一種半透半反式液晶面板的制備方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種半透半反式液晶面板的制備方法，包括：在所述第二基板上涂覆第二取向?qū)?；利用所述反射層作為掩膜版，從第二基板的下方?duì)所述第二取向?qū)舆M(jìn)行光取向；從第二基板的上方對(duì)所述第二取向?qū)舆M(jìn)行光取向。運(yùn)用該方法可在省略掩膜工藝的情況下生成多疇液晶取向方式的半透半反的液晶面板，工藝簡單，且降低生產(chǎn)成本。
【專利說明】一種半透半反式液晶面板的制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及液晶顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種半透半反式液晶面板的制備方法?！颈尘凹夹g(shù)】
[0002]由于液晶顯示器為非自發(fā)光的顯示器，因此液晶顯示面板必須搭配光源，如:背光源、前光源或外界光源，方可進(jìn)行影像的顯示。根據(jù)光源的利用方式不同，可將液晶顯示器分為:穿透式液晶顯示器、反射式液晶顯示器和半透半反式液晶顯示器三種。目前，由于半透半反式液晶顯示器能同時(shí)運(yùn)用外界光源和背光源所提供的光線，且有利于應(yīng)用在便攜式產(chǎn)品上，因此已經(jīng)逐漸受到關(guān)注。
[0003]圖1為現(xiàn)有技術(shù)中雙盒厚的半透半反式液晶面板的基本結(jié)構(gòu)示意圖，如圖1所示，半透半反式液晶面板具有上基板和下基板(圖1中未示出)，上、下個(gè)偏光片I分別位于上基板上表面和下基板的下表面；上下基板之間設(shè)有液晶層3。上下基板上設(shè)有多個(gè)像素，每個(gè)像素具有多個(gè)子像素，每個(gè)子像素中包括透射區(qū)8 (虛線右側(cè)區(qū)域)和反射區(qū)9 (虛線左側(cè)區(qū)域)，在反射區(qū)9對(duì)應(yīng)的下基板上，設(shè)置有反射層2，也就是Mirror或稱為反射電極，所述反射層2通常由金屬濺射而成，用來反射射入到反射區(qū)9的光。
[0004]圖2 為面內(nèi)開關(guān)(In-Plane Switching, IPS)、邊緣場(chǎng)開關(guān)(FringeFieldSwitching, FFS)和先進(jìn)的三維開關(guān)(Advanced Super Dimension Switch, ADS)模式液晶面板的基本原理結(jié)構(gòu)示意圖，如圖2所示，液晶分子具有偏振軸，包括長軸4和短軸5 ；在無電場(chǎng)的情況下，如圖2 Ca)所示，長軸4的方向和顯示方向是平行的，短軸5的方向和顯示方向是垂直的；而在加入電場(chǎng)后，如圖2 (b)所示，液晶分子會(huì)發(fā)生偏轉(zhuǎn)，因此，液晶的長軸4和顯示方向具有夾角Φ，經(jīng)過液晶分子的偏振光發(fā)生延遲，從而液晶面板的透過率T和sin220存在正比關(guān)系。
[0005]圖3為IPS、FFS和ADS模式液晶面板透射區(qū)和反射區(qū)采取相同液晶取向情況下的顯示方式示意圖，如圖3 (a)所示，在不加電壓的情況下，液晶分子不產(chǎn)生延遲，由于上、下偏光片的偏振方向垂直，所以在反射區(qū)9，光能夠全部射出，為常白模式；在透射區(qū)8，光不能射出，為常黑模式，這樣，在同一個(gè)子像素中，既有常白模式，也有常黑模式，液晶面板不能實(shí)現(xiàn)顯示；如圖3 (b)所示，在加電壓的情況下，液晶分子偏轉(zhuǎn)45°，因此，能夠?qū)崿F(xiàn)半透半反的顯示?？梢钥闯?，透射區(qū)8和反射區(qū)9采取相同液晶取向時(shí)，液晶面板會(huì)在不加電壓的情況下存在不能顯示的問題。
[0006]目前，IPS、FFS和ADS模式的半透半反式液晶面板的一種典型結(jié)構(gòu)就是采用多疇液晶取向的方式，在透射區(qū)和反射區(qū)采用不同的液晶取向。
[0007]圖4為IPS、FFS和ADS模式液晶面板透射區(qū)和反射區(qū)采取不同液晶取向情況下的顯示方式示意圖，如圖4 (a)所示，在不加電壓的情況下，在反射區(qū)9，液晶分子的預(yù)傾角Φ為45° ,光經(jīng)過反射后的偏振方向和上偏光片的偏振軸方向垂直,光不能出射,為常黑模式；在透射區(qū)8，光不能射出，同樣為常黑模式，這樣在同一個(gè)像素中，反射區(qū)和透射區(qū)的顯示效果相同。如圖4 (b)所示，在加電壓的情況下，液晶分子發(fā)生偏轉(zhuǎn)，在反射區(qū)9，液晶分子偏轉(zhuǎn)45°后，液晶分子不產(chǎn)生延遲，光能夠射出；在透射區(qū)，液晶分子產(chǎn)生延遲，光能夠射出，因此液晶面板可實(shí)現(xiàn)顯示。
