黑色矩陣用炭黑及其制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供具備高絕緣性和優(yōu)異隱蔽性的黑色矩陣用炭黑。一種黑色矩陣用炭黑，其是將炭黑的表面用陰離子性或非離子性的深色系染料被覆而成的。前述炭黑在表面具有至少1種酸性官能團，前述染料利用金屬進行色淀化并固定于前述炭黑的表面或前述酸性官能團。
【專利說明】黑色矩陣用炭黑及其制造方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及黑色矩陣用炭黑。詳細而言，涉及具備高絕緣性和優(yōu)異隱蔽性的黑色 矩陣用炭黑。

【背景技術(shù)】
[0002] 對于液晶顯示裝置等中使用的彩色濾光片而言，通過在著色為不同色相的像素之 間形成黑色矩陣來阻斷光、提高對比度、防止色純度的降低。
[0003] 作為所述黑色矩陣的形成方法，一直以來進行了如下方法：在玻璃基板上通過濺 射等形成Cr等的金屬薄膜，在該金屬薄膜上涂布光致抗蝕劑并通過光掩模來照射紫外線 后，進行顯影處理而得到抗蝕圖案，通過蝕刻等來去除不需要的部分，但存在需要去除金屬 的設(shè)備等、制造成本也高的問題。
[0004] 相對于此，已知使用向光聚合性化合物中分散有炭黑的黑色矩陣形成材料來形成 黑色矩陣的方法。根據(jù)所述方法，由于材料廉價且制造工序也簡單，因此能夠以極低的成本 來制造黑色矩陣，但由于炭黑具有導電性，為了提高遮光性而增加樹脂中的炭黑濃度時，存 在如下問題：所形成的黑色矩陣自身也具有導電性，彩色濾光片上的透明電極與黑色矩陣 之間、對向電極之間發(fā)生導通而容易引起圖像不良。
[0005] 因而，提出了將炭黑用各種樹脂進行被覆從而改善了絕緣性的黑色矩陣用炭黑 (例如參照專利文獻1~4)。根據(jù)這些方法，通過在炭黑的表面形成樹脂被覆膜，Ca、Na等離 子性物質(zhì)被封在內(nèi)部，導體彼此的接觸得以絕緣，進而電子變得無法躍遷，因此實現(xiàn)了高絕 緣性。
[0006] 現(xiàn)有技術(shù)文獻 專利文獻 專利文獻1 :日本特開平9-124969號公報 專利文獻2 :日本特開平11-080584號公報 專利文獻3 :日本特開2001-152046號公報 專利文獻4 :日本特開2002-249678號公報。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0007] 發(fā)明要解決的課題 然而，在上述現(xiàn)有技術(shù)中，因所被覆的樹脂的部分導致黑色矩陣中的炭黑的比率降低， 因此存在隱蔽性（0D)變低、對比度或色純度降低這一問題，從而存在必須加厚黑色矩陣的 涂膜、制造成本增加這一問題。另外，存在如下問題：為了被覆樹脂而使用有機溶劑，因此需 要針對制造時的安全性、對環(huán)境的影響等采取對策，例如需要作業(yè)場所的排氣設(shè)備、干燥機 的防爆設(shè)備、廢水的處理設(shè)備等龐大的設(shè)備投資。
[0008] 本發(fā)明是鑒于上述現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題點而進行的，其目的在于提供一種黑色 矩陣用炭黑，其在液晶顯示裝置等的彩色濾光片中，保持高絕緣性且發(fā)揮優(yōu)異的隱蔽性，即 使涂膜較薄也能夠?qū)崿F(xiàn)高對比度、色純度。
[0009] 本發(fā)明的其它目的在于，提供不會環(huán)境造成不良影響、能夠安全且低成本地制造 的黑色矩陣用炭黑。
[0010] 用于解決問題的手段 本發(fā)明的上述目的是通過下述手段而實現(xiàn)的。
