專利名稱：液晶顯示裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及液晶顯示裝置,特別是涉及針對配向膜的磨屑引起的亮點的液晶顯示裝置。
背景技術(shù)：
液晶顯示裝置中設(shè)置有:矩陣狀地形成有像素電極及薄膜晶體管(TFT)等的TFT基板、和與TFT基板相對并在與TFT基板的像素電極相對應(yīng)的場所形成有濾色器等的對向基板，在TFT基板與對向基板之間夾持有液晶。而且，通過對每個像素控制液晶分子引起的光的透視率而形成圖像。在液晶顯示裝置中，在對向基板和TFT基板的液晶層的界面形成有配向膜，通過對配向膜實施研磨處理或光配向處理，使液晶分子初期配向。而且，通過電場使來自該初期配向的液晶分子扭轉(zhuǎn)或旋轉(zhuǎn)，從而控制透過液晶層的光的量。另一方面，為控制液晶層的厚度，需要在對向基板和TFT基板之間形成襯塾。目前，在液晶層內(nèi)分散有作為襯墊的玻璃珠等，但近年來，為TFT基板和對向基板間的更正確的間隙控制，在對向基板上形成柱狀襯墊，通過柱狀襯墊控制TFT基板和對向基板的間隙。另一方面，通過使用柱狀襯墊，也產(chǎn)生新的問題?！皩＠墨I(xiàn)1”、“專利文獻(xiàn)2”、“專利文獻(xiàn)3”中，在TFT基板上形成有柱狀襯墊的情況下，在柱狀襯墊的周邊產(chǎn)生配向膜的蓄積，為防止在該部分的配向膜的膜厚增大，在柱狀襯墊的前端部分形成凹部，且通過在該部分堆積配向膜，防止柱狀襯墊的周邊的配向膜的厚度增大?！皩＠墨I(xiàn)4”中記載有如下構(gòu)成，在柱狀襯墊的前端部形成有例如同心圓狀的槽，通過在該槽貯存配向膜的液，防止干燥后的配向膜的削減。另外，通過該構(gòu)成，確保與柱狀襯墊相對的臺座的大小的自由度。“專利文獻(xiàn)5”中公開有如下構(gòu)成，即，在與柱狀襯墊相對的臺座的面形成有槽，調(diào)整柱狀襯墊和臺座的接觸面積，同時實現(xiàn)將基板從外部按壓時的復(fù)原時間的縮短。專利文獻(xiàn)1:日本特開2000 - 122071號公報專利文獻(xiàn)2:日本特開2001 — 33790號公報專利文獻(xiàn)3:日本特開2002 - 229040號公報專利文獻(xiàn)4:日本特開2009 - 25529號公報專利文獻(xiàn)5:日本特開2007 - 94372號公報例如，當(dāng)在對向基板上設(shè)置柱狀襯墊時，在TFT基板上，在與柱狀襯墊相對的部分設(shè)置臺座。設(shè)于TFT基板的臺座的功能是防止柱狀襯墊接觸的部分的配向膜的削減，在按壓了對向基板的情況下，防止柱狀襯墊的錯位或調(diào)整按壓壓力產(chǎn)生的應(yīng)力等。但是，在現(xiàn)有的技術(shù)中，這些效果并不充分。例如在專利文獻(xiàn)I 3記載的技術(shù)中，在形成于TFT基板的柱狀襯墊的頂上部形成凹部，防止在柱狀襯墊周邊產(chǎn)生配向膜的貯液，但該構(gòu)成中，在柱狀襯墊與對向基板接觸的部分中，在柱狀襯墊的頂上的凹部較厚地形成的配向膜剝落，產(chǎn)生該剝屑成為亮點的原因的問題。
“專利文獻(xiàn)4”中記載的技術(shù)中，在形成于柱狀襯墊的頂上的同心圓狀的槽內(nèi)配向膜較厚地形成，產(chǎn)生該較厚地形成的配向膜因與臺座的接觸而剝離的問題。另外，“專利文獻(xiàn)4”的構(gòu)成中，相對于柱狀襯墊的錯位并不能得到足夠的效果?！皩＠墨I(xiàn)5”記載的技術(shù)中，在臺座上設(shè)有槽，但在該槽部分配向膜較厚地形成，具有該部分的配向膜剝落的問題點。另外，該構(gòu)成難以抑制柱狀襯墊的錯位。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的課題在于，防止柱狀襯墊與臺座之間的配向膜削減，防止柱狀襯墊的錯位，在按壓對向基板的情況下，柱狀襯墊不會破壞且在解除按壓的情況下會早期恢復(fù)到原來的狀態(tài)。本發(fā)明克服上述課題，代表的裝置如下。即，提供一種液晶顯示裝置，在掃描線沿第一方向延伸并在第二方向排列、圖像信號線沿第二方向延伸且在第一方向排列的TFT基板與具有黑矩陣和濾色器的對向基板之間夾持有液晶，其特征在于，在所述對向基板上形成有柱狀襯墊，在所述TFT基板的與所述柱狀襯墊相對應(yīng)的部分形成有臺座，在所述柱狀襯墊的前端存在有凸部和凹部，與所述凹部相對應(yīng)地形成有所述臺座，所述凹部的端部開放病與所述柱狀襯墊的側(cè)壁相連。