[0008]為實(shí)現(xiàn)上述多疇液晶取向的結(jié)構(gòu)，現(xiàn)有通常采取配合掩膜版進(jìn)行選擇性的曝光方式。但現(xiàn)有的選擇曝光方法需要復(fù)雜的掩膜版，不僅工藝復(fù)雜，且掩膜版的生產(chǎn)成本很高。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0009]有鑒于此，本發(fā)明的主要目的在于提供一種半透半反式液晶面板的制備方法，能在省略掩膜工藝的情況下生成多疇液晶取向方式的半透半反式液晶面板。
[0010]為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的技術(shù)方案是這樣實(shí)現(xiàn)的:
[0011]一種半透半反式液晶面板的制備方法，所述液晶面板包括:第一基板、第二基板以及位于第一基板和第二基板之間的由多個(gè)液晶分子組成的液晶層；所述第一基板和所述第二基板上設(shè)置有多個(gè)像素，每個(gè)像素包括至少一個(gè)子像素，每個(gè)子像素包括反射區(qū)和透射區(qū)，所述第二基板對(duì)應(yīng)于反射區(qū)的區(qū)域上設(shè)置有反射層；其特征在于，所述制備方法包括:
[0012]在所述第二基板上涂覆第二取向?qū)樱?br> [0013]利用所述反射層作為掩膜版，從第二基板的下方對(duì)所述第二取向?qū)舆M(jìn)行光取向；
[0014]從第二基板的上方對(duì)所述第二取向?qū)舆M(jìn)行光取向。
[0015]其中，所述從第二基板的下方對(duì)所述第二取向?qū)舆M(jìn)行光取向，為:
[0016]對(duì)所述第二取向?qū)訉?duì)應(yīng)透射區(qū)的區(qū)域進(jìn)行光取向。
[0017]其中，所述從第二基板的上方對(duì)所述第二取向?qū)舆M(jìn)行光取向，為:
[0018]對(duì)所述第一取向?qū)雍退龅诙∠驅(qū)訉?duì)應(yīng)反射區(qū)的區(qū)域進(jìn)行光取向。
[0019]其中，還包括:在所述第一基板上涂覆第一取向?qū)?；?duì)所述第一取向?qū)舆M(jìn)行光取向。
[0020]上述方案中，所述第一取向?qū)訉?duì)應(yīng)于反射區(qū)的區(qū)域與所述第二取向?qū)訉?duì)應(yīng)于反射區(qū)的區(qū)域的取向不同。
[0021]上述方案中，所述第一取向?qū)訉?duì)應(yīng)于透射區(qū)的區(qū)域與所述第二取向?qū)訉?duì)應(yīng)于透射區(qū)的區(qū)域的取向相同。
[0022]上述方案中，所述第二取向?qū)訉?duì)應(yīng)于反射區(qū)的區(qū)域和所述第二取向?qū)訉?duì)應(yīng)于透射區(qū)的區(qū)域的取向不同。
[0023]本發(fā)明提供的半透半反式液晶面板的制備方法，在液晶面板的下基板上分別涂覆取向?qū)?；利用反射層作為掩膜版，從下基板的下方?duì)下基板上的取向?qū)舆M(jìn)行光取向；從下基板的上方對(duì)下基板上的取向?qū)舆M(jìn)行光取向。本發(fā)明不需要額外的掩膜版，借助原有的反射層即可進(jìn)行取向?qū)拥墓馊∠?，以?shí)現(xiàn)多疇液晶取向結(jié)構(gòu)，不僅實(shí)現(xiàn)工藝簡單，而且節(jié)約成本。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0024]圖1為現(xiàn)有技術(shù)中雙盒厚的半透半反式液晶面板的基本結(jié)構(gòu)示意圖；
[0025]圖2為IPS、FFS和ADS模式液晶面板的基本原理結(jié)構(gòu)示意圖；
[0026]圖3為IPS、FFS和ADS模式液晶面板透射區(qū)和反射區(qū)采取相同液晶取向情況下的顯示方式示意圖；[0027]圖4為IPS、FFS和ADS模式液晶面板透射區(qū)和反射區(qū)采取不同液晶取向情況下的顯示方式示意圖；
[0028]圖5為本發(fā)明半透半反式液晶面板的制備方法中第二取向?qū)拥膶?shí)現(xiàn)流程示意圖；
[0029]圖6為本發(fā)明單盒厚的半透半反式液晶面板中從第二基板的下方對(duì)第二取向?qū)舆M(jìn)行光取向的工藝示意圖；
[0030]圖7為本發(fā)明單盒厚的半透半反式液晶面板中從第二基板的上方對(duì)第二取向?qū)舆M(jìn)行光取向的工藝示意圖。
[0031]附圖標(biāo)記說明:
[0032]1、偏光片；2、反射層；3、液晶層；4、長軸；5、短軸；6、第二基板；7、第二取向?qū)樱?、
透射區(qū)；9、反射區(qū)；10、絕緣層。
【具體實(shí)施方式】
[0033]本發(fā)明的基本思想是:在液晶面板的上下基板上分別涂覆取向?qū)?；上基板正常光取向；利用反射層作為掩膜版，從下基板的下方?duì)下基板上的取向?qū)舆M(jìn)行光取向；從下基板的上方對(duì)下基板上的取向?qū)舆M(jìn)行光取向。
[0034]這里，可將上基板稱為第一基板，將下基板稱為第二基板；相應(yīng)的，所述第一基板上涂覆的取向?qū)臃Q為第一取向?qū)?，所述第二基板上涂覆的取向?qū)臃Q為第二取向?qū)印?br> [0035]下面結(jié)合附圖及具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說明。
[0036]為了便于理解，首先再結(jié)合圖1對(duì)半透半反式液晶面板的結(jié)構(gòu)進(jìn)行簡單描述。
[0037]本發(fā)明中，所述半透半反式液晶面板的結(jié)構(gòu)與現(xiàn)有技術(shù)相同，包括:第一基板(圖1中未示出)、第二基板(圖1中未示出)、以及位于第一基板和第二基板之間的由多個(gè)液晶分子組成的液晶層3，所述第一基板和所述第二基板上設(shè)置有多個(gè)像素，每個(gè)像素包括至少一個(gè)子像素，每個(gè)子像素包括反射區(qū)和透射區(qū)，所述第二基板對(duì)應(yīng)于反射區(qū)的區(qū)域上設(shè)置有反射層；所述第一基板上設(shè)置有第一取向?qū)?，所述第二基板上設(shè)置有第二取向?qū)印?br> [0038]其中，為了實(shí)現(xiàn)多疇取向，所述第一取向?qū)訉?duì)應(yīng)于反射區(qū)的區(qū)域與所述第二取向?qū)訉?duì)應(yīng)于反射區(qū)的區(qū)域的取向不同，所述第一取向?qū)訉?duì)應(yīng)于透射區(qū)的區(qū)域與所述第二取向?qū)訉?duì)應(yīng)于透射區(qū)的區(qū)域的取向相同，所述第二取向?qū)訉?duì)應(yīng)于反射區(qū)的區(qū)域和所述第二取向?qū)訉?duì)應(yīng)于透射區(qū)的區(qū)域的取向不同。
[0039]圖5為本發(fā)明半透半反式液晶面板的制備方法中的第二取向?qū)訉?shí)現(xiàn)流程示意圖，如圖5所示，包括如下步驟:
[0040]步驟501:在液晶面板的第二基板上分別涂覆取向?qū)樱?br> [0041]具體為:在液晶面板的在第二基板上涂覆取向液，形成第二取向?qū)印?br> [0042]步驟502:利用反射層作為掩膜版，從第二基板的下方對(duì)第二取向?qū)舆M(jìn)行光取向；
[0043]圖6為本發(fā)明單盒厚的半透半反式液晶面板中從第二基板的下方對(duì)第二取向?qū)舆M(jìn)行光取向的工藝示意圖。如圖6所示，第二基板6的上方設(shè)置有絕緣層10，在絕緣層10對(duì)應(yīng)于反射區(qū)的區(qū)域的部分內(nèi)設(shè)置反射層2，即使得液晶面板具有單盒厚結(jié)構(gòu)。利用反射層2作為掩膜版，從第二基板6的下方對(duì)所述第二取向?qū)?進(jìn)行光取向。由于反射層2的遮擋，反射區(qū)9對(duì)應(yīng)區(qū)域的第二取向?qū)?沒有進(jìn)行光取向，只有透射區(qū)8對(duì)應(yīng)區(qū)域的第二取向?qū)?具有了光取向。[0044]這樣，該步驟即為:利用所述反射層作為掩膜版，從第二基板的下方對(duì)第二取向?qū)訉?duì)應(yīng)透射區(qū)的區(qū)域進(jìn)行光取向。
[0045]步驟503:從第二基板的上方對(duì)第二取向?qū)舆M(jìn)行光取向；
[0046]圖7為本發(fā)明單盒厚的半透半反式液晶面板中從第二基板的上方對(duì)第二取向?qū)舆M(jìn)行光取向的工藝示意圖。如圖7所示，從第二基板6的上方對(duì)所述第二取向?qū)?進(jìn)行光取向。由于透射區(qū)8對(duì)應(yīng)區(qū)域的第二取向?qū)?已經(jīng)具有了光取向，其取向不會(huì)再由于受到光照而被改變。因此，只有反射區(qū)9對(duì)應(yīng)的的第二取向?qū)?被光取向。這樣，第二取向?qū)?的透射區(qū)和反射區(qū)對(duì)應(yīng)的區(qū)域就具有了不同的光取向。
[0047]這樣，該步驟即為:從第二基板的上方對(duì)所述第二取向?qū)訉?duì)應(yīng)反射區(qū)的區(qū)域進(jìn)行光取向。