[0011] (1)即，本發(fā)明是黑色矩陣用炭黑，其是將炭黑的表面用染料被覆而成的。
[0012] (2)本發(fā)明還是（1)所述的黑色矩陣用炭黑，其中，前述染料的含有率為0.5~10重 量％。
[0013] (3)本發(fā)明還是（1)或（2)所述的黑色矩陣用炭黑，其中，前述染料為陰離子性或 非離子性的染料。
[0014] (4)本發(fā)明還是（1)?（3)中任一項所述的黑色矩陣用炭黑，其中，前述染料為深 色系的染料。
[0015] (5)本發(fā)明還是（1)?（4)中任一項所述的黑色矩陣用炭黑，其中，前述染料利用 金屬或金屬鹽進行色淀化。
[0016] (6)本發(fā)明還是（5)所述的黑色矩陣用炭黑，其中，前述金屬或金屬鹽是鋁、鎂、鈣、 銀、鋇或猛或者它們的鹽。
[0017] (7)本發(fā)明還是（1)?（6)中任一項所述的黑色矩陣用炭黑，其中，前述炭黑的表 面具有至少1種酸性官能團。
[0018] (8)本發(fā)明還是（7)所述的黑色矩陣用炭黑，其中，前述酸性官能團是羥基、氧代 基、過氧羥基、羰基、羧基、過氧羧酸基、醛基、酮基、硝基、亞硝基、酰胺基、酰亞胺基、磺酸 基、亞磺酸基、次磺酸基、硫代羧酸基、一氯氧基、二氯氧基、全氯氧基、亞碘?；虻怩；?br> [0019] (9)進而，本發(fā)明是黑色矩陣用炭黑的制造方法，其具有向炭黑的漿料中添加染 料，從而將炭黑的表面用染料被覆的染料被覆工序。
[0020] (10)本發(fā)明還是（9)所述的黑色矩陣用炭黑的制造方法，其特征在于，前述染料被 覆工序以所得染料被覆炭黑中的前述染料的含有率達到〇. 5~10重量％的方式添加前述染 料。
[0021] (11)本發(fā)明還是（9)或（10)所述的黑色矩陣用炭黑的制造方法，前述染料為陰離 子性或非離子性的染料。
[0022] (12)本發(fā)明還是（9)?（11)中任一項所述的黑色矩陣用炭黑的制造方法，前述染 料是深色系的染料。
[0023] (13)本發(fā)明還是（9)?（12)中任一項所述的黑色矩陣用炭黑的制造方法，其還具 有：將前述染料被覆工序中得到的染料被覆炭黑表面的染料利用金屬或金屬鹽進行色淀化 的染料色淀化工序。
[0024] (14)本發(fā)明還是（13)所述的黑色矩陣用炭黑的制造方法，其中，前述金屬或金屬 鹽為鋁、鎂、鈣、鍶、鋇或錳或者它們的鹽。
[0025] (15)本發(fā)明還是（9)?（14)中任一項所述的黑色矩陣用炭黑的制造方法，其還具 有：將供于前述染料被覆工序的前述炭黑的表面用氧化劑進行氧化處理的氧化處理工序。
[0026] (16)本發(fā)明還是（15)所述的黑色矩陣用炭黑的制造方法，其中，前述氧化劑為臭 氧氣體、硝酸、次氯酸鈉、過氧化氫、一氧化氮氣體、二氧化氮氣體、三氧化硫、氟氣體、濃硫 酸、硝酸或各種過氧化物。
[0027] 發(fā)明的效果 本發(fā)明的黑色矩陣用炭黑是將炭黑的表面用染料被覆而成的，因此在用于液晶顯示裝 置等的彩色濾光片的黑色矩陣時，會保持高絕緣性且發(fā)揮出優(yōu)異的隱蔽性，即使涂膜較薄 也能夠?qū)崿F(xiàn)高對比度、色純度。另外，不需要如以往的樹脂被覆炭黑那樣地為了提高隱蔽性 而加厚涂膜，能夠抑制制造成本。
[0028] 進而，不會如以往的樹脂被覆炭黑那樣地使用有機溶劑，因此能夠安全性地制造 而不會環(huán)境造成不良影響等，也不需要龐大的設(shè)備投資，因此能夠進一步降低制造成本。

【具體實施方式】
[0029] 以下，針對本發(fā)明的實施方式進行詳細說明。
[0030] 本發(fā)明的黑色矩陣用炭黑的特征在于，炭黑的表面用染料進行了被覆。