該情況下，在通常狀態(tài)、即未對對向基板施加按壓的情況下，臺座和柱狀襯墊的凹部接觸，具有柱狀襯墊的凸部沒有與TFT基板接觸的情況和柱狀襯墊的凸部與TFT基板接觸、臺座和柱狀襯墊的凹部不接觸的情況。另外，形成于柱狀襯墊的前端的凸部和凹部可以采用各種形狀。另外，也有時組合兩種以上的柱狀襯墊作為整體，可以例舉所希望的效果。根據(jù)本發(fā)明，在柱狀襯墊的前端設(shè)有凸部和凹部，凹部在端部開放，并與柱狀襯墊的側(cè)面相連，因此，在凹部配向膜沒有厚地形成，所以能夠防止柱狀襯墊和臺座的接觸引起的配向膜削減。另外，根據(jù)本發(fā)明，形成于柱狀襯墊的前端的凸部成為相對于臺座的止動件，所以能夠防止柱狀襯墊的錯位。另外，根據(jù)本發(fā)明，由于在一個柱狀襯墊內(nèi)具有與臺座總是接觸的部位和在按壓對向基板的情況下與臺座接觸的部分，所以能夠分散按壓，且在解除了按壓時能夠早期恢復(fù)原來的狀態(tài)。另外，能夠避免按壓對向基板時的柱狀襯墊的破壞。


圖1是本發(fā)明的液晶顯示裝置的平面圖；圖2是實施例1的剖面圖；圖3是是表不實施例1的柱狀襯塾和臺座的關(guān)系的平面圖；圖4是表示實施例1的其它方式的剖面圖；圖5是表示實施例1的再其它方式的平面圖；圖6是表示實施例2的第一柱狀襯墊和臺座的關(guān)系的平面圖；圖7是表示實施例2的第二柱狀襯墊和臺座的關(guān)系的平面圖；圖8是表示實施例2的第一柱狀襯墊和第二柱狀襯墊的配置的例；
圖9 (βΓ (C)是表示實施例2的第一柱狀襯墊和第二柱狀襯墊的配置的其它例；圖10是表不實施例2的柱狀襯塾的形狀和臺座的關(guān)系的變形例；圖11是表不實施例2的柱狀襯塾的形狀和臺座的關(guān)系的其它變形例；圖12是表示實施例3的柱狀襯墊和臺座的關(guān)系的剖面圖；圖13是表示實施例3的柱狀襯墊和臺座的關(guān)系的平面圖；圖14是表示實施例3的柱狀襯墊和臺座的關(guān)系的其它例的剖面圖；圖15是實施例3的柱狀襯墊的配置例；圖16是表示實施例4的平面圖；圖17是實施例4的剖面圖；圖18是實施例4的詳細(xì)平面圖；圖19 (a)、(b)是實施例5的剖面圖；圖20是實施例6的平面圖；圖21是實施例6的剖面圖；圖22是表示使用 研磨配向的情況下的問題點的平面圖。符號說明100:TFT基板、101:掃描線、102:柵極絕緣膜、103:半導(dǎo)體層、104:漏電極、105:源電極、106:像素電極、107:無機鈍化膜、108:對向電極、109:配向膜、120:臺座、130:臺座用基臺、200:對向基板、201:黑矩陣、202:濾色器、203:外涂膜、210:柱狀襯墊、211:凸部、212:凹部、215:上底、216:下底、300:液晶層、400:顯示區(qū)域、500:透過光、600:研磨方向、610:漏光區(qū)域、1081:狹縫。
具體實施例方式下面，使用實施例詳細(xì)說明本發(fā)明的內(nèi)容。(實施例1)圖1是應(yīng)用本發(fā)明的液晶顯示裝置的像素部的平面圖。圖1中，掃描線101沿橫方向延伸且沿縱方向排列。另外，圖像信號線111沿縱方向延伸且沿橫方向排列。在被掃描線101和圖像信號線111包圍的區(qū)域形成有像素電極106。像素電極106在整個平面形成，在其上層疊有未圖示的無機鈍化膜，且在其上形成有具有狹縫1081的對向電極108。對向電極108與各像素共通形成。在掃描線101上形成有半導(dǎo)體層103，在半導(dǎo)體層103上層疊有漏電極104和源電極105。漏電極104從圖像信號線111分支，源電極105與像素電極106連接。當(dāng)經(jīng)由源電極104向像素電極106供給電壓時，電場經(jīng)由對向電極108的狹縫1081達(dá)到液晶層300，使液晶分子旋轉(zhuǎn)，控制透過液晶層300的光的量。圖1中，在掃描線101上形成有臺座120，形成于對向基板200的柱狀襯墊210與該臺座120接觸。圖2是與圖1的A — A對應(yīng)的剖面圖。圖2中，形成于TFT基板100的臺座120與形成于對向基板200的外涂膜203的柱狀襯墊210的前端部的凹部212接觸。圖中，在TFT基板100上形成有掃描線101，且在其上形成有柵極絕緣膜102。在柵極絕緣膜102上形成有臺座用基臺130。與該臺座用基臺130對應(yīng)形成臺座120。臺座用基臺130根據(jù)需要的高度層疊半導(dǎo)體層103或金屬層。