1.一種彩膜基板，包括第一透明基板，設置于所述第一透明基板上的彩膜以及設置于所述彩膜上的公共電極層，其特征在于，
所述彩膜包括對應每個像素區(qū)域的亞像素彩膜；其中，至少一個所述亞像素彩膜具有鏤空區(qū)域；
所述公共電極層包括第一子電極和第二子電極，所述第一子電極和所述第二子電極絕緣；所述第一子電極與所述亞像素彩膜的非鏤空區(qū)域對應；所述第二子電極與所述亞像素彩膜的鏤空區(qū)域對應。
2.根據(jù)權利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，每個所述亞像素彩膜均具有所述鏤空區(qū)域。
3.根據(jù)權利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述鏤空區(qū)域位于所述亞像素彩膜的中部。
4.根據(jù)權利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所有所述第二子電極電連接。
5.根據(jù)權利要求1-4任一項所述的彩膜基板，其特征在于，還包括設置于所述第一透明基板與所述公共電極層之間的遮光條，所述遮光條具有多個開口區(qū)域，所述彩膜形成于所述遮光條的開口區(qū)域。
6.一種彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括：
在第一透明基板上形成彩膜，所述彩膜包括對應每個像素區(qū)域的亞像素彩膜；其中，至少一個所述亞像素彩膜具有鏤空區(qū)域；
在所述彩膜上形成公共電極層，所述公共電極層包括第一子電極和第二子電極，所述第一子電極和所述第二子電極絕緣；所述第一子電極與所述亞像素彩膜的非鏤空區(qū)域對應；所述第二子電極與所述亞像素彩膜的鏤空區(qū)域對應。
7.根據(jù)權利要求6所述的制作方法，其特征在于，每個所述亞像素彩膜均具有所述鏤空區(qū)域。
8.根據(jù)權利要求6所述的制作方法，其特征在于，所述鏤空區(qū)域位于所述亞像素彩膜的中部。
9.根據(jù)權利要求6-8任一項所述的制作方法，其特征在于，形成所述彩膜具體包括：
在所述第一透明基板上對應每個像素區(qū)域的亞像素彩膜；
采用一次構圖工藝，在至少一個所述亞像素彩膜中形成所述鏤空區(qū)域。
10.根據(jù)權利要求6-8任一項所述的制作方法，其特征在于，形成所述公共電極層包括：
采用一次構圖工藝，形成所述第一子電極和所述第二子電極。