專利名稱：一種修補(bǔ)液晶顯示陣列基板斷線的方法及裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā) 明涉及薄膜晶體管液晶顯示器(Thin Film Transistor Liquid CrystalDisplay, TFT-IXD)制造技術(shù)，特別涉及一種修補(bǔ)液晶顯示陣列基板斷線的方法及裝置。
背景技術(shù)：
在現(xiàn)有技術(shù)中，在TFT-LCD陣列基板(array)制程中常常會(huì)出現(xiàn)線路斷開缺陷(line open defect)的情形。此時(shí)需要對(duì)斷開的線路進(jìn)行補(bǔ)線，以重新連通所述線路。如圖I所示，是現(xiàn)有的一種陣列基板上的圖案線路出現(xiàn)斷線情形的示意圖；圖I只示出了局部的陣列基板。其中，在基板I進(jìn)行鍍膜，形成第一圖案2和第二圖案3。其中第二圖案在40和41處斷開，從而將圖案3斷開成三部份(30、31、32)。如圖2所示，示出了現(xiàn)有的一種補(bǔ)線結(jié)構(gòu)的示意圖。從中可以看出，可以重新鍍膜一條補(bǔ)線路徑4，其一端與圖案3的30區(qū)域相連通，另一端與圖案3的32區(qū)域相連通，從而將圖案3重新連通。如圖3所示，是根據(jù)圖2的A-A向剖面的補(bǔ)線后的結(jié)構(gòu)示意圖；從圖2的A-A向剖面可以看出，補(bǔ)線裝置5 (圖中僅示出了一部份)沿著圖2中的補(bǔ)線路徑從左向右均速移動(dòng)進(jìn)行鍍膜，在橫跨圖案2的位置處，由于圖案2與基板I存在較大的高度變化，容易在補(bǔ)線路徑4出現(xiàn)斷裂、不連續(xù)的情形，從而使補(bǔ)線失敗，從而導(dǎo)致基板的良率不夠理想。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題在于，提供一種修補(bǔ)液晶顯示陣列基板斷線的方法及裝置，可以提高修補(bǔ)液晶顯示陣列基板斷線時(shí)的成功率。為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明實(shí)施例的一方面提供了一種修補(bǔ)液晶顯示陣列基板斷線的方法，包括如下步驟
在發(fā)現(xiàn)液晶顯示陣列基板上的圖案出現(xiàn)斷線時(shí)，確定所述圖案的斷線處的補(bǔ)線路徑，并掃描所述補(bǔ)線路徑；
根據(jù)所述補(bǔ)線路徑的掃描結(jié)果，將所述補(bǔ)線路徑分成至少兩段路徑區(qū)間，并為所述每一段路路徑區(qū)間設(shè)置對(duì)應(yīng)的鍍膜速度；
在每段路徑區(qū)間上，以所確定的對(duì)應(yīng)的鍍膜速度進(jìn)行鍍膜，使所述補(bǔ)線路徑上形成連通的鍍膜。其中，所述掃描所述補(bǔ)線路徑的步驟為
通過白光干涉或激光掃描的方式對(duì)所述補(bǔ)線路徑進(jìn)行掃描，獲得所述補(bǔ)線路徑上每點(diǎn)的高度數(shù)據(jù)。其中，根據(jù)所述補(bǔ)線路徑的掃描結(jié)果，將所述補(bǔ)線路徑分成至少兩段路徑區(qū)間，并為所述每一段路路徑區(qū)間設(shè)置對(duì)應(yīng)的鍍膜速度的步驟具體為
將所述補(bǔ)線路徑分成至少兩段路徑區(qū)間；
根據(jù)每一路徑區(qū)間中各點(diǎn)的高度數(shù)據(jù)的變化大小，為所述路徑區(qū)間設(shè)置對(duì)應(yīng)的鍍膜速度，其中，為所述高度數(shù)據(jù)變化大的路徑區(qū)間設(shè)置更慢的鍍膜速度。其中，根據(jù)所述補(bǔ)線路徑的掃描結(jié)果，將所述補(bǔ)線路徑分成至少兩段路徑區(qū)間，并為所述每一段路路徑區(qū)間設(shè)置對(duì)應(yīng)的鍍膜速度的步驟具體為
