基板傳遞機(jī)械手及基板傳遞系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及液晶顯示制造領(lǐng)域，具體是一種用于真空對(duì)盒模塊的基板傳遞機(jī)械手及基板傳遞系統(tǒng)，所述基板傳遞機(jī)械手包括機(jī)械手上臂、機(jī)械手下臂、支撐臂和底座，所述機(jī)械手上臂和機(jī)械手下臂分別設(shè)置在所述支撐臂上并用于取放基板，且所述支撐臂設(shè)置在所述底座上；所述機(jī)械手上臂與所述支撐臂之間設(shè)有翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，所述機(jī)械手上臂通過(guò)所述翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)翻轉(zhuǎn)。本實(shí)用新型通過(guò)獲取上基臺(tái)上的基板，同時(shí)獲取下基臺(tái)上的基板，通過(guò)改變機(jī)械手的運(yùn)動(dòng)軌跡，從而縮短了運(yùn)動(dòng)路程，減少了獲取基板的時(shí)間損耗、提高了生產(chǎn)效率；通過(guò)簡(jiǎn)化真空對(duì)盒模塊的基板傳遞系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)，維護(hù)更為方便，而且搬送動(dòng)作更少。
【專利說(shuō)明】基板傳遞機(jī)械手及基板傳遞系統(tǒng)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及液晶顯示制造領(lǐng)域，具體是一種用于真空對(duì)盒模塊的基板傳遞機(jī)械手及基板傳遞系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]液晶顯示作為一種重要的平板顯示方式，近十多年有了飛速的發(fā)展。液晶顯示有輕、薄、低能耗等優(yōu)點(diǎn)，被廣泛應(yīng)用于電視、計(jì)算機(jī)、手機(jī)、數(shù)碼相機(jī)等現(xiàn)代化信息設(shè)備。
[0003]液晶面板一般由陣列基板、彩膜基板和兩基板中間的液晶層構(gòu)成。在液晶面板的制作過(guò)程中，首先，由上游設(shè)備通過(guò)一定的工藝流程制作陣列基板和彩膜基板。這兩塊基板制作好后，分別放在上游設(shè)備的指定位置上，例如，可以將陣列基板放置在上游設(shè)備的上基臺(tái)上，將彩膜基板放置在上游設(shè)備的下基臺(tái)上，當(dāng)然，作為替代，也可以根據(jù)需要將彩膜基板放置在上游設(shè)備的上基臺(tái)上，將陣列基板放置在上游設(shè)備的下基臺(tái)上。其中，上基臺(tái)位于下基臺(tái)的上方。然后，由下游設(shè)備上的抓取裝置分別獲取陣列基板和彩膜基板，并將獲取到的兩塊基板送入指定設(shè)備進(jìn)行后續(xù)的工藝流程?，F(xiàn)有技術(shù)中，采用基板傳遞機(jī)械手獲取兩塊基板。其中，機(jī)械手上臂從上游設(shè)備的下基臺(tái)獲取涂過(guò)膠的陣列基板；下基臺(tái)上設(shè)有翻轉(zhuǎn)裝置，該翻轉(zhuǎn)裝置先進(jìn)行翻轉(zhuǎn)，將陣列基板朝下設(shè)置，然后機(jī)械手上臂的吸附裝置與翻轉(zhuǎn)好的涂膠陣列基板先進(jìn)行對(duì)位處理，再將該陣列基板進(jìn)行吸附，并取出。然后，該機(jī)械手下臂從上基臺(tái)上獲取滴注液晶的彩膜基板，彩膜基板被吸附在機(jī)械手上手臂的下表面。取片后的機(jī)械手，所述機(jī)械手上臂將涂過(guò)膠的陣列基板送至VAS (真空對(duì)盒模塊)上側(cè)供片臺(tái)，同時(shí)機(jī)械手下臂將滴注液晶的彩膜基板送至VAS下側(cè)供片臺(tái)。