[0048]其中，對(duì)第一基板的取向處理為:在第一基板上涂覆取向液形成第一取向?qū)樱粚?duì)第一取向?qū)舆M(jìn)行光取向。這樣處理后，使得所述第一取向?qū)訉?duì)應(yīng)于反射區(qū)的區(qū)域與所述第二取向?qū)訉?duì)應(yīng)于反射區(qū)的區(qū)域的取向不同，所述第一取向?qū)訉?duì)應(yīng)于透射區(qū)的區(qū)域與所述第二取向?qū)訉?duì)應(yīng)于透射區(qū)的區(qū)域的取向相同，所述第二取向?qū)訉?duì)應(yīng)于反射區(qū)的區(qū)域和所述第二取向?qū)訉?duì)應(yīng)于透射區(qū)的區(qū)域的取向不同。
[0049]具體地，在第一基板和第二基板取向完成后，對(duì)第一基板和第二基板進(jìn)行對(duì)盒處理，再封入液晶，然后再進(jìn)行切割、貼附光學(xué)膜和模組組裝，最終形成液晶面板。
[0050]另外，本發(fā)明也可以采用雙盒厚的半透半反式液晶面板結(jié)構(gòu)，在此不作限定。
[0051]以上實(shí)施方式僅用于說明本發(fā)明，而并非對(duì)本發(fā)明的限制，有關(guān)【技術(shù)領(lǐng)域】的普通技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的情況下，還可以做出各種變化和變型，因此所有等同的技術(shù)方案也屬于本發(fā)明的范疇，本發(fā)明的專利保護(hù)范圍應(yīng)由權(quán)利要求限定。
【權(quán)利要求】
1.一種半透半反式液晶面板的制備方法，所述液晶面板包括:第一基板、第二基板以及位于第一基板和第二基板之間的由多個(gè)液晶分子組成的液晶層；所述第一基板和所述第二基板上設(shè)置有多個(gè)像素，每個(gè)像素包括至少一個(gè)子像素，每個(gè)子像素包括反射區(qū)和透射區(qū)，所述第二基板對(duì)應(yīng)于反射區(qū)的區(qū)域上設(shè)置有反射層；其特征在于，所述制備方法包括: 在所述第二基板上涂覆第二取向?qū)樱? 利用所述反射層作為掩膜版，從第二基板的下方對(duì)所述第二取向?qū)舆M(jìn)行光取向； 從第二基板的上方對(duì)所述第二取向?qū)舆M(jìn)行光取向。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述從第二基板的下方對(duì)所述第二取向?qū)舆M(jìn)行光取向，為: 對(duì)所述第二取向?qū)訉?duì)應(yīng)透射區(qū)的區(qū)域進(jìn)行光取向。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述從第二基板的上方對(duì)所述第二取向?qū)舆M(jìn)行光取向，為: 對(duì)所述第一取向?qū)雍退龅诙∠驅(qū)訉?duì)應(yīng)反射區(qū)的區(qū)域進(jìn)行光取向。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，還包括: 在所述第一基板上涂覆第一取向?qū)樱粚?duì)所述第一取向?qū)舆M(jìn)行光取向。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的制備方法，其特征在于，所述第一取向?qū)訉?duì)應(yīng)于反射區(qū)的區(qū)域與所述第二取向?qū)訉?duì)應(yīng)于反射區(qū)的區(qū)域的取向不同。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的制備方法，其特征在于，所述第一取向?qū)訉?duì)應(yīng)于透射區(qū)的區(qū)域與所述第二取向?qū)訉?duì)應(yīng)于透射區(qū)的區(qū)域的取向相同。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的制備方法，其特征在于，所述第二取向?qū)訉?duì)應(yīng)于反射區(qū)的區(qū)域和所述第二取向?qū)訉?duì)應(yīng)于透射區(qū)的區(qū)域的取向不同。
【文檔編號(hào)】G02F1/1337GK103869542SQ201210533379
【公開日】2014年6月18日 申請(qǐng)日期:2012年12月11日 優(yōu)先權(quán)日:2012年12月11日
【發(fā)明者】鈴木照晃 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司