根據(jù)所述補(bǔ)線路徑的掃描結(jié)果，確認(rèn)所述補(bǔ)線路徑上經(jīng)過的所述陣列基板已經(jīng)鍍好的圖案線條邊緣的區(qū)間；
將所述補(bǔ)線路徑上的經(jīng)過圖案線條邊緣的區(qū)間與未經(jīng)過圖案線條邊緣的區(qū)間分別設(shè)置成不同的路徑區(qū)間；
為所述經(jīng)過圖案線條邊緣的路徑區(qū)間設(shè)置更慢的鍍膜速度，為其他未經(jīng)過圖案線條邊緣的路徑區(qū)間設(shè)置較快的鍍膜速度。其中，所述補(bǔ)線路徑上所形成連通的鍍膜將所述出現(xiàn)斷線的圖案的斷線處重新連通，而與其經(jīng)過的其他未出現(xiàn)斷線的圖案之間絕緣。相應(yīng)地，本發(fā)明實(shí)施例的另一方面提供一種修補(bǔ)液晶顯示陣列基板斷線的裝置，包括
檢測(cè)模塊，用于檢測(cè)液晶顯示陣列基板上的圖案是否出現(xiàn)斷線；
掃描模塊，用于在所述檢測(cè)裝置檢測(cè)至液晶顯示陣列基板上的圖案出現(xiàn)斷線時(shí)，確定并掃描為所述圖案的斷線處的補(bǔ)線路徑；
設(shè)置模塊，根據(jù)所述掃描模塊的掃描結(jié)果，將所述補(bǔ)線路徑分成至少兩段路徑區(qū)間，并為所述每一段路路徑區(qū)間設(shè)置對(duì)應(yīng)的鍍膜速度；
鍍膜裝置，在所述設(shè)置模塊所設(shè)置的每段路徑區(qū)間上，以所確定的對(duì)應(yīng)的鍍膜速度進(jìn)行鍍膜，使所述補(bǔ)線路徑上形成連通的鍍膜。其中，所述掃描模塊是通過白光干涉或激光掃描的方式對(duì)所述補(bǔ)線路徑進(jìn)行掃描，獲得所述補(bǔ)線路徑上每點(diǎn)的高度數(shù)據(jù)。其中，所述設(shè)置模塊是根據(jù)每一路徑區(qū)間中各點(diǎn)的高度數(shù)據(jù)的變化大小，為所述路徑區(qū)間設(shè)置對(duì)應(yīng)的鍍膜速度，其中，為所述高度數(shù)據(jù)變化大的路徑區(qū)間設(shè)置更慢的鍍膜速度。其中，所述設(shè)置模塊是根據(jù)所述掃描模塊的結(jié)果，將所述補(bǔ)線路徑上的經(jīng)過圖案線條邊緣的區(qū)間與未經(jīng)過圖案線條邊緣的區(qū)間分別設(shè)置成不同的路徑區(qū)間；并為所述經(jīng)過圖案線條邊緣的路徑區(qū)間設(shè)置更慢的鍍膜速度，為其他未經(jīng)過圖案線條邊緣的路徑區(qū)間設(shè)置較快的鍍膜速度。實(shí)施本發(fā)明實(shí)施例，具有如下有益效果
根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，通過將補(bǔ)線路徑分成多個(gè)路徑區(qū)間，且為每個(gè)路徑區(qū)間設(shè)置相應(yīng)的鍍膜速度，可以通過在不同路徑區(qū)間采用不同的鍍膜速度進(jìn)行鍍膜，例如，所述經(jīng)過圖案線條邊緣的路徑區(qū)間設(shè)置更慢的鍍膜速度，以增加此路徑區(qū)間的鍍膜厚度，可以使所述補(bǔ)線路徑上形成連通的鍍膜，從而提高補(bǔ)線的成功率。


為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖I為根據(jù)，是現(xiàn)有的一種陣列基板上的圖案線路出現(xiàn)斷線情形的示意 圖2示出了現(xiàn)有的一種對(duì)圖I進(jìn)行補(bǔ)線的結(jié)構(gòu)的示意 圖3示出根據(jù)圖2的A-A向剖面的補(bǔ)線后的結(jié)構(gòu)示意 圖4示出了本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例中修補(bǔ)液晶顯示陣列基板斷線的結(jié)構(gòu)示意 圖5示出了本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例中對(duì)圖4中的補(bǔ)線路徑進(jìn)行掃描獲得的高度曲線 圖6示出了根據(jù)圖4的B-B向剖面的補(bǔ)線后的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施例方式下面參考附圖對(duì)本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例進(jìn)行描述。本發(fā)明的一方面，提供了一種修補(bǔ)液晶顯示陣列基板斷線的方法，其包括如下步驟