[0004]現(xiàn)有技術(shù)中，上游設(shè)備的傳遞機(jī)械手上臂獲取基板的取片操作過(guò)程為:上游機(jī)械手上臂載入，對(duì)位；下基臺(tái)上翻轉(zhuǎn)器進(jìn)行翻轉(zhuǎn)，機(jī)械手下臂進(jìn)行取片。在取片過(guò)程中，翻轉(zhuǎn)器翻轉(zhuǎn)需要進(jìn)行的時(shí)間是平均58s。傳遞機(jī)械手下臂要與翻轉(zhuǎn)器再進(jìn)行對(duì)位，然后下基臺(tái)翻轉(zhuǎn)，機(jī)械手再伸入翻轉(zhuǎn)器中，進(jìn)行取片，然后翻轉(zhuǎn)器解除真空，機(jī)械手吸真空，然后才完成取片，機(jī)械手旋轉(zhuǎn)，進(jìn)行VAS供片。由于翻轉(zhuǎn)器翻轉(zhuǎn)耗費(fèi)時(shí)間過(guò)長(zhǎng)，已經(jīng)無(wú)法滿足目前的tacktime (工期要求，即生產(chǎn)一個(gè)液晶面板所需時(shí)間)要求，并且需要進(jìn)行較多對(duì)位操作，導(dǎo)致供片速度較慢，生產(chǎn)效率較低。
[0005]為了解決以上問(wèn)題，本實(shí)用新型做了有益改進(jìn)。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0006](一)要解決的技術(shù)問(wèn)題
[0007]本實(shí)用新型的目的提供一種用于真空對(duì)盒模塊的基板傳遞機(jī)械手及基板傳遞系統(tǒng)，能夠提聞供片速度，從而提聞液晶面板的生廣效率。
[0008](二)技術(shù)方案
[0009]本實(shí)用新型是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:
[0010]一種用于真空對(duì)盒模塊的基板傳遞機(jī)械手，包括機(jī)械手上臂、機(jī)械手下臂、支撐臂和底座；所述機(jī)械手上臂和機(jī)械手下臂分別設(shè)置在所述支撐臂上并用于取放基板；所述支撐臂設(shè)置在所述底座上；所述機(jī)械手上臂與所述支撐臂之間設(shè)有翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，所述機(jī)械手上臂通過(guò)所述翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)翻轉(zhuǎn)。
[0011]其中，所述翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)包括水平設(shè)置的豎直旋轉(zhuǎn)軸；所述機(jī)械手上臂與支撐臂通過(guò)所述豎直旋轉(zhuǎn)軸連接，且該豎直旋轉(zhuǎn)軸可帶動(dòng)所述機(jī)械手上臂翻轉(zhuǎn)。
[0012]進(jìn)一步，所述機(jī)械手下臂與所述支撐臂之間設(shè)有水平旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，所述機(jī)械手下臂可通過(guò)所述水平旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)繞所述支撐臂水平旋轉(zhuǎn)。
[0013]優(yōu)選的，所述水平旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)上設(shè)有軸套，所述機(jī)械手下臂可隨所述軸套繞所述支撐臂水平旋轉(zhuǎn)。
[0014]其中，所述支撐臂上設(shè)有升降機(jī)構(gòu)；所述機(jī)械手上臂與所述機(jī)械手下臂可通過(guò)所述升降機(jī)構(gòu)進(jìn)行升降操作。
[0015]進(jìn)一步，所述升降機(jī)構(gòu)包括外部的套筒和設(shè)置于所述套筒內(nèi)的滑桿，所述機(jī)械手上臂與所述機(jī)械手下臂設(shè)置于所述滑桿上。
[0016]其中，所述底座上設(shè)有水平滑動(dòng)機(jī)構(gòu)；所述底座可帶動(dòng)所述機(jī)械手上臂、機(jī)械手下臂和支撐臂在所述水平滑動(dòng)機(jī)構(gòu)上沿直線滑動(dòng)。
[0017]此外，本實(shí)用新型還提供一種真空對(duì)盒模塊的基板傳遞系統(tǒng)，包括任一項(xiàng)如上所述的基板傳遞機(jī)械手。
[0018]具體地，還包括兩個(gè)緩沖供片裝置，所述緩沖供片裝置分別設(shè)置在上游設(shè)備的上基臺(tái)和下基臺(tái)上。
[0019]進(jìn)一步，所述緩沖供片裝置包括供片框架，所述供片框架內(nèi)設(shè)有多層基板存放結(jié)構(gòu)。
[0020](三)有益效果
[0021]與現(xiàn)有技術(shù)和產(chǎn)品相比，本實(shí)用新型有如下優(yōu)點(diǎn):
