一種障壁曝光機(jī)間隔計(jì)測單元的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種等離子顯示屏制造用障壁曝光設(shè)備，尤其是涉及一種新型障壁曝光機(jī)間隔計(jì)測單元。本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是：針對現(xiàn)有技術(shù)存在的問題，提供了一種新型障壁曝光機(jī)間隔計(jì)測單元，可用間隔傳感器支架對UV光線進(jìn)行遮擋，同時間隔傳感器支架結(jié)構(gòu)的變化及母版間隔窗口面積減小，更能有效對UV光進(jìn)行遮擋，克服即不出現(xiàn)圖形殘留又不出現(xiàn)曝光不足問題。本實(shí)用新型通過間隔傳感器支架結(jié)構(gòu)變化，將間隔傳感器支架厚度進(jìn)行減少，再增加一個小擋片，使得支架總遮光面積減小，可以防止間隔傳感器支架遮擋面積太大，出現(xiàn)曝光不足的問題。
【專利說明】一種障壁曝光機(jī)間隔計(jì)測單元
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種等離子顯示屏制造用障壁曝光設(shè)備，尤其是涉及一種障壁曝光機(jī)間隔計(jì)測單元。
【背景技術(shù)】
[0002]等離子顯示器的障壁圖形一般通過光刻工藝進(jìn)行，經(jīng)PR (感光)膠涂敷、PR曝光、顯影、障壁刻蝕、剝膜形成，而PR曝光設(shè)備是障壁圖形形成的關(guān)鍵設(shè)備。
[0003]PR曝光機(jī)工作時，為了防止基板與Mask (掩膜板)直接接觸，在曝光之前需對基板與Mask之間的間隔進(jìn)行測量。
[0004]間隔計(jì)測單元主要包括間隔傳感器、間隔傳感器支架、母版間隔窗口。各單元主要作用:母版間隔窗口為透明的，在測量基板與Mask之間的間隔過程中，光線可通過此窗口照射到圖形表面；間隔傳感器為發(fā)射與接收光線的裝置，間隔計(jì)測時，間隔傳感器發(fā)光部發(fā)射一束光線，光線通過母版間隔窗口照射到Mask表面、再經(jīng)過Mask底部、基板圖形表面、最后照射到基板底部；再由間隔傳感器收光部接受由Mask表面、Mask底部、基板圖形表面、基板底部反射回的光線(此光線也是通過母版間隔窗口反射回來)；間隔傳感器將光線強(qiáng)度數(shù)據(jù)發(fā)送至其他處理器進(jìn)行計(jì)算出間隔距離；間隔傳感器支架起固定間隔傳感器及遮擋UV光的作用。
[0005]目前量產(chǎn)尺寸產(chǎn)品，因圖形與母版間隔窗口已重合，曝光時，為了防止UV光線通過母版間隔窗口直接照射到圖形表面，需對母版間隔窗口進(jìn)行遮擋。若遮擋面積太大，則影響到圖形區(qū)域的曝光量而導(dǎo)致曝光不足；若遮擋面積太小，則UV光線會透過母版間隔窗口導(dǎo)致圖形殘留。因產(chǎn)品設(shè)計(jì)余度與曝光機(jī)設(shè)備配合余度較小，而沒有專用部件對母版間隔窗口進(jìn)行遮擋，從而會導(dǎo)致圖形殘留。由于受固定Mask的框架大小限制，間隔傳感器不能無限制的往圖形區(qū)域以外移動。
[0006]UV光線通過母版間隔窗口直接照射在圖形上時，形成的圖形殘留存在于后板排氣孔位置，對品質(zhì)有嚴(yán)重的噪音隱患；而間隔傳感器支架遮光面積太大導(dǎo)致的曝光不足，將造成熒光粉對位線形貌異常，進(jìn)而使熒光粉噴涂異常，導(dǎo)致熒光粉再生率提高，同時對位線周圍障壁形貌異常，出現(xiàn)障壁open (開路)不良。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0007]本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是:針對現(xiàn)有技術(shù)存在的問題，提供了一種障壁曝光機(jī)間隔計(jì)測單元，可用間隔傳感器支架對UV光線進(jìn)行遮擋，同時間隔傳感器支架結(jié)構(gòu)的變化及母版間隔窗口面積減小，更能有效對UV光進(jìn)行遮擋，克服即不出現(xiàn)圖形殘留又不出現(xiàn)曝光不足問題。有效的防止了曝光后出現(xiàn)圖形殘留及曝光不足的問題，改善了曝光品質(zhì)。