作為可層疊的層，半導(dǎo)體層103為150nm，源電極、漏電極105、104為200nm,由ITO (Indium Tin Oxide)形成的像素電極106為70nm等。因此，在層疊所有的膜時，可以設(shè)為420nm左右。覆蓋柵極絕緣膜101及臺座用基臺130形成由SiN構(gòu)成的無機鈍化膜107，且在其上形成有對向電極108。掃描線101上的對向電極108在整個膜形成。即，對向電極108僅在像素部具有狹縫1081。覆蓋對向電極108形成有配向膜109。配向膜109的厚度為70nm左右。圖2中，與臺座用基臺130相對應(yīng)地形成有與柱狀襯墊210接觸的臺座120。圖2中，在對向基板200上形成有黑矩陣201，且在其上形成有外涂膜203。在外涂膜203上形成有柱狀襯墊210。柱狀襯墊210例如通過光刻形成丙烯酸樹脂而形成。在柱狀襯墊210的前端形成有凸部211和凹部212，在圖2中，臺座120與柱狀襯墊210的凹部212接觸，將TFT基板100和對向基板200保持規(guī)定的間隔。柱狀襯墊210的前端的凹部212和凸部211例如可通過半色調(diào)曝光形成。覆蓋外涂膜203及柱狀襯墊210形成有配向膜109。在TFT基板100和對向基板200之間充填有液晶300。圖3是表示臺座部的柱狀襯墊210和臺座120的關(guān)系的平面圖。如圖2所示，柱狀襯墊210的截面形成梯形，因此，將柱狀襯墊210的根部的寬度寬的一方稱為下底216，將前端的寬度窄的一方稱為上底215。柱狀襯墊210的前端不平坦，而形成有凸部211和凹部212。在圖3中，實施了斜線的部分為凸部211，其它為凹部212。圖3中，凹部212成為槽狀，槽在兩端部開放。即，不經(jīng)由凸部而與柱狀襯墊210的側(cè)面相連。S卩，凹部212的全周不由凸部211包圍。這一點與公知例大幅不同。因此，在涂布了液體狀態(tài)的配向膜109后，配向膜109不會貯留在柱狀襯墊210的前端的凹部212、即槽中，而是流落到配向膜109的側(cè)面。因此，不會在凹部212較厚地形成配向膜109。柱狀襯墊210的前端的凹部212在中央寬度寬，TFT基板100側(cè)的臺座120進(jìn)入該部分。臺座120的平面為正方形，但平面形狀不限于此，也可以是圓形，也可以是長方形，也可以是橢圓。該平面形狀根據(jù)臺座用基臺130的形狀而決定。在柱狀襯墊210的凹部212未較厚地形成配向膜109，因此，配向膜削減不會成為深刻的問題。而且，如圖2及圖3所示，臺座120由于被柱狀襯墊210的凸部211包圍，所以即使在從外部按壓對向基板200的情況下，柱狀襯墊210也不會容易地相對于臺座動作。從這一點考慮，能夠防止配向膜削減。另外，TFT基板100和對向基板200也不會產(chǎn)生錯位。圖2中，在按下了對向基板200的情況下，臺座120或柱狀襯墊210被壓縮。該情況下，如果柱狀襯墊210的凸部211與TFT基板100的對向面接觸，則在此產(chǎn)生反作用力，力被分散。因此，臺座120等不會被破壞。另外，由于反作用力逐漸增大，所以在解除相對于對向基板200的按壓后，可以在短時間內(nèi)恢復(fù)到原來的狀態(tài)。這樣的作用在圖2中通過將柱狀襯墊210的凸部211和TFT基板100的對向面的距離設(shè)為0.2 μ m以上而能夠有效地得到。圖4是本實施例的其它方式。圖4和圖2的不同在于，在圖4中，柱狀襯墊210的前端的凹部212的深度比圖2的情況大，且在通常的狀態(tài)下，柱狀襯墊210的凸部211與TFT基板100的對向面接觸，臺座120通常不與柱狀襯墊210的凹部212接觸。表示臺座部的柱狀襯墊210和臺座120的關(guān)系的平面圖與圖3相同。該構(gòu)成除柱狀襯墊210的凹部212的深度變大之外，通過降低臺座120的高度也能夠形成。即，臺座120的高度可通過形成于下方的臺座用基臺130的高度調(diào)整。通過將半導(dǎo)體層103、漏電極層104、像素電極層106的任一個從臺座用基臺130除去，能夠調(diào)整高度。圖4的情況下，在對對向基板200施加了力的情況下，首先，壓縮柱狀襯墊210的凸部211。在向?qū)ο蚧?00的力進(jìn)一步增大的情況下，臺座120和柱狀襯墊210的凹部212接觸。由此，反作用力增大。通過這樣的作用，避免柱狀襯墊210或臺座120被破壞，在從對向基板200除去了按壓的情況下，可以在短時間內(nèi)恢復(fù)為原來的狀態(tài)，這與圖2的構(gòu)成相同。