掃描曝光裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型提供一種掃描曝光裝置,其不影響節(jié)拍時(shí)間而確認(rèn)基板表面上的光照射能量。本實(shí)用新型的掃描曝光裝置(1)具備:基板臺(tái)(2);光照射裝置(3);照度傳感器臺(tái)(4),以與基板(W)的表面相同的高度支承照度傳感器(4S);及掃描控制裝置(6),同時(shí)或分別控制基板臺(tái)(2)與照度傳感器臺(tái)(4)的沿掃描方向的移動(dòng)。照度傳感器臺(tái)(4)位于基板臺(tái)(2)的掃描方向下游側(cè)。
【專利說(shuō)明】掃描曝光裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種用于光取向處理等的掃描曝光裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]近年來(lái),在形成液晶元件的取向膜或利用紫外線硬化型液晶的光學(xué)薄膜的取向?qū)拥染哂惺挂壕Х肿尤∠虻墓δ艿哪せ驅(qū)?以下統(tǒng)稱為取向膜)時(shí),采用光取向處理。在進(jìn)行光取向處理時(shí),向成為取向膜的感光性樹脂膜以偏振軸特定的偏振狀態(tài)(例如直線偏振狀態(tài))照射所選擇的波長(zhǎng)(例如紫外光)的光。
[0003]光取向處理用掃描曝光裝置已知有一種如下裝置:為了連續(xù)地形成具有規(guī)定寬度的取向膜,沿取向膜的寬度方向配置棒狀光源(長(zhǎng)弧燈),組合該光源與偏振器而沿取向膜的寬度方向照射選擇波長(zhǎng)的偏振光,并向與取向膜的寬度方向交叉的方向掃描該光源與偏振器(參考下述專利文獻(xiàn)I)。
[0004]專利文獻(xiàn)1:日本專利公開2006-133498號(hào)公報(bào)
[0005]不限于前述的光取向處理而對(duì)被形成于基板上的膜或?qū)舆M(jìn)行掃描曝光時(shí),需確認(rèn)在基板表面上照射有所期望的光照射能量。這種光照射能量的確認(rèn)需要將照度傳感器設(shè)置成與成為被曝光面的基板表面相同的高度,且以與實(shí)際進(jìn)行的掃描曝光相同的條件(發(fā)光量及掃描速度)曝光照度傳感器。
[0006]此時(shí),若在基板被支承的臺(tái)上設(shè)置照度傳感器,則需在掃描曝光的范圍內(nèi)設(shè)置照度傳感器,因此相對(duì)于基板的設(shè)置位置,只能將照度傳感器設(shè)置于掃描方向的前方或后方中的任意一方。依此,為了曝光照度傳感器,掃描曝光的范圍實(shí)際上被擴(kuò)大,產(chǎn)生掃描曝光的節(jié)拍時(shí)間被延長(zhǎng)的問題。尤其,需要較高的光照射能量時(shí),通過放慢掃描速度來(lái)提高累計(jì)曝光量,因此,存在由掃描范圍的擴(kuò)大引起的節(jié)拍時(shí)間的影響進(jìn)一步變大的問題。
[0007]實(shí)用新型內(nèi)容
[0008]本實(shí)用新型以解決這種問題作為課題的一例。即本實(shí)用新型的目的在于在掃描曝光裝置中不影響節(jié)拍時(shí)間而確認(rèn)在基板表面上的光照射能量等。
[0009]為了實(shí)現(xiàn)這種目的,根據(jù)本實(shí)用新型的掃描曝光裝置至少具備以下結(jié)構(gòu)。