[0031] 本發(fā)明中利用的原料炭黑的種類沒有特別限定，可以利用燈黑、乙炔黑、熱炭黑、 槽法炭黑、爐法炭黑等已知的炭黑。
[0032] 另外，原料炭黑的平均一次粒徑優(yōu)選為5飛Onm、更優(yōu)選為l(T50nm、特別優(yōu)選為 2(T45nm。此處，平均一次粒徑是指用電子顯微鏡對1500個炭黑顆粒進行觀察而求得的粒 徑的加權(quán)平均值。原料炭黑的平均一次粒徑不足上述下限時，容易引起聚集、研磨料的穩(wěn)定 性變差，在高濃度下的分散變得困難，另一方面，超過上述上限時，黑色矩陣容易產(chǎn)生形狀 不良、表面粗糙度也變差，因此均不優(yōu)選。
[0033] 另外，原料炭黑的DBP吸油量優(yōu)選為100ml/100g以下。此處，DBP吸油量是指100g 炭黑所吸收的鄰苯二甲酸二丁酯（DBP)的容量（JIS6217)。原料炭黑的DBP吸油量超過上 述上限時，電阻值降低，另外粘度變高，因此涂布性變差、黑色度降低，故不優(yōu)選。
[0034] 進而，原料炭黑的pH值優(yōu)選為2~10、更優(yōu)選為5~9、特別優(yōu)選為4~8。此處，pH值 是指用玻璃電極pH計對炭黑與蒸餾水的混合液進行測定而得的值（JIS6221)。原料炭黑的 pH不足上述下限時，整體的平衡會失衡、穩(wěn)定性變差，而超過上述上限時，容易發(fā)生膜剝落， 故均不優(yōu)選。
[0035] 進而，原料炭黑可適合地利用灰分為1. 0%以下、比表面積為2(T300m2/g的炭黑。 灰分超過上述上限時，電阻值會降低，故不優(yōu)選，另外，比表面積低于上述下限時，容易產(chǎn)生 黑色矩陣的形狀不良，而超過上述上限時，需要大量的分散劑、樹脂、染料等，故均不優(yōu)選。
[0036] 另外，原料炭黑優(yōu)選事先實施氧化處理而使表面具有至少1種酸性官能團，更優(yōu) 選實施多種氧化處理而使表面具有兩種以上的酸性官能團。未事先實施氧化處理的炭黑在 表面不具有酸性官能團或酸性官能團的數(shù)量不充分，因此無法充分地確保所得黑色矩陣用 炭黑的分散性、電阻值降低而黑色矩陣的絕緣性變得不充分、彩色濾光片上的透明電極與 黑色矩陣之間或?qū)ο螂姌O之間發(fā)生導通而容易引起圖像不良，故不優(yōu)選。作為所述氧化處 理，可列舉出使用臭氧氣體、硝酸、次氯酸鈉、過氧化氫、一氧化氮氣體、二氧化氮氣體、三氧 化硫、氟氣體、濃硫酸、硝酸、各種過氧化物等的方法，作為前述酸性官能團，可列舉出羥基、 氧代基、過氧羥基、羰基、羧基、過氧羧酸基、醛基、酮基、硝基、亞硝基、酰胺基、酰亞胺基、磺 酸基、亞磺酸基、次磺酸基、硫代羧酸基、一氯氧基、二氯氧基、全氯氧基、亞碘?；?、碘?；?等。
[0037] 作為本發(fā)明中利用的染料，只要是能夠吸附于炭黑的表面的染料就沒有特別限 定，可以利用已知的堿性染料、酸性染料、直接染料、反應(yīng)性染料等，由于磺基、羧基與炭黑 上的官能團發(fā)生相互作用、氨基與堿可溶性樹脂發(fā)生反應(yīng)、能夠以硫酸鋁等進行不溶化等， 因此可更適合地利用陰離子性或非離子性的染料。另外，為了使所得黑色矩陣的遮光性變 得更高，優(yōu)選使用光吸收性高的接近黑色的深色系染料。作為這樣的染料的具體例，可列舉 出 Food Black No. 1、Food Black No. 2、Food Red No. 40、Food Blue No. 1、Food Yellow No. 7 等食用色素染料；Bernacid Red 2BMN、Basacid Black X34(BASF X-34) (BASF 公 司制）、Kayanol Red 3BL (Nippon Kayaku Company 公司制）、Dermacarbon 2GT (Sandoz 公司制）、Telon Fast Yellow 4GL-175、BASF Basacid Black SE 0228、Basacid Black X34 (BASF X-34) (BASF 公司制）、Basacid Blue 750 (BASF 公司制）、Bernacid Red (Bemcolors，Poughkeepsie，N. Y.