圖4中，臺座120的前端和柱狀襯墊210的凹部212的距離優(yōu)選為0.2 μ rn以上。圖5是表示本實施例再其它方式的平面圖。如圖3所示，圖2及圖4的柱狀襯墊210是平面為圓形的圓錐臺，圖5中是平面為正方形的四邊錐臺。圖5中的柱狀襯墊210的前端為正方形，凸部211形成于正方形的角部。凹部212從中央部的臺座120進(jìn)入的部位朝向各邊部形成為槽狀，該槽朝向柱狀襯墊210的側(cè)壁開放。液體狀態(tài)的配向膜材料從形成于柱狀襯墊210的前端的槽部分流向柱狀襯墊210的側(cè)壁，因此，配向膜109不會較厚地形成于凹部212。因此，能夠防止臺座120和柱狀襯墊210的接觸引起的配向膜削減。另外，由于臺座120由柱狀襯墊210的凸部211包圍，所以也不會產(chǎn)生對向基板200和TFT基板100的錯位的問題。即使柱狀襯墊210及臺座120為圖5的平面形狀的情況下，柱狀襯墊210和臺座120的截面形狀也能夠采用與圖2或圖4相同的構(gòu)成。因此，在從外部按下了對向基板200的情況下，可以避免柱狀襯墊210或臺座120的破壞，且在相對于對向基板200解除了按壓的情況下，也能夠縮短恢復(fù)為原來狀態(tài)的時間。(實施例2)圖6 圖8是表示本發(fā)明第二實施例的柱狀襯墊210的形狀及配置圖。圖6及圖7是表示臺座120進(jìn)入到柱狀襯墊210的凹部212的狀態(tài)的平面圖。圖6表示在柱狀襯墊210的前端形成有端部沿縱方向、即y方向開放的槽狀的凹部212的狀態(tài)。另外，圖7表示在柱狀襯墊210的前端形成有端部沿橫方向、即X方向開放的槽狀的凹部212的狀態(tài)。由于圖6的柱狀襯墊210、圖7的柱狀襯墊210均是凹部212的端部開放，所以配向膜的液體流向外部，因此，配向膜109不會較厚地形成于凹部212。因此，能夠防止配向膜削減。圖6中，由于具有柱狀襯墊210的凸部211，所以臺座120不能在橫方向、即x方向動作。S卩，能夠防止對向基板200和TFT基板100的橫方向的錯位。圖7中，由于具有柱狀襯墊210的凸部211，所以臺座120不能在縱方向、即y方向動作。即，能夠防止對向基板200和TFT基板100的縱方向的錯位。因此，通過將圖6的柱狀襯墊210和圖7的柱狀襯墊210組合，能夠在X方向、y方向均抑制TFT基板100和對向基板200的錯位。圖8是通過將圖6所示的柱狀襯墊210和圖7所示的柱狀襯墊210組合而得到這樣的效果的例子。圖8中，白圈是圖6所示的柱狀襯墊210，實施了斜線的圈是圖7所示的柱狀襯墊210。圖8中，通過將圖6所示的柱狀襯墊210和圖7所示的柱狀襯墊210交互配置，能夠防止TFT基板100和對向基板200在相對于X方向、y方向任意方向的錯位。但是，在用手指按壓液晶顯示面板的對向基板200的情況下，在顯示區(qū)域400的所有區(qū)域并不是施加相同的應(yīng)力。例如，在按下了圖9 (c)所示的顯示區(qū)域400的中央的情況下，顯示區(qū)域400的長邊附近的區(qū)域A被施加向y方向的應(yīng)力，短邊附近的區(qū)域B被施加向X方向的應(yīng)力。為防止該應(yīng)力引起的錯位，例如在圖9 (c)的A區(qū)域，通過更多的使用圖9 (a)所示的在X方向形成有柱狀襯墊210的前端的槽的柱狀襯墊210，能夠防止向y方向的錯位。另外，在圖9 (c)的B區(qū)域，通過使用更多的沿y方向形成有柱狀襯墊210的前端的槽的柱狀襯墊210，能夠防止向X方向的錯位。圖10及圖11是表示本實施例其它方式的柱狀襯墊210和臺座120的組合的平面圖。圖10中，在柱狀襯墊210的前端，在極坐標(biāo)中以120度間隔形成有三個凸部211。而且，形成有三處端部開放了的凹部212。臺座120進(jìn)入由三個凸部211區(qū)劃的區(qū)域的凹部212。與圖10相比，圖11為形成于柱狀襯墊210的前端的三個凸部211被配置在旋轉(zhuǎn)了 60度的位置。其它形狀與圖10相同。通過將圖10所示的柱狀襯墊210和圖11所示的柱狀襯墊210組合使用，能夠?qū)崿F(xiàn)在圖9 (c)所示的顯示區(qū)域400的X方向、y方向的任意方向均抑制了錯位的構(gòu)成。圖10及圖11的關(guān)系處于柱狀襯墊210的前端的凸部211旋轉(zhuǎn)了 60度的關(guān)系。該情況下，在將形成于柱狀襯墊210的前端的凸部211的數(shù)量設(shè)為3的情況下，凸部211的旋轉(zhuǎn)角度可以以360 / (3X2)進(jìn)行計算。