[0010]一種掃描曝光裝置,其中,具備:基板臺(tái),支承基板且沿與被支承的基板的寬度方向交叉的掃描方向移動(dòng)自如;光照射裝置,向被所述基板臺(tái)所支承的基板的寬度方向整體照射光;照度傳感器臺(tái),以與被所述基板臺(tái)所支承的基板的表面相同的高度支承照度傳感器,且以所述照度傳感器在所述光照射裝置的光照射范圍內(nèi)移動(dòng)的方式沿所述掃描方向移動(dòng)自如;及掃描控制裝置,同時(shí)或分別控制所述基板臺(tái)與所述照度傳感器臺(tái)的沿所述掃描方向的移動(dòng),所述照度傳感器臺(tái)位于所述基板臺(tái)的所述掃描方向下游側(cè)。
[0011]根據(jù)具有這種特征的掃描曝光裝置,能夠獨(dú)立進(jìn)行基板的掃描曝光與照度傳感器的掃描曝光,因此能夠利用基板的掃描曝光結(jié)束后的基板排出時(shí)間來(lái)進(jìn)行照度傳感器的掃描曝光。由此,能夠不影響掃描曝光的節(jié)拍時(shí)間而確認(rèn)基板表面上的光照射能量。【專利附圖】
【附圖說(shuō)明】
[0012]圖1是表示本實(shí)用新型的一實(shí)施方式所涉及的掃描曝光裝置的整體結(jié)構(gòu)的說(shuō)明圖。
[0013]圖2是表示本實(shí)用新型的一實(shí)施方式中由掃描控制裝置進(jìn)行控制的一例的說(shuō)明圖。
[0014]附圖標(biāo)記說(shuō)明
[0015]1-掃描曝光裝置,2-基板臺(tái),3-光照射裝置,4-照度傳感器臺(tái),4S-照度傳感器,5-掃描裝置,6-掃描控制裝置,W-基板。
【具體實(shí)施方式】
[0016]以下,參考附圖對(duì)本實(shí)用新型的實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。圖1是表示本實(shí)用新型的一實(shí)施方式所涉及的掃描曝光裝置的整體結(jié)構(gòu)的說(shuō)明圖。掃描曝光裝置I具備:基板臺(tái)2、光照射裝置3、照度傳感器臺(tái)4、照度傳感器4S、掃描裝置5、及掃描控制裝置6。圖1所示的例子中,示出了通過掃描裝置5沿圖示Y方向掃描基板臺(tái)2與照度傳感器臺(tái)4的例子,但也可為固定基板臺(tái)2與照度傳感器臺(tái)4的位置而通過相同的掃描裝置沿圖示Y方向掃描光照射裝置3。
[0017]基板臺(tái)2構(gòu)成為如下,即支承成為掃描曝光對(duì)象的基板W,并且沿與被支承的基板W的寬度方向(圖示X方向)交叉的掃描方向(圖示Y方向)自如地進(jìn)行利用掃描裝置5的移動(dòng)。與此相比,光照射裝置3為如下裝置,即具備光源3A等,并且向被基板臺(tái)2所支承的基板W的寬度方向(X方向)整體照射光。
[0018]照度傳感器臺(tái)4構(gòu)成為如下,即在與被基板臺(tái)2所支承的基板W的表面相同的高度且在與基板W分離的位置支承照度傳感器4S,并且以照度傳感器4S在光照射裝置3的光照射范圍內(nèi)移動(dòng)的方式,利用掃描裝置5而沿掃描方向(Y方向)移動(dòng)自如。照度傳感器臺(tái)4位于基板臺(tái)2的掃描方向下游側(cè)。
[0019]基板臺(tái)2與照度傳感器臺(tái)4的利用掃描裝置5而沿掃描方向的移動(dòng)通過掃描控制裝置6被控制。本實(shí)用新型的實(shí)施方式中,能夠通過掃描控制裝置6獨(dú)立控制基板臺(tái)2的掃描與照度傳感臺(tái)4的掃描。