公司制）、BASF Basacid Black SE 0228(BASF 公司制） 等各色酸性染料；Pontamine Brilliant Bond Blue A 及其它 Pontamine Brilliant Bond Blue A 及其它 Pontamine (注冊商標）染料（Bayer Chemicals Corporation、Pittsburgh， PA 公司制）、Cartasol Yellow GTF Presscake (Sandoz，Inc 公司制）；Cartasol Yellow GTF Liquid Special 110 (Sandoz, Inc.公司制）;Yellow Shade 16948 (Tricon 公司制）、 Direct Brilliant Pink B(Crompton & Knowles公司制）、Carta Black 2GT(Sandoz，Inc. 公司制）、Sirius Supra Yellow GD 167、Cartasol Brilliant Yellow 4GF(Sandoz 公司 制）、Pergasol Yellow CGP(Ciba_Geigy 公司制）、Pyrazol Black BG(JCI 公司制）、Diazol Black RN Quad(JCJ 公司制）、Pontamine Brilliant Bond Blue; Berncolor A. Y. 34 等 各色的直接染料；Cibacron Brilliant Red 3B-A(Reactive Red 4) (Aldrich Chemical、 Milwaukee，WI 公司制）、Drimarene Brilliant Red X_2B(Reactive Red 56) (Pylam Products, Inc. Tempe，AZ 公司制）、Levafix Brilliant Red E-4B，Levafix Brilliant Red F-6BA 以及類似的 Levafix (注冊商標）dyes Dystar L. P. (Charlotte，NC 公司制）制 的染料、Procion Red H8B(Reactive Red 31) (JCI America公司制）等各色的反應(yīng)性染 料；他〇2&卩〇111^(1 492(8六3卩公司制）、(^&8〇11^(16(〇讓&-66187公司制）、六126113卩;!_1〇11 RedC-BH(Hodogaya Chemical Company 制）、Spirit Fast Yellow 3G、Aizen Spilon Yellow C_GNH(Hodogaya Chemical Company 制）、Orasol Black RL(Ciba_Geigy 公司制）、Orasol Black RLP(Ciba_Geigy 公司制）、Savinyl Black RLS (Sandoz 公司制）、Orasol Blue GN (Ciba-Geigy 公司制）、Luxol BlueMBSN (Morton-Thiokol 公司制）、Morfast Black Concentrate A(Morton_Thiokol公司制）等油溶性染料等。它們可以單獨利用，或者也可 以將兩種以上組合利用。