此外，柱狀襯墊210前端的凸部211的數(shù)量也可以設(shè)為4個以上的η個，但該情況下兩種類的柱狀襯墊210的凸部211的位置為僅旋轉(zhuǎn)了360 / (ηΧ2)的關(guān)系，通過將這兩種柱狀襯墊210組合配置，能夠?qū)崿F(xiàn)對向基板200和TFT基板100的錯位小的液晶顯不面板。(實施例3)圖12是表示實施例3的柱狀襯墊210和臺座120的關(guān)系的剖面圖。圖13是從TFT基板100側(cè)觀察到的柱狀襯墊210和臺座120的組合的平面圖。如圖12及圖13所示，在柱狀襯墊210的前端形成有一個凸部211和一個凹部212。凹部212除凸部211側(cè)以外均向外部開放，因此，不會產(chǎn)生配向膜材料的貯液。即，不會在凹部212較厚地形成配向膜109。圖12中，在柱狀襯墊210的前端形成有凸部211和凹部212。凸部211與TFT基板100側(cè)接觸，但形成于TFT基板100側(cè)的臺座120不與柱狀襯墊210前端的凹部212接觸。在對液晶顯示面板的對向基板200施加了外力的情況下，TFT基板100側(cè)的臺座120和柱狀襯墊210的凹部212接觸。產(chǎn)生更大的反作用力。因此，可以逐漸增大相對于按壓的應(yīng)力，在解除了壓力的情況下，也能夠縮短恢復(fù)為原來的狀態(tài)的時間。圖14與圖12相反，形成于TFT基板100的臺座120與柱狀襯墊210的四部212接觸，但柱狀襯墊210的凸部211不與TFT基板100側(cè)接觸。在對液晶顯示面板的對向基板200施加了外力的情況下，柱狀襯墊210的凸部211和TFT基板100接觸，產(chǎn)生更大的反作用力。效果與圖12的情況相同。此外，圖14的從TFT基板100側(cè)的平面圖與圖13相同。在圖12或圖14中，臺座120僅在一方向約束柱狀襯墊210的動作。即，在柱狀襯墊210的前端，除形成有凸部211的方向以外并不約束動作。本實施例中，通過將圖12或圖14的柱狀襯墊210改變方向而配置，作為液晶顯示面板整體能夠防止TFT基板100和對向基板200的錯位。圖15是本實施例的柱狀襯墊210的配置例。在圖15中的柱狀襯墊210的平面圖中，A是凸部211形成于左側(cè)的例，B是凸部211形成于右側(cè)的例，C是凸部211形成于上側(cè)的例，D是凸部211形成于下側(cè)的例。圖15中，配置有15個由掃描線101和圖像信號線111區(qū)劃的像素。臺座120形成于掃描線101上，柱狀襯墊210也配置于掃描線101上。如圖15所示，在上面第一個掃描線101上，在柱狀襯墊210的前端交互配置有左側(cè)形成有凸部211的A和右側(cè)形成有凸部211的B。另外，在從上面數(shù)第二個掃描線101上，在柱狀襯墊210的前端配置有上側(cè)形成有凸部211的C。在從上面數(shù)第三個掃描線101上，交互配置有左側(cè)形成有凸部211的A和右側(cè)形成有凸部211的B，但上面第一個掃描線101的配置中，使A和B的關(guān)系相對于像素列各錯開一列進(jìn)行配置。在下面第一個掃描線101上，在柱狀襯墊210的前端配置有下側(cè)形成有凸部211的D。這樣，在本實施例中，在顯示區(qū)域400整體，抑制TFT基板100和對向基板200的錯位。另外，圖15所示的柱狀襯墊A、B、C、D的配置是一例，如圖9中作為例子所示，根據(jù)情況也可以使柱狀襯墊A、B、C、D的數(shù)量的平衡變化。另外，在圖15的柱狀襯墊210的平面圖中，凸部211和凹部212的邊界與圖像信號線111或掃描線101的延伸方向一致，但本實施例不限于此，凸部211和凹部212的邊界也可以與圖像信號線111或掃描線101具有規(guī)定的角度。在四種柱狀襯墊210中，使凸部211和凹部212的境界線的方向彼此錯開90度至為重要。(實施例4)圖16 圖18是表示本發(fā)明的實施例4的圖。實施例1 — 3中，在掃描線101上形成有臺座120。該臺座120通過在下方使用半導(dǎo)體層103、漏電極層104、像素電極層106等形成臺座用基臺130而形成。本實施例中，不另外形成這種臺座用基臺130，而將TFT的漏電極104及源電極105作為臺座用基臺130而利用。圖16是本實施例的像素的平面圖。圖16中，在掃描線101上形成有TFT，在TFT的部分配置有柱狀襯墊210。其它構(gòu)成與圖1中說明的相同。圖17是圖16的B— B剖面圖。圖17中，在TFT基板100上形成有掃描線101，且在掃描線101上形成有柵極絕緣膜102。