[0020]照度傳感器臺(tái)4的掃描是為了以掃描傳感器4S的掃描曝光確認(rèn)基板W是否通過光照射裝置3受到所設(shè)定的每單位面積的光照射能量,因此,照度傳感器臺(tái)4的掃描速度被設(shè)定成與基板臺(tái)2的掃描速度相同的速度。然而,需要縮短由照度傳感器4S進(jìn)行的計(jì)測(cè)時(shí)間時(shí),也能夠通過如下方式來(lái)確認(rèn)被照射在基板W上的光照射能量的值,即將照度傳感器臺(tái)4的掃描速度設(shè)定成基板臺(tái)2的掃描速度的2倍?數(shù)倍,從而使照度傳感器4S的計(jì)測(cè)結(jié)果成為2倍?數(shù)倍。
[0021]圖2是表示由掃描控制裝置6進(jìn)行控制的一例的說(shuō)明圖。首先,如圖2(a)、(b)所示,掃描控制裝置6執(zhí)行基板曝光動(dòng)作。基板曝光動(dòng)作中,在被基板臺(tái)2所支承的基板W上配置向基板W的寬度方向整體照射光的光照射裝置3,從而對(duì)基板W進(jìn)行掃描曝光。
[0022]如此,在進(jìn)行對(duì)基板W的掃描曝光的基板曝光動(dòng)作中,掃描控制裝置6同時(shí)或分別控制基板臺(tái)2與照度傳感器臺(tái)4的沿掃描方向的移動(dòng),并且在對(duì)基板W進(jìn)行掃描曝光的期間,使照度傳感器臺(tái)4在不干涉基板臺(tái)2的移動(dòng)的位置進(jìn)行待機(jī)。圖2 (a)、(b)所示的例子中,在基板曝光動(dòng)作期間,以距基板臺(tái)2的距離保持恒定的方式移動(dòng)照度傳感器臺(tái)4,但不限于此,也可以在此期間將照度傳感器臺(tái)4靜止于遠(yuǎn)離基板臺(tái)2的固定位置。通過以距基板臺(tái)2的距離保持恒定的方式移動(dòng)照度傳感器臺(tái)4,能夠縮短下一個(gè)動(dòng)作中的照度傳感器臺(tái)4的移動(dòng)距離。
[0023]若基板曝光動(dòng)作結(jié)束,則如圖2(c)、(d)所示,掃描控制裝置6執(zhí)行排出基板臺(tái)2上的已曝光的基板W的基板排出動(dòng)作。基板排出動(dòng)作中,如圖2(c)所示,若掃描曝光結(jié)束則使基板臺(tái)2在光照射裝置3的光照射范圍之外進(jìn)行待機(jī)。此時(shí)的移動(dòng)被設(shè)定成相對(duì)于掃描曝光時(shí)的掃描速度非??斓囊苿?dòng)速度。
[0024]若基板臺(tái)2在光照射裝置3的光照射范圍之外進(jìn)行待機(jī),則如圖2(d)所示,排出已曝光的基板W,而利用該排出所需的時(shí)間對(duì)照度傳感器臺(tái)4進(jìn)行掃描,并通過光照射裝置3掃描曝光照度傳感器4S。即在進(jìn)行基板排出動(dòng)作期間,在照度傳感器4S上配置光照射裝置3而執(zhí)行掃描曝光照度傳感器4S的照度傳感器曝光動(dòng)作。
[0025]以上說(shuō)明中,對(duì)固定光照射裝置3并利用掃描裝置5對(duì)基板臺(tái)2與照度傳感器臺(tái)4進(jìn)行掃描的例子進(jìn)行了說(shuō)明,但如前所述,通過固定基板臺(tái)2與照度傳感器臺(tái)4并對(duì)光照射裝置3進(jìn)行掃描,也能夠執(zhí)行相同的動(dòng)作。
[0026]在此情況下,光照射裝置3向被基板臺(tái)2所支承的基板W的寬度方向整體照射光且沿與基板W的寬度方向交叉的掃描方向移動(dòng)自如。并且,掃描控制裝置6執(zhí)行基板曝光動(dòng)作而執(zhí)行照度傳感器曝光動(dòng)作,其中,該基板曝光動(dòng)作掃描光照射裝置3來(lái)掃描曝光被基板臺(tái)2所支承的基板W,且該照度傳感器曝光動(dòng)作掃描光照射裝置3來(lái)掃描曝光照度傳感器4S。此時(shí),與前述說(shuō)明相同地,執(zhí)行基板曝光動(dòng)作來(lái)執(zhí)行排出基板臺(tái)2上的已曝光的基板W的基板排出動(dòng)作,且在該基板排出動(dòng)作期間,執(zhí)行通過掃描光照射裝置3來(lái)掃描曝光照度傳感器4S的照度傳感器曝光動(dòng)作。在此,掃描控制裝置6能夠?qū)⑾蚬庹丈溲b置3的基板W照射光時(shí)的移動(dòng)速度與向照度傳感器4照射光時(shí)的移動(dòng)速度控制為相同或不同。