[0022]1、本實(shí)用新型通過(guò)獲取上基臺(tái)上的基板，同時(shí)獲取下基臺(tái)上的基板，通過(guò)改變機(jī)械手的運(yùn)動(dòng)軌跡，從而縮短了運(yùn)動(dòng)路程，減少了獲取基板的時(shí)間損耗、提高了生產(chǎn)效率。
[0023]2、本實(shí)用新型通過(guò)簡(jiǎn)化真空對(duì)盒模塊的基板傳遞系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)，更為方便維護(hù)，而且搬送動(dòng)作更少。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0024]圖1是本實(shí)用新型的傳遞機(jī)械手的結(jié)構(gòu)示意圖一；
[0025]圖2是本實(shí)用新型的機(jī)械手供片過(guò)程示意圖；
[0026]圖3是本實(shí)用新型的緩沖供片裝置立體結(jié)構(gòu)圖。
[0027]附圖中，各標(biāo)號(hào)所代表的組件列表如下:
[0028]1、機(jī)械手上臂；2、機(jī)械手下臂；3、支撐臂；4、底座；5、翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)；6、水平旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)；
7、滑桿；8、外部套筒；9、滑動(dòng)塊；10、滑槽；20、涂膠基板；30、滴液晶基板；40、上側(cè)供片臺(tái)；50、下側(cè)供片臺(tái)；60、緩沖供片裝置；61、供片框架。
【具體實(shí)施方式】
[0029]下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】做一個(gè)詳細(xì)的說(shuō)明。[0030]如圖1所示，本實(shí)施例提供一種用于真空對(duì)盒模塊的基板傳遞機(jī)械手，包括機(jī)械手上臂1、機(jī)械手下臂2、支撐臂3和底座4，所述機(jī)械手上臂和機(jī)械手下臂分別設(shè)置在所述支撐臂上，且所述支撐臂設(shè)置在所述底座上；所述機(jī)械手上臂與所述支撐臂之間設(shè)有翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)5，所述機(jī)械手上臂通過(guò)所述翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)翻轉(zhuǎn)。從而，在真空對(duì)盒模塊的基板傳遞過(guò)程中，機(jī)械手上臂可將放置在其上表面的涂膠基板進(jìn)行翻轉(zhuǎn)，使該涂膠基板的涂膠表面朝下設(shè)置。
[0031]其中，所述翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)5包括水平設(shè)置的豎直旋轉(zhuǎn)軸，所述機(jī)械手上臂I與支撐臂3通過(guò)該豎直旋轉(zhuǎn)軸連接，且該豎直旋轉(zhuǎn)軸可帶動(dòng)所述機(jī)械手上臂I翻轉(zhuǎn)。具體的，翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)5內(nèi)還可設(shè)有翻轉(zhuǎn)電機(jī)和減速器，翻轉(zhuǎn)電機(jī)用于驅(qū)動(dòng)豎直旋轉(zhuǎn)軸，減速器用于控制豎直旋轉(zhuǎn)軸的轉(zhuǎn)動(dòng)速率。
[0032]所述機(jī)械手下臂2與所述支撐臂3之間設(shè)有水平旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)6，所述機(jī)械手下臂2可通過(guò)所述水平旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)繞所述支撐臂水平旋轉(zhuǎn)。具體的，所述水平旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)6上可采用軸套的結(jié)構(gòu)，所述機(jī)械手下臂2可隨所述軸套繞支撐臂3水平旋轉(zhuǎn)。該軸套可采用線性馬達(dá)進(jìn)行驅(qū)動(dòng)。