在發(fā)現(xiàn)液晶顯示陣列基板上的圖案出現(xiàn)斷線時(shí)，確定所述圖案的斷線處的補(bǔ)線路徑， 并掃描所述補(bǔ)線路徑，具體地，可以通過白光干涉或激光掃描的方式對(duì)所述補(bǔ)線路徑進(jìn)行掃描，獲得所述補(bǔ)線路徑上每點(diǎn)的高度數(shù)據(jù)；
根據(jù)所述補(bǔ)線路徑的掃描結(jié)果，將所述補(bǔ)線路徑分成至少兩段路徑區(qū)間，并為所述每一段路路徑區(qū)間設(shè)置對(duì)應(yīng)的鍍膜速度；
在每段路徑區(qū)間上，以所確定的對(duì)應(yīng)的鍍膜速度進(jìn)行鍍膜，使所述補(bǔ)線路徑上形成連通的鍍膜。其中，在一個(gè)實(shí)施方案中，根據(jù)所述補(bǔ)線路徑的掃描結(jié)果，將所述補(bǔ)線路徑分成至少兩段路徑區(qū)間，為所述每一段路路徑區(qū)間設(shè)置對(duì)應(yīng)的鍍膜速度的步驟具體包括
為根據(jù)所述補(bǔ)線路徑的掃描結(jié)果，將所述補(bǔ)線路徑分成至少兩段路徑區(qū)間，并為所述每一段路路徑區(qū)間設(shè)置對(duì)應(yīng)的鍍膜速度的步驟具體為
將所述補(bǔ)線路徑分成至少兩段路徑區(qū)間；
根據(jù)每一路徑區(qū)間中各點(diǎn)的高度數(shù)據(jù)的變化大小，為所述路徑區(qū)間設(shè)置對(duì)應(yīng)的鍍膜速度，其中，為所述高度數(shù)據(jù)變化大的路徑區(qū)間設(shè)置更慢的鍍膜速度。在另一個(gè)實(shí)施方案中，根據(jù)所述補(bǔ)線路徑的掃描結(jié)果，將所述補(bǔ)線路徑分成至少兩段路徑區(qū)間，為所述每一段路路徑區(qū)間設(shè)置對(duì)應(yīng)的鍍膜速度的步驟具體包括
根據(jù)所述補(bǔ)線路徑的掃描結(jié)果，確認(rèn)所述補(bǔ)線路徑上經(jīng)過的所述陣列基板已經(jīng)鍍好的圖案線條邊緣的區(qū)間，一般在圖案線條邊緣處，其高度數(shù)據(jù)變化非常大；
將所述補(bǔ)線路徑上的經(jīng)過圖案線條邊緣的區(qū)間與未經(jīng)過圖案線條邊緣的區(qū)間分別設(shè)置成不同的路徑區(qū)間；
為所述經(jīng)過圖案線條邊緣的路徑區(qū)間設(shè)置更慢的鍍膜速度，為其他未經(jīng)過圖案線條邊緣的路徑區(qū)間設(shè)置較快的鍍膜速度。通過上述的補(bǔ)線步驟，使所述補(bǔ)線路徑上所形成連通的鍍膜將所述出現(xiàn)斷線的圖案的斷線處重新連通，而與其經(jīng)過的其他未出現(xiàn)斷線的圖案之間絕緣。本發(fā)明的另一方面，提供一種修補(bǔ)液晶顯示陣列基板斷線的裝置，包括
檢測(cè)模塊，用于檢測(cè)液晶顯示陣列基板上的圖案是否出現(xiàn)斷線；
掃描模塊，用于在所述檢測(cè)裝置檢測(cè)至液晶顯示陣列基板上的圖案出現(xiàn)斷線時(shí)，確定并掃描為所述圖案的斷線處的補(bǔ)線路徑；
設(shè)置模塊，根據(jù)所述掃描模塊的掃描結(jié)果，將所述補(bǔ)線路徑分成至少兩段路徑區(qū)間，并為所述每一段路路徑區(qū)間設(shè)置對(duì)應(yīng)的鍍膜速度；
