光致抗蝕劑組合物的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種光致抗蝕劑組合物,所述光致抗蝕劑組合物包含:具有酸不穩(wěn)定基團(tuán)的樹脂;酸生成劑;具有硫醚鍵和巰基的化合物;和溶劑。
【專利說明】光致抗蝕劑組合物
[0001] 本申請要求在2013年9月24日在日本提交的基于35U.S.C. § 119(a)的專利申 請2013-196744的優(yōu)先權(quán),所述專利申請的全部內(nèi)容通過引用結(jié)合在此。
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0002] 本發(fā)明涉及光致抗蝕劑組合物和用于制備光致抗蝕劑圖案的方法。
【背景技術(shù)】
[0003] 在通過半導(dǎo)體芯片用薄膜安裝插腳的過程中,在基板上配置作為具有4至150 μ m 高度的突起的電極。
[0004] 對于用于制備突起的光致抗蝕劑組合物,JP2011-75864A1提到一種光致抗蝕劑組 合物,其包含含有源自對羥基苯乙烯的結(jié)構(gòu)單元的樹脂。JP2004-347951A1提到一種光致抗 蝕劑組合物,其包含1,3, 5-三嗪-2,4,6-三硫醇或1-硫代甘油。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0005] 本申請給出如下方面的發(fā)明。
[0006] [1] -種光致抗蝕劑組合物,所述光致抗蝕劑組合物包含:
[0007] 具有酸不穩(wěn)定基團(tuán)的樹脂;
[0008] 酸生成劑;
[0009] 具有硫釀鍵和疏基的化合物;和 [0010]溶劑。
[0011] [2]根據(jù)[1]所述的光致抗蝕劑組合物,其中所述化合物是具有硫醚鍵和巰基的 雜環(huán)化合物。
【權(quán)利要求】
1. 一種光致抗蝕劑組合物,所述光致抗蝕劑組合物包含: 具有酸不穩(wěn)定基團(tuán)的樹脂; 酸生成劑; 具有硫釀鍵和疏基的化合物;和 溶劑。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物,其中所述化合物是具有硫醚鍵和巰基的 雜環(huán)化合物。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的光致抗蝕劑組合物,其中所述雜環(huán)化合物是由式(IA)表示 的:
其中Ril表示氫原子、-SR1、-NR2R3、Cl-ClO脂族烴基、C3-C18脂環(huán)烴基,或C6-C14芳香 族烴基; R1表示氫原子、C1-C12酰基、Cl-ClO脂族烴基、C3-C10脂環(huán)烴基,或C6-C14芳香族烴 基, R2和R3各自獨立地表示氫原子、其中氫原子可以被羥基代替的C1-C12?;?、其中氫原 子可以被羥基代替的Cl-ClO脂族烴基、其中氫原子可以被羥基代替的C3-C10脂環(huán)烴基,或 其中氫原子可以被羥基代替的C6-C14芳香族烴基; Ri2和Ri3各自獨立地表示氫原子、Cl-ClO脂族烴基、C3-C18脂環(huán)烴基,或其中氫原子可 以被Cl-ClO烷基代替的C6-C14芳香族烴基; A和B各自獨立地表示氮原子或碳原子;并且 "η"和"m"各自獨立地表示0或1。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物,其中所述化合物是在側(cè)鏈包括具有硫醚 鍵和巰基的部分的聚合物。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物,其中所述樹脂具有由式(1)或(2)表示 的基團(tuán):
其中Ral、Ra2和Ra3各自獨立地表示C1-C8烷基或C3-C20脂環(huán)烴基,或者Ral、Ra2和Ra3中的兩個彼此連接以形成C2-C20二價烴基并且另一個是C1-C8烷基或 C3-C20脂環(huán)烴基,并且*表示結(jié)合位置; L/1N丄厶厶ΛI(xiàn),、 * ·* L·/L·
9 其中Ral'和Ra2'各自獨立地表示氫原子或其中亞甲基可以被氧原子或硫原子代替的C1-C12烴基,并且Ra3'表示其中亞甲基可以被氧原子或硫原子代替的C1-C20烴基, 或者Ral'和Ra2'中的一個表示氫原子或其中亞甲基可以被氧原子或硫原子代替的C1-C12烴基,并且另一個結(jié)合至Ra3'以形成其中亞甲基可以被氧原子或硫原子代替的 C2-C20二價烴基,并且*表示結(jié)合位置。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物,其中所述樹脂是通過將在側(cè)鏈具有選自 由羧基和酚羥基組成的組中的官能團(tuán)的樹脂與具有至少兩個乙烯氧基的化合物反應(yīng)而得 到的。
7. -種用于制備光致抗蝕劑圖案的方法,所述方法包括: (1) 將根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物涂敷在基板上的步驟, (2) 通過干燥所述光致抗蝕劑組合物而形成光致抗蝕劑組合物膜的步驟, (3) 將所述光致抗蝕劑組合物膜曝光的步驟,和 (4) 將所曝光的光致抗蝕劑組合物膜顯影的步驟。
【文檔編號】G03F7/00GK104460232SQ201410478878
【公開日】2015年3月25日 申請日期:2014年9月18日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月24日
【發(fā)明者】杉原昌子, 河村麻貴, 合田真衣子 申請人:住友化學(xué)株式會社