[0038] 另外，本發(fā)明的黑色矩陣用炭黑中的前述染料的含量優(yōu)選為0.5~10質(zhì)量％、更優(yōu) 選為廣7質(zhì)量％、特別優(yōu)選為1~5質(zhì)量％。染料的含量不足上述下限時，被覆變得不充分、 無法獲得高電阻值，而超過上述上限時，未進行被覆的剩余染料會損害分散性、容易引起增 稠?聚集，故均不優(yōu)選。
[0039] 進而，本發(fā)明的黑色矩陣用炭黑優(yōu)選利用金屬或金屬鹽對前述染料進行了色淀 化。通過所述色淀化，染料通過金屬或金屬鹽而被固定于炭黑的表面、前述酸性官能團，染 料變得難以從炭黑的表面脫離，因此染料變得難以溶出、能夠維持高的遮蔽性。作為所述色 淀化中利用的金屬或金屬鹽，可列舉出鋁、鎂、鈣、鍶、鋇或錳或者它們的鹽酸鹽、硫酸鹽等， 它們可以單獨使用或者將兩種以上組合使用。色淀化中利用的金屬或金屬鹽的添加量相對 于染料優(yōu)選為0. 3倍摩爾以上、更優(yōu)選為0. 5倍摩爾以上、特別優(yōu)選為0. 8倍摩爾以上。金 屬或金屬鹽的添加量不足上述添加量時，染料的固定變得不充分而容易從炭黑表面脫離、 研磨料的穩(wěn)定性差、電阻值也會降低，故不優(yōu)選。
[0040] 接著，針對本發(fā)明的黑色矩陣用炭黑的制造方法進行說明。首先，將作為原料的炭 黑與水（向自來水中適當混合離子交換水以使電導率達到恒定從而制備的水，以下相同）混 合而制成漿料，加熱攪拌規(guī)定時間并對炭黑進行洗滌處理，冷卻后再次水洗。接著，向所得 炭黑中添加水而再次制成漿料，添加上述氧化劑而以規(guī)定溫度攪拌規(guī)定時間，從而對炭黑 的表面進行氧化處理，進行水洗。氧化處理根據(jù)需要多次變更氧化劑的種類來進行。接著， 將所得進行了氧化處理的炭黑與水混合而再次制成漿料，以相對于目標黑色矩陣用炭黑達 到前述規(guī)定含量的方式添加染料，以4(T90°C攪拌1飛小時，使染料吸附于炭黑的表面而進 行被覆。進而，添加與所添加的染料為等摩爾的上述金屬或金屬鹽，以3(T70°C攪拌1飛小 時，將染料用金屬或金屬鹽進行色淀化，從而使染料固定于炭黑的表面。并且，將其冷卻后 水洗，進行過濾干燥，從而能夠獲得目標黑色矩陣用炭黑。
[0041] 使本發(fā)明的黑色矩陣用炭黑與光固化性樹脂或光聚合性化合物以及溶劑混合、 分散，從而能夠用作黑色矩陣形成用組合物。作為所述光聚合性化合物，只要是照射紫外 線時會固化而形成覆膜的光聚合性化合物就沒有特別限定，可以利用已知的光聚合性化合 物。具體而言，可列舉出丙烯酸、甲基丙烯酸、馬來酸、馬來酰亞胺、巴豆酸、衣康酸、肉桂 酸、乙烯醇等以及它們的衍生物；它們與具有異氰酸酯基、酸酐基等的化合物的反應(yīng)產(chǎn)物； 乙烯基樹脂、聚酯樹脂、聚酰胺樹脂、聚酰亞胺樹脂、聚氨酯樹脂、聚醚樹脂等主鏈或側(cè)鏈通 過酯鍵、酰胺鍵、氨酯鍵等而導入了丙烯酰基或甲基丙烯?；臉渲龋瑑?yōu)選為結(jié)構(gòu)中具有 羧基、酚性羥基等堿溶解性官能團且具有堿顯影性的樹脂，特別優(yōu)選為具有雙酚芴型環(huán)氧 基二丙烯酸酯結(jié)構(gòu)的樹脂。另外，作為前述溶劑，可列舉出丙二醇單甲醚乙酸酯、甲氧基丁 基乙酸酯、環(huán)己酮、乙基溶纖素乙酸酯、丁基溶纖素乙酸酯、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙 醚、乙二醇二乙醚、二甲苯、乙基溶纖素、甲基正戊基酮、丙二醇單甲醚、甲苯、甲乙酮、乙酸 乙酯、甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、異丁酮等，可特別適合地利用丙二醇單甲醚乙酸酯、甲氧基 丁基乙酸酯、環(huán)己酮等。