鍍膜裝置，在所述設(shè)置模塊所設(shè)置的每段路徑區(qū)間上，以所確定的對(duì)應(yīng)的鍍膜速度進(jìn)行鍍膜，使所述補(bǔ)線路徑上形成連通的鍍膜。其中，所述掃描模塊是通過白光干涉或激光掃描的方式對(duì)所述補(bǔ)線路徑進(jìn)行掃描，獲得所述補(bǔ)線路徑上每點(diǎn)的高度數(shù)據(jù)。其中，所述設(shè)置模塊是根據(jù)每一路徑區(qū)間中各點(diǎn)的高度數(shù)據(jù)的變化大小，為所述路徑區(qū)間設(shè)置對(duì)應(yīng)的鍍膜速度，其中，為所述高度數(shù)據(jù)變化大的路徑區(qū)間設(shè)置更慢的鍍膜速度。
其中，所述設(shè)置模塊是根據(jù)所述掃描模塊的結(jié)果，將所述補(bǔ)線路徑上的經(jīng)過圖案線條邊緣的區(qū)間與未經(jīng)過圖案線條邊緣的區(qū)間分別設(shè)置成不同的路徑區(qū)間；并為所述經(jīng)過圖案線條邊緣的路徑區(qū)間設(shè)置更慢的鍍膜速度，為其他未經(jīng)過圖案線條邊緣的路徑區(qū)間設(shè)置較快的鍍膜速度。下述參照?qǐng)D4至圖6，對(duì)本發(fā)明的修補(bǔ)液晶顯示陣列基板斷線的方法及裝置的實(shí)現(xiàn)過程進(jìn)行詳述。其中，參照?qǐng)D4所示，在基板I形成有第一圖案2和第二圖案3，其中第二圖案3有一部份與第一圖案相重疊，且相互絕緣。但對(duì)第二圖案3進(jìn)行鍍膜的過程中，出現(xiàn)了斷線的情形。當(dāng)檢測(cè)到基板I上的圖案3出現(xiàn)斷線時(shí)，確定出其補(bǔ)線路徑4。此時(shí)，可以通過掃描裝置掃描該補(bǔ)線路徑，例如可以通過白光干涉或激光掃描的方式對(duì)所述補(bǔ)線路徑進(jìn)行掃描，獲得所述補(bǔ)線路徑上每點(diǎn)的高度數(shù)據(jù)，從而形成如圖5的補(bǔ)線路徑的高度曲線圖。根據(jù)該掃描結(jié)果，將所述補(bǔ)線路徑分成多個(gè)路徑區(qū)間，并為所述每一段路路徑區(qū)間設(shè)置對(duì)應(yīng)的鍍膜速度；如圖4中，可以將該補(bǔ)線路徑分為七段，分別為a-b段、b-c段、c-d段、d-e段、e-f段、f-g段、g_h段。其中，a-b段、b-c段、d-e段、f-g段、g-h段中高度變化不大，可以將各路徑區(qū)間的鍍膜速度設(shè)為相同或大致相同，而的c-d段、e-f段中高度變化很大，可以將其對(duì)應(yīng)的鍍膜速度設(shè)置為更慢的鍍膜速度?；蛘撸梢愿鶕?jù)對(duì)補(bǔ)線路徑的掃描結(jié)果，直接確認(rèn)補(bǔ)線路徑上經(jīng)過的所述陣列基板已經(jīng)鍍好的圖案線條(如圖案2)邊緣的區(qū)間，例如，可以直接確定c-d段、e-f段為經(jīng)過圖案2線條邊緣的區(qū)間；
將所述補(bǔ)線路徑上的經(jīng)過圖案線條邊緣的區(qū)間(c-d段、e-f段)與未經(jīng)過圖案線條邊緣的區(qū)間(a-b段、b-c段、d-e段、f-g段、g-h段)分別設(shè)置成不同的路徑區(qū)間；
為所述經(jīng)過圖案線條邊緣的路徑區(qū)間設(shè)置更慢的鍍膜速度，為其他未經(jīng)過圖案線條邊緣的路徑區(qū)間設(shè)置較快的鍍膜速度，即為(c-d段、e-f段)設(shè)置更慢的鍍膜速度。如圖6所示，是根據(jù)本發(fā)明的修補(bǔ)液晶顯示陣列基板斷線的方法的補(bǔ)線后的結(jié)構(gòu)示意圖。從中可以看出，在每段路徑區(qū)間上，根據(jù)前述確定的對(duì)應(yīng)的鍍膜速度進(jìn)行鍍膜，可以使所述補(bǔ)線路徑4上形成連通的鍍膜。其中，在c-d段、e-f段路徑區(qū)間上采用更慢的鍍膜速度，可以增加鍍膜的厚度，從而可以避免現(xiàn)在技術(shù)中出現(xiàn)鍍膜斷裂的情形，從而提高補(bǔ)膜的成功率，經(jīng)過上述的補(bǔ)線過程，可以使補(bǔ)線路徑4上的鍍膜使出現(xiàn)斷線的第二圖案3的斷線處重新連通，而與其經(jīng)過的其他未出現(xiàn)斷線的圖案(如第一圖案2)之間絕緣。