在柵極絕緣膜102上形成有半導(dǎo)體層103，且在半導(dǎo)體層103上配置有漏電極104及源電極105。該漏電極104及源電極105兼用臺座用基臺130的功能。覆蓋漏電極104及源電極105形成有無機鈍化膜107，且在其上形成有配向膜109。對向基板200側(cè)的構(gòu)成與圖2中說明的相同。在形成于對向基板200的外涂膜203上的柱狀襯墊210的前端形成有凸部211和凹部212。圖17中，柱狀襯墊210的前端的凸部211與TFT基板100側(cè)接觸。柱狀襯墊210的凹部212不與形成于TFT基板100的臺座120接觸。而且，在對液晶顯示面板的對向基板200施加了按壓的情況下，柱狀襯墊210前端的凸部211被壓縮，柱狀襯墊210的凹部212與臺座120接觸。圖18是表示作為臺座用基臺130而使用的漏電極104和源電極105、柱狀襯墊210的凸部211及凹部212的關(guān)系的平面圖。圖18中，形成于半導(dǎo)體層103上的漏電極104及源電極105與柱狀襯墊210的凹部212對應(yīng)而配置。漏電極104及源電極105被形成于柱狀襯墊210的前端的凸部211約束。其結(jié)果能夠防止液晶顯示面板的TFT基板100和對向基板200的錯位。圖18中，柱狀襯墊210前端的凹部212由于端部開放，因此，作為液體的配向膜材料不會貯留于凹部。因此，由于不會在凹部較厚地形成配向膜109，所以能夠抑制配向膜削減引起的亮點產(chǎn)生。這樣，本實施例可以在TFT基板100側(cè)使用與目前相同的構(gòu)成，因此，具有可使用與目前相同的掩模形成的優(yōu)點。另外，在圖17中，漏電極104及源電極105的臺座120前端和柱狀襯墊210的凹部212通常為不接觸的構(gòu)成，但也可以為如下構(gòu)成，即，通過減小柱狀襯墊210的凸部211的高度，與圖2所示的相同，使臺座120和柱狀襯墊210的凹部212總是接觸，在對對向基板200施加了按壓的情況下，柱狀襯墊210的凸部211和TFT基板100接觸。(實施例5)圖19是表示本發(fā)明第五實施例的平面圖。圖19 (a)與圖17相同。圖19 (b)中，在柱狀襯墊210上未形成凸部211。圖19 (b)中，柱狀襯墊210在通常的狀態(tài)、即未對對向基板200施加按壓的狀態(tài)下，不與通過漏電極104及源電極105形成的臺座120接觸。本實施例中，通過將圖19 (a)和圖19 (b)的柱狀襯墊210合并使用，進(jìn)行特別是對液晶顯示面板的對向基板200施加了按壓的情況下的應(yīng)力的分散，另外，在解除了按壓的情況下縮短恢復(fù)到原來的狀態(tài)的時間。即，在對液晶顯示面板的對向基板200施加按壓時，首先，圖19 (b)所示的柱狀襯墊210與臺座120接觸，當(dāng)進(jìn)一步施加按壓時，圖19 (a)所示的柱狀襯墊210的凹部212與臺座120接觸。根據(jù)柱狀襯墊210和臺座120的間隔，有時接觸的順序也會相反。(實施例6)本發(fā)明需要在柱狀襯墊210的前端形成凸部211和凹部212。因此，本發(fā)明的柱狀襯墊210處于直徑增大的趨勢。臺座120及柱狀襯墊210大多形成在與掃描線101相對應(yīng)的部分。掃描線101雖然寬度較寬地形成，但如本發(fā)明的柱狀襯墊210，當(dāng)直徑大時，如圖20所示那樣有時從掃描線101伸出而形成。圖20中，在掃描線101上配置有柱狀襯墊210，但由于柱狀襯墊210的直徑大，所以柱狀襯墊210從掃描線101伸出形成。圖20的其它構(gòu)成與圖1相同。形成有柱狀襯墊210的部分在使用了研磨配向的情況下，液晶的配向變得異常，產(chǎn)生疇(domain)。圖22是表示在對對向基板200通過研磨而賦予了初期配向的情況下，在柱狀襯墊210的周邊產(chǎn)生未研磨的部分，在該部分產(chǎn)生漏光610的狀態(tài)的平面圖。圖22中，箭頭表示研磨方向600。圖22中，由于柱狀襯墊210具有高度，所以柱狀襯墊210的周邊如圖22的斜線所示，產(chǎn)生未研磨的部分。該部分產(chǎn)生漏光610，使對比度降低。因此，需要利用形成于對向基板200的黑矩陣201等將所對應(yīng)的部分遮光。于是，液晶顯示面板的透視率降低。本實施例中，通過將本發(fā)明與光配向組合，柱狀襯墊210的側(cè)面也作為顯示區(qū)域而利用，由此，即使柱狀襯墊210的直徑增大，也不能降低透視率。光配向通過對配向膜109照射偏振紫外線而產(chǎn)生單軸各向異性，進(jìn)行液晶的初期配向。