感射線性組合物、顯示元件用固化膜的形成方法、顯示元件用固化膜以及顯示元件的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明的目的在于提供一種感射線性組合物，其可形成分辨率和感光度優(yōu)異并且具有高顯影耐受性、耐熱性、耐溶劑性等的固化膜。本發(fā)明是含有[A]具有烯屬不飽和鍵的聚合性化合物、以及[B]由下述式(1)表示的光聚合引發(fā)劑的感射線性組合物。下述式(1)中，R1是嗎啉代基、哌啶子基、二甲基氨基或二乙基氨基。R2以及R3各自獨立地為碳原子數(shù)1～6的烷基。R4以及R5各自獨立地為羥基、羥甲基或碳原子數(shù)1～6的烷基。n為0～6的整數(shù)。X為氧原子或硫原子。又，該感射線性組合物優(yōu)選進一步含有[C]堿可溶性樹脂。進一步，該感射線性組合物優(yōu)選進一步含有[D]著色劑。
【專利說明】感射線性組合物、顯示元件用固化膜的形成方法、顯示元件用固化膜以及顯示元件
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及一種感射線性組合物、顯示元件用固化膜的形成方法、顯示元件用固化膜以及顯示元件。
【背景技術】
[0002]一般而言，在薄膜晶體管型液晶顯示元件等顯示設備中，為了將配置成層狀的布線之間進行絕緣，因而設置了作為層間絕緣膜的固化膜。例如，薄膜晶體管型液晶顯示元件經由如下工序而制造:在上述固化膜上形成透明電極膜，進一步在其上形成液晶取向膜。在這樣的制造工序中，上述固化膜在透明電極膜的形成工序中暴露于高溫，或者暴露于在電極的圖案形成中所使用的抗蝕層的剝離液，因而固化膜需要具有高顯影耐受性、耐熱性以及耐溶劑性。
[0003]近年來，考慮到伴隨顯示的高精細化而來的液晶顯示元件的圖案微細化以及生產率的效率化，對于用于形成上述那樣的層間絕緣膜、液晶顯示元件用的間隔物、保護膜以及著色圖案等固化膜的感射線性組合物，要求具有高分辨率以及感光度。對此，提出了使用包含肟酯類光聚合引發(fā)劑的感射線性組合物的技術(參照日本特開2005-227525號公報)。
[0004]但是，即使使用了這樣的技術，也不能說充分滿足了感光度等。另外，對于感射線性組合物也要求具有保存穩(wěn)定性，并且對于所形成的固化膜，在上述高顯影耐受性、耐熱性以及耐溶劑性的基礎上還要求具有優(yōu)異的壓縮性能。
[0005]現(xiàn)有技術文獻
[0006]專利文獻
[0007]專利文獻1:日本特開2005-227525號公報
【發(fā)明內容】

[0008]發(fā)明要解決的問題
[0009]本發(fā)明基于以上那樣的情形而完成。其目的在于提供一種感射線性組合物，該感射線性組合物可形成分辨率和感光度優(yōu)異并且具有高顯影耐受性、耐熱性、耐溶劑性等的固化膜。
[0010]用于解決問題的方案
[0011]為了解決上述問題而完成的發(fā)明是一種感射線性組合物，其含有[A]具有烯屬不飽和鍵的聚合性化合物(以下亦稱為“[A]聚合性化合物”)、以及[B]由下述式⑴表示的光聚合引發(fā)劑(以下亦稱為“[B]光聚合引發(fā)劑”)。
[0012]【化學式I】
[0013]
【權利要求】
1.一種感射線性組合物，其含有[A]具有烯屬不飽和鍵的聚合性化合物、以及[B]由下述式(I)表示的光聚合引發(fā)劑， 【化學式I】
2.根據(jù)權利要求1所述的感射線性組合物，其中，[B]光聚合引發(fā)劑由下述式(1-1)表示， 【化學式2】
3.根據(jù)權利要求1所述的感射線性組合物，其進一步含有[C]堿可溶性樹脂。
4.根據(jù)權利要求3所述的感射線性組合物，其中，[C]堿可溶性樹脂具有由下述式(2)表示的結構單元， 【化學式3】
5.根據(jù)權利要求1所述的感射線性組合物，其進一步含有[D]著色劑。
6.根據(jù)權利要求3所述的感射線性組合物，其中，[C]堿可溶性樹脂具有源自含環(huán)氧基的不飽和化合物的結構單元。
7.根據(jù)權利要求1~6中任一項所述的感射線性組合物，其用于形成顯示元件用固化膜。
8.一種光聚合引發(fā)劑，其為權利要求2中記載的式(1-1)所示的光聚合引發(fā)劑。
9.一種顯示元件用固化膜的形成方法，其具有如下工序: (1)使用權利要求7所述的感射線性組合物，在基板上形成涂膜的工序， (2)對上述涂膜的至少一部分照射射線的工序， (3)將上述照射了射線的涂膜進行顯影的工序，以及 (4)將上述顯影了的涂膜進行加熱的工序。
10.一種顯示元件用固化膜，其由權利要求7所述的感射線性組合物形成。
11.一種顯示元件，其具備權利要求9所述的顯示元件用固化膜。
【文檔編號】G03F7/00GK103676479SQ201310381387
【公開日】2014年3月26日 申請日期:2013年8月28日 優(yōu)先權日:2012年8月30日
【發(fā)明者】中川剛志, 西川耕二 申請人:Jsr株式會社