[0033]進(jìn)一步，所述支撐臂3上設(shè)有升降機(jī)構(gòu)；所述支撐臂可通過(guò)所述升降機(jī)構(gòu)進(jìn)行升降操作。該支撐臂上可設(shè)置套筒結(jié)構(gòu)，即在底座4上設(shè)置外部套筒8，內(nèi)設(shè)滑桿7或者絲杠，機(jī)械手上臂、下臂均設(shè)置在所述滑桿7或者絲杠的上部位置?；瑮U7可在外部套筒8內(nèi)上下移動(dòng)。所述底座4上設(shè)有水平滑動(dòng)機(jī)構(gòu)；所述底座4可帶動(dòng)所述機(jī)械手上臂1、機(jī)械手下臂2和支撐臂3在所述水平滑動(dòng)機(jī)構(gòu)上沿直線移動(dòng)。水平滑動(dòng)機(jī)構(gòu)可采用多種方式，例如滑槽結(jié)構(gòu)。底座4上設(shè)有滑槽10和滑動(dòng)塊9，支撐臂3固定在滑動(dòng)塊9上?；瑒?dòng)塊9可采用線性馬達(dá)驅(qū)動(dòng)的方式，在所述滑槽10中沿直線移動(dòng)。
[0034]此外，如圖2所示，本實(shí)施例還提供一種真空對(duì)盒模塊的基板傳遞系統(tǒng)，包括如上所述的基板傳遞機(jī)械手。進(jìn)一步，如圖3所示，所述基板傳遞系統(tǒng)還包括緩沖供片裝置60，所述多層緩沖供片裝置設(shè)置在上游設(shè)備的上、下基臺(tái)上。所述緩沖供片裝置包括供片框架61，所述供片框架61內(nèi)平行設(shè)有多層基板存放結(jié)構(gòu)。所述多層緩沖供片裝置60可用于存放多個(gè)涂膠基板20或滴液晶基板30。
[0035]所述真空對(duì)盒模塊進(jìn)行基板傳遞的過(guò)程如下:
[0036](I)VAS上側(cè)供片臺(tái)40上升到較高高度，例如280.0Omm高度，且上側(cè)供片臺(tái)40上的Support Pad (帶有真空吸盤的支撐吸盤)再下降到較低位置,例如-1OOmm位置,而此時(shí)，下側(cè)供片臺(tái)50的Lift Pin (支撐柱)上升至中間位置，例如145.0Omm位置處，VAS處于準(zhǔn)備受片狀態(tài)。
[0037](2)在上游設(shè)備上的上基臺(tái)和下基臺(tái)上設(shè)置有多層緩沖供片裝置，便于使機(jī)械手手臂獲取基板。
[0038]基板傳遞機(jī)械手從初始位置移動(dòng)到上游設(shè)備上基臺(tái)位置。所述機(jī)械手上臂通過(guò)吸盤從上基臺(tái)位置獲取涂過(guò)膠的陣列基板，機(jī)械手上臂吸附基板，然后通過(guò)機(jī)械手上臂的翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)使基板在豎直方向進(jìn)行翻轉(zhuǎn)，從而使涂膠陣列基板的涂膠面向下。然后機(jī)械手上臂將所述基板送入VAS上側(cè)供片臺(tái)，然后機(jī)械手上臂的真空解除，VAS設(shè)備上部Support Pad(支撐吸盤)收回，涂膠陣列基板吸附到PSC (Plate Silicone rubber Chuck,平板式娃橡膠吸附裝置)上。[0039]與此同時(shí)，機(jī)械手下手臂從上游設(shè)備下基臺(tái)位置將滴過(guò)液晶的彩膜基板從多層緩沖供片裝置中取出，將滴過(guò)液晶的彩膜基板放在Lift Pin (支撐柱)，然后機(jī)械手下臂收回；
[0040]在機(jī)械手的上、下臂收回的過(guò)程中，上側(cè)供片臺(tái)上的Support Pad和下側(cè)供片臺(tái)上的Lift Pin同時(shí)恢復(fù)到原點(diǎn)位置，然后設(shè)備真空腔關(guān)閉進(jìn)行壓盒。
[0041]本實(shí)施例中的獲取基板的方法及設(shè)備，在獲取下基臺(tái)的基板的同時(shí)獲取上基臺(tái)的基板，通過(guò)在機(jī)械手上臂設(shè)置翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，可以在傳遞基板的過(guò)程中進(jìn)行翻轉(zhuǎn)，從而縮短了運(yùn)動(dòng)路程。
[0042]1、一個(gè)示例性測(cè)試中，現(xiàn)有技術(shù)VAS機(jī)械手取片加供片時(shí)間:
[0043]
【權(quán)利要求】