[0008]本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案如下:
[0009]一種障壁曝光機(jī)間隔計(jì)測單元，其特征在于包括間隔傳感器支架、間隔傳感器和母版間隔窗口、擋片，所述擋片與間隔傳感器分別貼于間隔傳感器支架對立面，所述擋片位于間隔傳感器支架近母版間隔窗口一側(cè)；
[0010]所述間隔傳感器支架滿足H1+H2 ( H，H為間隔傳感器支架結(jié)構(gòu)的原始厚度，Hl為間隔傳感器支架結(jié)構(gòu)變化之后的厚度，H2為擋片厚度；Hl>2mm ;所述擋片距離間隔傳感器支架頂端距離范圍滿足O < B3 < (B1-B2)，B=BLB為間隔傳感器支架結(jié)構(gòu)的原始寬度，BI為間隔傳感器支架結(jié)構(gòu)變化之后的寬度，B2為擋片寬度，B3為擋片距離間隔傳感器支架頂
端距離。
[0011]所述H范圍H > C，C為原母版間隔窗口的長度；B范圍B > D，D為原母版間隔窗口的寬度。
[0012]所述的原母版間隔窗口上貼附耐高溫膠帶，所述的耐高溫膠帶完全覆蓋貼附于母版間隔窗口與間隔傳感器之間同側(cè)的近掩膜圖形區(qū)域一側(cè)。
[0013]所述C1+C2≥C，D=Dl, D2≥D ；C1為貼附高溫膠帶后的母版間隔窗口長度，C2為耐高溫膠帶長度，C為原母版間隔窗口長度，Dl為貼附高溫膠帶后的母版間隔窗口寬度，D2為耐高溫膠帶寬度。
[0014]所述原母版間隔窗口長度C的范圍C ^ 3mm, D ^ 3mm, Cl ^ 2mm。
[0015]綜上所述，由于采用了上述技術(shù)方案，本實(shí)用新型的有益效果是:
[0016]I)所述的間隔傳感器支架，可用于曝光時遮擋UV光，防止UV光線直接照射到圖形表面，導(dǎo)致圖形殘留。
[0017]2)所述的間隔傳感器支架結(jié)構(gòu)變化，將間隔傳感器支架厚度進(jìn)行減少，再增加一個小擋片，使得支架總遮光面 積減小，可以防止間隔傳感器支架遮擋面積太大，出現(xiàn)曝光不足的問題。
[0018]3)所述的母版間隔窗口采用貼附耐高溫膠帶，使母版間隔窗口長度減少，使母版間隔窗口面積減小，增大間隔傳感器支架移動余度，更有效的防止圖形殘留。徹底的解決了障壁曝光機(jī)現(xiàn)有量產(chǎn)尺寸產(chǎn)品圖形殘留及曝光不足的問題，有效的提升曝光產(chǎn)品品質(zhì)。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0019]本實(shí)用新型將通過例子并參照附圖的方式說明，其中:
[0020]圖1是原有間隔傳感器支架結(jié)構(gòu)示意圖。
[0021]圖2是本實(shí)用新型的間隔傳感器支架結(jié)構(gòu)示意圖。
[0022]圖3是原有的母版間隔窗口尺寸示意圖。
[0023]圖4是本實(shí)用新型的母版間隔窗口尺寸示意圖。
[0024]圖5是原有間隔傳感器支架遮擋母版間隔窗口示意圖。
[0025]圖6是本實(shí)用新型間隔傳感器支架遮擋母版間隔窗口示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0026]為了使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實(shí)施例，對本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅用以解釋本實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí)用新型。
[0027]C2是不透光，比如UV燈光線。[0028]具體事例:
[0029]如附圖所示，一種障壁曝光機(jī)間隔計(jì)測單元，包括間隔傳感器支架和母版間隔窗□。