[0042] 接著，示出實施例來更詳細地說明本發(fā)明的黑色矩陣用炭黑，但本發(fā)明不限定于 這些實施例。
[0043] 實施例1 染料被覆炭黑（經(jīng)氣化處理）的制各 將炭黑（TPX-1099 :cabot公司制）1000g與水混合來制備10L漿料，以95°C攪拌1小 時，自然冷卻后進行水洗。將其再次與水進行混合處理來制備10L漿料，添加70%的硝酸 42. 9g，以40°C攪拌4小時。將其自然冷卻并水洗后，再次與水混合而制備10L漿料，添加 13%的次氯酸鈉水溶液769. 2g，以40°C攪拌6小時。將其自然冷卻并水洗后，再次與水混合 來制備10L漿料，添加純度為38. 4%的染料（Direct De印BLACK) 38. lg，以40°C攪拌1小 時，其后進一步添加硫酸鋁10. lg，以40°C攪拌1小時。將其自然冷卻后進行水洗，過濾干 燥而得到本發(fā)明的黑色矩陣用炭黑。
[0044] 羧某量的測定 按照日本專利特開2000-248197號公報中記載的方法，如下那樣測定所得染料被覆炭 黑的酸性官能團量(羧基量)。
[0045] 稱量10g染料被覆炭黑，在0. 1當量的碳酸氫鈉水溶液50ml中振蕩1小時，使其 反應(yīng)后過濾，采取濾液的上清液20ml，用0. 01當量的鹽酸水溶液進行滴定。羧基量以lg炭 黑中的毫摩爾量（mm〇l/g)的形式按照下式來求得。 羧基量=(50/20X0. 01 X (滴定量-空滴定量)）/炭黑試樣質(zhì)量 所得染料被覆炭黑的羧基量為53. 9mmol/g。
[0046] 實施例2 染料被覆炭黑（未經(jīng)氣化處理）的制各 除了未利用硝酸和次氯酸鈉水溶液實施氧化處理之外，進行與實施例1基本相同的處 理，從而得到本發(fā)明的黑色矩陣用炭黑。所得染料被覆炭黑的羧基量為3. 4mmol/g。
[0047] [比較例1] 未被覆染料的炭黑的制各 除了未被覆染料和未利用硫酸鋁實施色淀處理之外，進行與實施例1基本相同的處 理，從而得到用于對比的黑色矩陣用炭黑。
[0048] [比較例2] 樹脂被覆炭黑的制各 向聚氯乙烯（日產(chǎn)化學株式會社制造的=7e > E-430)中添加環(huán)己酮，加熱至 約90°C而使其溶解，制備了含有10重量％的聚氯乙烯的環(huán)己酮溶液。另一方面，將炭黑(爐 法炭黑、三菱化學株式會社制造的#3050、平均一次粒徑為0. 04 μ m、比表面積為50m2/g(BET 法))與水混合并強烈攪拌，制備了含有6重量％的炭黑的均勻懸浮液。接著，將懸浮液邊攪 拌邊添加至前述環(huán)己酮溶液中，使水相的炭黑轉(zhuǎn)移至溶劑相。接著，通過傾析來去除與炭黑 分離了的水后，用具有加熱至8(T12(TC的兩根輥的輥磨機混煉約5分鐘，從而得到樹脂組 合物。接著，將樹脂組合物用加熱輥切成片狀，使其穿過具有常溫的兩根輥的輥磨機，在粉 碎至約30mm以下的尺寸后，轉(zhuǎn)移至水中，以約3000rpm的速度攪拌約3分鐘，粉碎整粒以形 成粒徑為0. l~3mm的粒狀物，從而得到整粒物。將該整粒物以8(T15(TC進行干燥，從而得到 用樹脂進行了被覆的炭黑。
[0049] [評價] 黑色矩陣用涂布液的制各 針對實施例1和2以及比較例1和2中得到的各個黑色矩陣用炭黑，將黑色矩陣用炭 黑300g、氨酯系分散劑BYK-167 (匕' v^ S - \> 公司制）46. 6g、以及具有芴骨 架的環(huán)氧丙烯酸酯酸加成物的丙二醇單甲醚乙酸酯溶液(樹脂固體成分濃度=55. 5質(zhì)量％、 新日鐵化學株式會社制造的"V259ME"）189. 2g用珠磨機進行分散，從而得到基質(zhì)墨（base ink)。向該基質(zhì)墨20g中添加具有芴骨架的環(huán)氧丙烯酸酯酸加成物的丙二醇單甲醚乙酸酯 溶液(樹脂固體成分濃度=55. 5質(zhì)量％、新日鐵化學株式會社制造的"V259ME"）3. 52g和丙 二醇單甲醚乙酸酯21. 9g，從而制備了涂布液。