[0027]根據(jù)如上本實(shí)用新型的實(shí)施方式,在基板曝光動(dòng)作中,相對(duì)于基板臺(tái)2上的基板W,在基板W的前端上配置光照射裝置3,以與基板W的Y方向的長(zhǎng)度相應(yīng)的量進(jìn)行掃描曝光,因此掃描曝光的節(jié)拍時(shí)間不會(huì)被延長(zhǎng)。并且,在基板曝光動(dòng)作結(jié)束之后,將執(zhí)行用于處理下一個(gè)基板W的基板排出動(dòng)作,但由于能夠利用該基板排出動(dòng)作期間執(zhí)行照度傳感器曝光動(dòng)作,因此,在對(duì)下一個(gè)基板W進(jìn)行基板曝光動(dòng)作時(shí)照度傳感器曝光動(dòng)作已結(jié)束。如此,根據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施方式,能夠在不影響掃描曝光基板W的節(jié)拍時(shí)間而確認(rèn)光照射裝置3的光照射能量。
[0028]另外,圖示中示出了在照度傳感器臺(tái)4上設(shè)置一個(gè)照度傳感器4S的例子,但也可以沿與掃描方向交叉的方向設(shè)置多個(gè)照度傳感器4S。并且,在照度傳感器臺(tái)4上,也能夠設(shè)置測(cè)定照度且測(cè)定偏振方向的傳感器。
【權(quán)利要求】
1.一種掃描曝光裝置,其特征在于,具備: 基板臺(tái),支承基板且沿與被支承的基板的寬度方向交叉的掃描方向移動(dòng)自如; 光照射裝置,向被支承于所述基板臺(tái)的基板的寬度方向整體照射光; 照度傳感器臺(tái),以與被所述基板臺(tái)所支承的基板的表面相同的高度支承照度傳感器,且以所述照度傳感器在所述光照射裝置的光照射范圍內(nèi)移動(dòng)的方式沿所述掃描方向移動(dòng)自如;及 掃描控制裝置,同時(shí)或分別控制所述基板臺(tái)與所述照度傳感器臺(tái)的沿所述掃描方向的移動(dòng), 所述照度傳感器臺(tái)位于所述基板臺(tái)的所述掃描方向下游側(cè)。
2.一種掃描曝光裝置,其特征在于,具備: 基板臺(tái),支承基板; 光照射裝置,向被所述基板臺(tái)所支承的基板的寬度方向整體照射光,且沿與所述基板的寬度方向交叉的掃描方向移動(dòng)自如; 照度傳感器臺(tái),在所述光照射裝置的移動(dòng)范圍內(nèi)支承照度傳感器于其高度與被所述基板臺(tái)所支承的基板的表面高度相同且與所述基板分離的位置;及掃描控制裝置,控制沿所述光照射裝置的所述掃描方向的移動(dòng), 所述掃描控制裝置為能夠?qū)⑾蛩龉庹丈溲b置的所述基板照射光時(shí)的移動(dòng)速度與向照度傳感器照射光時(shí)的移動(dòng)速度控制成相同或不同的裝置。
【文檔編號(hào)】G03F7/20GK203720529SQ201420091928
【公開日】2014年7月16日 申請(qǐng)日期:2014年2月28日 優(yōu)先權(quán)日:2013年3月7日
【發(fā)明者】橋本和重, 新井敏成 申請(qǐng)人:株式會(huì)社V技術(shù)