gòu)，至少兩個(gè)所述伸縮件均勻布置于所述載臺(tái)的一側(cè)，所述伸縮件的位置適配于不同壓印光柵結(jié)構(gòu)的朝向。

9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的壓印裝置，其特征在于，所述上殼體通過(guò)所述連接件與所述載臺(tái)間接連接，以在所述上殼體與所述載臺(tái)之間形成密封腔室一。

10.根據(jù)權(quán)利要求3所述的壓印裝置，其特征在于，所述載臺(tái)與所述基板通過(guò)所述密封件間接連接，以在所述載臺(tái)與所述基板之間形成密封腔室二。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)提供了一種壓印裝置，壓印裝置包括基板、上殼體、密封件、連接件和載臺(tái)；上殼體通過(guò)連接件與載臺(tái)連接，以在上殼體與載臺(tái)之間形成密封腔室一；密封件設(shè)置于載臺(tái)和基板之間，以在載臺(tái)與基板之間形成密封腔室二；在載臺(tái)上形成壓印模板；在載臺(tái)遠(yuǎn)離壓印模板的一側(cè)設(shè)置至少兩個(gè)伸縮件，至少兩個(gè)伸縮件位于載臺(tái)與基板之間，通過(guò)伸縮件的伸縮作用使得載臺(tái)在不同的壓印區(qū)域被提升不同的高度；根據(jù)預(yù)設(shè)的脫模方向，分別控制不同的伸縮件在豎直方向伸縮不同的高度，并優(yōu)先脫去耦出區(qū)域和/或轉(zhuǎn)折區(qū)域，最后再脫去耦入?yún)^(qū)域；本技術(shù)提供的裝置，能夠減少壓印模板對(duì)不同齒形結(jié)構(gòu)的損傷，盡可能保持脫模后光柵結(jié)構(gòu)的完整性。

技術(shù)研發(fā)人員：郝芳,沈洪磊,周仁
受保護(hù)的技術(shù)使用者：上海鯤游科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20231214
技術(shù)公布日：2024/12/23