因此，在光配向中，如果照射偏振紫外線，則可以得到配向性能，因此，不會產(chǎn)生研磨帶來的配向的研磨影610。圖21是圖20的C 一 C剖面圖。圖21中，TFT基板100側(cè)的構(gòu)成與圖2或圖4相同。在對向基板200側(cè)形成有黑矩陣201和濾色器202，覆蓋它們形成有外涂膜203。在外涂膜203上形成有柱狀襯墊210。柱狀襯墊210的直徑比掃描線101的寬度大。在通過研磨進(jìn)行配向的情況下，產(chǎn)生研磨影，因此，可以將黑矩陣201的寬度形成為比柱狀襯墊210的直徑大，防止對比度的降低。但是，在本發(fā)明中，如圖21所示，黑矩陣201的寬度比柱狀襯墊210的直徑小。該情況下的直徑是指截面為梯形的柱狀襯墊210的寬度寬的直徑、即下底216的直徑。S卩，如圖21中表示透射光的箭頭500所示，柱狀襯墊210的側(cè)面也作為顯示區(qū)域400而使用。在柱狀襯墊210的側(cè)面也形成配向膜109，且對該配向膜109照射偏振紫外線，由此，對液晶分子賦予配向能。柱狀襯墊210由于具有規(guī)定的高度，所以柱狀的襯墊210的側(cè)面處于配向膜109的厚度減小的趨勢。該情況下，也能夠形成為可光配向的膜厚直至柱狀襯墊210的2 / 3左右的高度。這樣，根據(jù)本實施例，在柱狀襯墊210的前端形成凸部211和凹部212，且柱狀襯墊210的直徑變大的構(gòu)成中，由于無需增大黑矩陣201的遮光區(qū)域，所以能夠抑制液晶顯示面板的透視率的降低。
權(quán)利要求
1.一種液晶顯示裝置，在掃描線沿第一方向延伸并在第二方向排列、圖像信號線沿第二方向延伸并在第一方向排列的TFT基板與具有黑矩陣和濾色器的對向基板之間夾持有液晶，其特征在于， 在所述對向基板上形成有柱狀襯墊， 在所述TFT基板的與所述柱狀襯墊相對應(yīng)的部分形成有臺座， 在所述柱狀襯塾的如端存在有凸部和凹部， 與所述凹部相對應(yīng)地形成有所述臺座， 所述凹部的端部開放，并與所述柱狀襯墊的側(cè)壁相連。
2.如權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置，其特征在于， 形成于所述柱狀襯墊的前端的凹部為槽狀，且兩端開放。
3.如權(quán)利要求2所述的液晶顯示裝置，其特征在于， 所述臺座與所述柱狀襯墊的凹部接觸，所述柱狀襯墊的凸部與所述TFT基板不接觸。
4.如權(quán)利要求2所述的液晶顯示裝置，其特征在于， 所述柱狀襯墊的所述凸部與所述TFT基板接觸，所述臺座和所述TFT基板的所述凹部不接觸。
5.如權(quán)利要求2所述的液 晶顯示裝置，其特征在于， 所述柱狀襯墊的平面為四邊形。
6.一種液晶顯示裝置，在掃描線沿第一方向延伸并在第二方向排列、圖像信號線沿第二方向延伸并在第一方向排列的TFT基板與具有黑矩陣和濾色器的對向基板之間夾持有液晶，顯示區(qū)域具有短邊和長邊，其特征在于， 在所述對向基板上形成有柱狀襯墊， 在所述TFT基板的與所述柱狀襯墊相對應(yīng)的部分形成有臺座， 在所述柱狀襯塾的如端存在有凸部和凹部， 與所述凹部相對應(yīng)地形成有所述臺座， 所述凹部為兩端開放的槽狀，并與所述柱狀襯墊的側(cè)壁相連， 第一柱狀襯墊的所述槽的方向為與所述顯示區(qū)域的所述長邊相同的方向，第二柱狀襯墊的所述槽的方向為與所述顯示區(qū)域的所述短邊相同的方向， 所述第一柱狀襯墊和所述第二柱狀襯墊混合使用。
7.如權(quán)利要求6所述的液晶顯示裝置，其特征在于， 所述第一柱狀襯墊和所述第二柱狀襯墊交互使用。
8.如權(quán)利要求6所述的液晶顯示裝置，其特征在于， 所述第一柱狀襯墊的數(shù)量在所述長邊附近比所述第二柱狀襯墊的數(shù)量多，所述第二柱狀襯墊的數(shù)量在所述短邊附近比所述第一柱狀襯墊的數(shù)量多。
9.一種液晶顯示裝置，在掃描線沿第一方向延伸并在第二方向排列、圖像信號線沿第二方向延伸并在第一方向排列的TFT基板與具有黑矩陣和濾色器的對向基板之間夾持有液晶，其特征在于， 在所述對向基板上形成有柱狀襯墊， 在所述TFT基板的與所述柱狀襯墊相對應(yīng)的部分形成有臺座， 在所述柱狀襯塾的如端存在有凸部和凹部，所述凸部在極坐標(biāo)中以360 / η的間隔配置有η個， 所述凸部與凸部之間為凹部，與所述凹部相對應(yīng)地形成有所述臺座， 所述凹部的端部開放，并與所述柱狀襯墊的側(cè)壁相連， 第一柱狀襯墊的所述凸部和第二柱狀襯墊的所述凸部的位置在極坐標(biāo)中以360 / 2η錯開的間隔配置， 所述第一柱狀襯墊和所述第二柱狀襯墊混合使用。