1.一種用于真空對(duì)盒模塊的基板傳遞機(jī)械手，其特征在于，包括機(jī)械手上臂、機(jī)械手下臂、支撐臂和底座；所述機(jī)械手上臂和機(jī)械手下臂分別設(shè)置在所述支撐臂上并用于取放基板；所述支撐臂設(shè)置在所述底座上；所述機(jī)械手上臂與所述支撐臂之間設(shè)有翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，所述機(jī)械手上臂通過(guò)所述翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)翻轉(zhuǎn)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于真空對(duì)盒模塊的基板傳遞機(jī)械手，其特征在于，所述翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)包括水平設(shè)置的豎直旋轉(zhuǎn)軸；所述機(jī)械手上臂與支撐臂通過(guò)所述豎直旋轉(zhuǎn)軸連接，且該豎直旋轉(zhuǎn)軸可帶動(dòng)所述機(jī)械手上臂翻轉(zhuǎn)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于真空對(duì)盒模塊的基板傳遞機(jī)械手，其特征在于，所述機(jī)械手下臂與所述支撐臂之間設(shè)有水平旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，所述機(jī)械手下臂可通過(guò)所述水平旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)繞所述支撐臂水平旋轉(zhuǎn)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于真空對(duì)盒模塊的基板傳遞機(jī)械手，其特征在于，所述水平旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)上設(shè)有軸套，所述機(jī)械手下臂可隨所述軸套繞所述支撐臂水平旋轉(zhuǎn)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于真空對(duì)盒模塊的基板傳遞機(jī)械手，其特征在于，所述支撐臂上設(shè)有升降機(jī)構(gòu)；所述機(jī)械手上臂與所述機(jī)械手下臂可通過(guò)所述升降機(jī)構(gòu)進(jìn)行升降操作。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于真空對(duì)盒模塊的基板傳遞機(jī)械手，其特征在于，所述升降機(jī)構(gòu)包括外部的套筒和設(shè)置于所述套筒內(nèi)的滑桿，所述機(jī)械手上臂與所述機(jī)械手下臂設(shè)置于所述滑桿上。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于真空對(duì)盒模塊的基板傳遞機(jī)械手，其特征在于，所述底座上設(shè)有水平滑動(dòng)機(jī)構(gòu)；所述底座可帶動(dòng)所述機(jī)械手上臂、機(jī)械手下臂和支撐臂在所述水平滑動(dòng)機(jī)構(gòu)上沿直線滑動(dòng)。
8.一種真空對(duì)盒模塊的基板傳遞系統(tǒng)，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的基板傳遞機(jī)械手。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的真空對(duì)盒模塊的基板傳遞系統(tǒng)，其特征在于，還包括兩個(gè)緩沖供片裝置，所述緩沖供片裝置分別設(shè)置在上游設(shè)備的上基臺(tái)和下基臺(tái)上。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的真空對(duì)盒模塊的基板傳遞系統(tǒng)，其特征在于，所述緩沖供片裝置包括供片框架，所述供片框架內(nèi)設(shè)有多層基板存放結(jié)構(gòu)。
【文檔編號(hào)】G02F1/13GK203535331SQ201320599166
【公開日】2014年4月9日 申請(qǐng)日期:2013年9月26日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月26日
【發(fā)明者】井楊坤, 顧二興 申請(qǐng)人:合肥京東方光電科技有限公司, 京東方科技集團(tuán)股份有限公司