[0030]用間隔傳感器支架在曝光時遮擋UV光，防止UV光直接照射到圖形表面形成圖形殘留；對間隔傳感器支架結(jié)構(gòu)進(jìn)行調(diào)整，將原間隔傳感器支架厚度H由8_減少到間隔傳感器支架結(jié)構(gòu)變化之后的厚度Hl為4mm ;間隔傳感器支架寬度B保持90mm不變；在距離間隔傳感器支架頂部B3位置25mm處增加一個擋片，擋片厚度H2為4mm、寬度B2為20mm，使得遮光面積減小90*8- (90*4+20*4) =280 mm2，可以防止間隔傳感器支架遮擋面積太大，出現(xiàn)曝光不足的問題。
[0031]在母版間隔窗口右側(cè)長度2_，寬度8_的位置處完全覆蓋貼附耐高溫膠帶，耐高溫月父市長度C2=2mm，覽度D2=8mm，使母版間隔窗口長度由原母版間隔窗口 C為6mm減少到貼附高溫膠帶后的母版間隔窗口 Cl為4mm，母版間隔窗口寬度保持8mm不變D=Dl=8mm，其面積減小8*6-8*4=16 mm2，更有效的防止圖形殘留，同時增大間隔傳感器支架移動余度。
[0032]使用新型障壁曝光機(jī)間隔計(jì)測單元后，徹底解決了現(xiàn)有量產(chǎn)尺寸產(chǎn)品圖形殘留及曝光不足的問題，有效的提升了曝光產(chǎn)品品質(zhì)。
[0033]本說明書中公開的所有特征，除了互相排斥的特征以外，均可以以任何方式組合。
[0034]本說明書(包括任何附加權(quán)利要求、摘要和附圖)中公開的任一特征，除非特別敘述，均可被其他等效或具有類似目的的替代特征加以替換。即，除非特別敘述，每個特征只是一系列等效或類似特征中的一個例子而已。
【權(quán)利要求】
1.一種障壁曝光機(jī)間隔計(jì)測單元，其特征在于包括間隔傳感器支架、間隔傳感器和母版間隔窗口，其特征在于還包括擋片，所述擋片與間隔傳感器分別貼于間隔傳感器支架對立面，所述擋片位于間隔傳感器支架近母版間隔窗口一側(cè)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種障壁曝光機(jī)間隔計(jì)測單元，其特征在于所述間隔傳感器支架滿足H1+H2 ≤H，H為間隔傳感器支架結(jié)構(gòu)的原始厚度，Hl為間隔傳感器支架結(jié)構(gòu)變化之后的厚度，H2為擋片厚度；Hl>2mm ;所述擋片距離間隔傳感器支架頂端距離范圍滿足O< B3 < (B1-B2)，B=B1，B為間隔傳感器支架結(jié)構(gòu)的原始寬度，BI為間隔傳感器支架結(jié)構(gòu)變化之后的寬度，B2為擋片寬度，B3為擋片距離間隔傳感器支架頂端距離。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種障壁曝光機(jī)間隔計(jì)測單元，其特征在于所述H范圍H>C，C為原母版間隔 窗口的長度；B范圍B > D，D為原母版間隔窗口的寬度。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種障壁曝光機(jī)間隔計(jì)測單元，其特征在于所述的原母版間隔窗口上貼附耐高溫膠帶，所述的耐高溫膠帶完全覆蓋貼附于母版間隔窗口與間隔傳感器之間同側(cè)的近掩膜圖形區(qū)域一側(cè)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種障壁曝光機(jī)間隔計(jì)測單元，其特征在于C1+C2^ C，D=Dl, D2 ≥D；C1為貼附高溫膠帶后的母版間隔窗口長度，C2為耐高溫膠帶長度，C為原母版間隔窗口長度，Dl為貼附高溫膠帶后的母版間隔窗口寬度，D2為耐高溫膠帶寬度。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種障壁曝光機(jī)間隔計(jì)測單元，其特征在于所述原母版間隔窗口長度 C 的范圍 C≥3mm, D ≥3mm, Cl≥ 2mm。
【文檔編號】G03F7/20GK203643741SQ201320721170
【公開日】2014年6月11日 申請日期:2013年11月15日 優(yōu)先權(quán)日:2013年11月15日
【發(fā)明者】劉衍偉, 韓榮, 陳富貴, 段冰, 魏興龍 申請人:四川虹歐顯示器件有限公司