10.如權(quán)利要求9所述的液晶顯示裝置，其特征在于， 所述η為3。
11.一種液晶顯示裝置，在掃描線沿第一方向延伸并在第二方向排列、圖像信號線沿第二方向延伸并在第一方向排列的TFT基板與具有黑矩陣和濾色器的對向基板之間夾持有液晶，顯示區(qū)域具有短邊和長邊，其特征在于， 在所述對向基板上形成有柱狀襯墊， 在所述TFT基板的與所述柱狀襯墊相對應(yīng)的部分形成有臺座， 在所述柱狀襯塾的如端存在有凸部，在所述如端的另一側(cè)存在有凹部， 所述凹部在與所述凸部的邊界部分以外其端部開放，并與所述柱狀襯墊的側(cè)壁相連， 與所述凹部相對存在有所述臺座， 第一柱狀襯墊的所述凸部的邊界在第一方向形成，第二柱狀襯墊的所述凸部的邊界在第二方向形成，第三柱狀襯墊的所述凸部的邊界在第三方向形成，第四柱狀襯墊的所述凸部的邊界在第四方向形成， 所述第一方向、所述第二方向、所述第三方向及所述第四方向相互錯開大致90度，所述第一柱狀襯墊、所述第二柱狀襯墊、所述第三柱狀襯墊及所述第四柱狀襯墊混合使用。
12.一種液晶顯示裝置，在掃描線沿第一方向延伸并在第二方向排列、圖像信號線沿第二方向延伸并在第一方向排列的TFT基板與具有黑矩陣和濾色器的對向基板之間夾持有液晶，在所述TFT基板上矩陣狀地形成有像素電極和TFT，其特征在于， 在所述對向基板上形成有柱狀襯墊， 在所述TFT基板的與所述柱狀襯墊相對應(yīng)的部分形成有臺座， 所述臺座作為基臺形成有所述TFT的漏電極及源電極， 在所述柱狀襯塾的如端存在有凸部和凹部， 與所述凹部對應(yīng)地形成有所述臺座， 所述凹部的端部開放，并與所述柱狀襯墊的側(cè)壁相連。
13.一種液晶顯示裝置，在掃描線沿第一方向延伸并在第二方向排列、圖像信號線沿第二方向延伸并在第一方向排列的TFT基板與具有黑矩陣和濾色器的對向基板之間夾持有液晶，在所述TFT基板上矩陣狀地形成有像素電極和TFT，其特征在于， 在所述對向基板上形成有柱狀襯墊， 在所述TFT基板的與所述柱狀襯墊相對應(yīng)的部分形成有臺座， 所述臺座作為基臺形成有所述TFT的漏電極及源電極， 在第一柱狀襯墊的前端存在有凸部和凹部， 與所述凹部對應(yīng)地形成有所述臺座，所述凹部的端部開放，并與所述柱狀襯墊的側(cè)壁相連， 第二柱狀襯墊的前端為平坦，與所述第二柱狀襯墊相對形成有所述臺座，所述第二柱狀襯墊和所述臺座在通常狀態(tài)下不接觸。
14.一種液晶顯示裝置，在掃描線沿第一方向延伸并在第二方向排列、圖像信號線沿第二方向延伸并在第一方向排列的TFT基板與具有黑矩陣和濾色器的對向基板之間夾持有液晶，其特征在于， 在所述對向基板上形成有柱狀襯墊， 在所述TFT基板的與所述柱狀襯墊相對應(yīng)的部分形成有臺座， 在所述柱狀襯塾的如端存在有凸部和凹部， 與所述凹部對應(yīng)地形成有所述臺座， 所述凹部的端部開放，并與所述柱狀襯墊的側(cè)壁相連， 所述柱狀襯墊的截面為大致梯形，所述斷面的寬度寬的一方的直徑比與所述柱狀襯墊相對應(yīng)地形成的黑矩陣的寬度大。
15.如權(quán)利要求14所述的液晶顯示裝置，其特征在于， 所述柱狀襯墊的側(cè)壁作為顯示區(qū)域而使用。
16.如權(quán)利要求14或15所述的液晶顯示裝置，其特征在于， 所述TFT基板及所述對向基板上形成的液晶配向膜為光配向膜。
全文摘要
本發(fā)明提供一種液晶顯示裝置，抑制配向膜削減，抑制TFT基板和對向基板的錯位，在按壓了對向基板的情況下縮短恢復(fù)的時間。在對向基板上形成有柱狀襯墊，在TFT基板上形成有臺座。在柱狀襯墊的前端存在有凸部和凹部，與柱狀襯墊的凹部對應(yīng)形成有臺座，凹部的端部開放，且與柱狀襯墊的側(cè)壁相連。因此，由于液體的配向膜材料貯留于凹部而配向膜不會較厚地形成，所以能夠防止配向膜削減。由于柱狀襯墊前端的凸部的存在，從而能夠防止TFT基板和對向基板的錯位，并且能夠縮短從對向基板除去按壓時的恢復(fù)時間。
文檔編號G02F1/1333GK103163691SQ201210543949
公開日2013年6月19日 申請日期2012年12月14日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月19日
發(fā)明者富岡安, 國松登, 兵頭洋佑, 金子壽輝, 松本優(yōu)子 申請人:株式會社日本顯示器東