[0050] 0D倌、表面耜耥度以及表面電陽的測定 用旋涂機將上述得到的涂布液涂布在玻璃基板上，以90°C干燥2分鐘，進而以220°C加 熱30分鐘并使其固化，從而得到干燥涂膜。
[0051] 分別利用反射濃度計來測定所得干燥涂膜的0D值、利用τ = 一>公司的7 > 7 r 7 T 7 ：/ IQ來測定膜厚和表面粗糙度、利用表面電阻測定器(株式會社夕7 4 7 V >卜公司制造的"/、4 b 7夕，，）來測定表面電阻，將其結(jié)果示于表1。
[0052] [表 1]

【權(quán)利要求】
1. 黑色矩陣用炭黑，其是將炭黑的表面用染料被覆而成的。
2. 權(quán)利要求1所述的黑色矩陣用炭黑，其中，所述染料的含有率為0. 5~10重量％。
3. 權(quán)利要求1或2所述的黑色矩陣用炭黑，其中，所述染料為陰離子性或非離子性的染 料。
4. 權(quán)利要求1~3中任一項所述的黑色矩陣用炭黑，其中，所述染料為深色系的染料。
5. 權(quán)利要求1~4中任一項所述的黑色矩陣用炭黑，其中，所述染料利用金屬或金屬鹽 進行色淀化。
6. 權(quán)利要求5所述的黑色矩陣用炭黑，其中，所述金屬或金屬鹽是鋁、鎂、鈣、鍶、鋇或 錳或者它們的鹽。
7. 權(quán)利要求1飛中任一項所述的黑色矩陣用炭黑，其中，所述炭黑的表面具有至少1種 酸性官能團。
8. 權(quán)利要求7所述的黑色矩陣用炭黑，其中，所述酸性官能團為羥基、氧代基、過氧羥 基、羰基、羧基、過氧羧酸基、醛基、酮基、硝基、亞硝基、酰胺基、酰亞胺基、磺酸基、亞磺酸 基、次磺酸基、硫代羧酸基、一氯氧基、二氯氧基、全氯氧基、亞碘?；虻怩；?。
9. 黑色矩陣用炭黑的制造方法，其具有向炭黑的漿料中添加染料從而將炭黑的表面用 染料被覆的染料被覆工序。
10. 權(quán)利要求9所述的黑色矩陣用炭黑的制造方法，其特征在于，所述染料被覆工序以 所得染料被覆炭黑中的所述染料的含有率達到〇. 5~10重量％的方式添加所述染料。
11. 權(quán)利要求9或10所述的黑色矩陣用炭黑的制造方法，其中，所述染料為陰離子性或 非離子性的染料。
12. 權(quán)利要求9~11中任一項所述的黑色矩陣用炭黑的制造方法，其中，所述染料為深 色系的染料。
13. 權(quán)利要求9~12中任一項所述的黑色矩陣用炭黑的制造方法，其還具有：將所述染 料被覆工序中得到的染料被覆炭黑表面的染料用金屬或金屬鹽進行色淀化的染料色淀化 工序。
14. 權(quán)利要求13所述的黑色矩陣用炭黑的制造方法，其中，所述金屬或金屬鹽為鋁、 鎂、鈣、鍶、鋇或錳或者它們的鹽。
15. 權(quán)利要求9~14中任一項所述的黑色矩陣用炭黑的制造方法，其還具有：將供于所 述染料被覆工序的所述炭黑的表面用氧化劑進行氧化處理的氧化處理工序。
16. 權(quán)利要求15所述的黑色矩陣用炭黑的制造方法，其中，所述氧化劑為臭氧氣體、硝 酸、次氯酸鈉、過氧化氫、一氧化氮氣體、二氧化氮氣體、三氧化硫、氟氣體、濃硫酸、硝酸或 各種過氧化物。
【文檔編號】G02B5/20GK104245855SQ201380022565
【公開日】2014年12月24日 申請日期:2013年2月28日 優(yōu)先權(quán)日:2012年2月29日
【發(fā)明者】井戶川浩幸 申請人:大同化成工業(yè)株式會社