專利名稱：鍍膜導(dǎo)光板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及液晶顯示器的背光模組，尤其涉及一種背光模組的鍍膜導(dǎo)光板。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有技術(shù)背光模組由光源、反射膜、導(dǎo)光板、擴(kuò)散膜、棱鏡層及保護(hù)框等構(gòu)成，其中導(dǎo)光板是背光模組中的關(guān)鍵組件，其作用在于引導(dǎo)入射光經(jīng)導(dǎo)光板散射及反射而轉(zhuǎn)成面光源。參閱圖1,是一種現(xiàn)有背光模組的結(jié)構(gòu)不意圖。該背光模組100包括一光源101,一導(dǎo)光板103, —反射膜105及擴(kuò)散膜107。導(dǎo)光板103包括一入光面109,與入光面109相鄰的出光面111，與出光面111相對(duì)的底面113。光源101臨近入光面109設(shè)置，反射膜105鄰近底面113設(shè)置，擴(kuò)散膜107鄰近出光面111設(shè)置，在底面113上設(shè)置有均勻分布的多個(gè)圓形反射點(diǎn)115。反射點(diǎn)115能有效反射及擴(kuò)散射至反射點(diǎn)115的光線，從而提高導(dǎo)光板103和背光模組100的光利用率與出光均勻度。但是，這樣的結(jié)構(gòu)比較復(fù)雜，特別是連接在導(dǎo)光板103底面的反射膜105，作用是將擴(kuò)散射到反射膜105的光源反射出去，反射膜105在加工過(guò)程中，與導(dǎo)光板103的粘接要求很高，稍不小心，就會(huì)導(dǎo)致反射膜報(bào)廢，導(dǎo)致廢品率居高不下，增加背光模組100的生產(chǎn)成本。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于，克服現(xiàn)有技術(shù)的上述缺陷，提供一種結(jié)構(gòu)新穎的，生產(chǎn)成本低的鍍膜導(dǎo)光板。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供的技術(shù)方案如下:一種鍍膜導(dǎo)光板，包括導(dǎo)光板，導(dǎo)光板底端連接有鍍膜層，鍍膜層的厚度為50納米至0.5毫米，鍍膜層底端連接有保護(hù)膜層。鍍膜層采用成熟的磁控濺鍍方法或其它方法。磁控濺射的工作原理是指電子在電場(chǎng)E的作用下，在飛向基片過(guò)程中與氬原子發(fā)生碰撞，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場(chǎng)作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而產(chǎn)生的二次電子會(huì)受到電場(chǎng)和磁場(chǎng)作用，產(chǎn)生E (電場(chǎng))XB(磁場(chǎng))所指的方向漂移，簡(jiǎn)稱EXB漂移，其運(yùn)動(dòng)軌跡近似于一條擺線。若為環(huán)形磁場(chǎng)，則電子就以近似擺線形式在靶表面做圓周運(yùn)動(dòng)，它們的運(yùn)動(dòng)路徑不僅很長(zhǎng)，而且被束縛在靠近靶表面的等離子體區(qū)域內(nèi)，并且在該區(qū)域中電離出大量的Ar來(lái)轟擊靶材，從而實(shí)現(xiàn)了高的沉積速率。隨著碰撞次數(shù)的增加，二次電子的能量消耗殆盡，逐漸遠(yuǎn)離靶表面，并在電場(chǎng)E的作用下最終沉積在基片上。由于該電子的能量很低，傳遞給基片的能量很小，致使基片溫升較低。磁控濺射是入射粒子和靶的碰撞過(guò)程。入射粒子在靶中經(jīng)歷復(fù)雜的散射過(guò)程，和靶原子碰撞，把部分動(dòng)量傳給靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成級(jí)聯(lián)過(guò)程。在這種級(jí)聯(lián)過(guò)程中某些表面附近的靶原子獲得向外運(yùn)動(dòng)的足夠動(dòng)量，離開(kāi)靶被濺射出來(lái)。本實(shí)用新型的有益之處是，結(jié)構(gòu)新穎，創(chuàng)造性地采用先進(jìn)的磁控濺鍍的方法或其它方法，給導(dǎo)光模組的導(dǎo)光板連接一層鍍膜層，替代原有的反光膜，降低原有反光膜的加工不良率，合格率大大提高，從而有效降低生產(chǎn)成本，提高工作效率，提升光的反射效率。

圖1是一種現(xiàn)有導(dǎo)光板的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是本實(shí)用新型所述鍍膜導(dǎo)光板的導(dǎo)光板結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖及較佳實(shí)施例就本實(shí)用新型所述鍍膜導(dǎo)光板的技術(shù)方案作進(jìn)一步的說(shuō)明。如圖圖2所示，本實(shí)用新型所述的一種鍍膜導(dǎo)光板，包括導(dǎo)光板I，導(dǎo)光板I底端連接有鍍膜層2。鍍膜層2的厚度為50納米至0.5毫米。鍍膜層2底端連接有保護(hù)膜層3。以上所述的僅是本實(shí)用新型的原理和較佳實(shí)施例。應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本實(shí)用新型原理的前提下，還能做出若干的變型和改進(jìn)，也應(yīng)視為屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1.一種鍍膜導(dǎo)光板，包括導(dǎo)光板，導(dǎo)光板底端連接有鍍膜層，其特征在于:所述鍍膜層的厚度為50納米至0.5毫米。
專利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種鍍膜導(dǎo)光板，包括導(dǎo)光板，所述導(dǎo)光板底端連接有鍍膜層，鍍鍍膜層的厚度為50納米至0.5毫米，鍍膜層底端連接有保護(hù)膜層。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)新穎，創(chuàng)造性地采用先進(jìn)的磁控濺鍍的方法或其它方法，給導(dǎo)光模組的導(dǎo)光板連接一層鍍膜層，替代原有的反光膜，降低原有反光膜的加工不良率，合格率大大提高，從而有效降低生產(chǎn)成本，提高工作效率，提升光的反射效率。
文檔編號(hào)G02B6/00GK202956498SQ20122043587
公開(kāi)日2013年5月29日 申請(qǐng)日期2012年8月29日 優(yōu)先權(quán)日2012年8月29日
發(fā)明者劉平宇 申請(qǐng)人:東莞市四合實(shí)業(yè)投資有限公司