從上可以看出，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，通過將補(bǔ)線路徑分成多個(gè)路徑區(qū)間，且為每個(gè)路徑區(qū)間設(shè)置相應(yīng)的鍍膜速度，可以通過在不同路徑區(qū)間采用不同的鍍膜速度進(jìn)行鍍膜，例如，所述經(jīng)過圖案線條邊緣的路徑區(qū)間設(shè)置更慢的鍍膜速度，以增加此路徑區(qū)間的鍍膜厚度，可以使所述補(bǔ)線路徑上形成連通的鍍膜，從而提高補(bǔ)線的成功率。以上所揭露的僅為本發(fā)·明較佳實(shí)施例而已，當(dāng)然不能以此來限定本發(fā)明之權(quán)利范圍，因此等同變化，仍屬本發(fā)明所涵蓋的范圍。
權(quán)利要求
1.一種修補(bǔ)液晶顯示陣列基板斷線的方法，其特征在于，包括如下步驟 在發(fā)現(xiàn)液晶顯示陣列基板上的圖案出現(xiàn)斷線時(shí)，確定所述圖案的斷線處的補(bǔ)線路徑，并掃描所述補(bǔ)線路徑； 根據(jù)所述補(bǔ)線路徑的掃描結(jié)果，將所述補(bǔ)線路徑分成至少兩段路徑區(qū)間，并為所述每一段路路徑區(qū)間設(shè)置對(duì)應(yīng)的鍍膜速度； 在每段路徑區(qū)間上，以所確定的對(duì)應(yīng)的鍍膜速度進(jìn)行鍍膜，使所述補(bǔ)線路徑上形成連通的鍍膜。
2.如權(quán)利要求I所述的修補(bǔ)液晶顯示陣列基板斷線的方法，其特征在于，所述掃描所述補(bǔ)線路徑的步驟為 通過白光干涉或激光掃描的方式對(duì)所述補(bǔ)線路徑進(jìn)行掃描，獲得所述補(bǔ)線路徑上每點(diǎn)的高度數(shù)據(jù)。
3.如權(quán)利要求2所述的修補(bǔ)液晶顯示陣列基板斷線的方法，其特征在于，根據(jù)所述補(bǔ)線路徑的掃描結(jié)果，將所述補(bǔ)線路徑分成至少兩段路徑區(qū)間，并為所述每一段路路徑區(qū)間設(shè)置對(duì)應(yīng)的鍍膜速度的步驟具體為 將所述補(bǔ)線路徑分成至少兩段路徑區(qū)間； 根據(jù)每一路徑區(qū)間中各點(diǎn)的高度數(shù)據(jù)的變化大小，為所述路徑區(qū)間設(shè)置對(duì)應(yīng)的鍍膜速度，其中，為所述高度數(shù)據(jù)變化大的路徑區(qū)間設(shè)置更慢的鍍膜速度。
4.如權(quán)利要求2所述的修補(bǔ)液晶顯示陣列基板斷線的方法，其特征在于，根據(jù)所述補(bǔ)線路徑的掃描結(jié)果，將所述補(bǔ)線路徑分成至少兩段路徑區(qū)間，并為所述每一段路路徑區(qū)間設(shè)置對(duì)應(yīng)的鍍膜速度的步驟具體為 根據(jù)所述補(bǔ)線路徑的掃描結(jié)果，確認(rèn)所述補(bǔ)線路徑上經(jīng)過的所述陣列基板已經(jīng)鍍好的圖案線條邊緣的區(qū)間； 將所述補(bǔ)線路徑上的經(jīng)過圖案線條邊緣的區(qū)間與未經(jīng)過圖案線條邊緣的區(qū)間分別設(shè)置成不同的路徑區(qū)間； 為所述經(jīng)過圖案線條邊緣的路徑區(qū)間設(shè)置更慢的鍍膜速度，為其他未經(jīng)過圖案線條邊緣的路徑區(qū)間設(shè)置較快的鍍膜速度。
5.如權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的修補(bǔ)液晶顯示陣列基板斷線的方法，其特征在于，所述補(bǔ)線路徑上所形成連通的鍍膜將所述出現(xiàn)斷線的圖案的斷線處重新連通，而與其經(jīng)過的其他未出現(xiàn)斷線的圖案之間絕緣。
6.一種修補(bǔ)液晶顯示陣列基板斷線的裝置，其特征在于，包括 檢測(cè)模塊，用于檢測(cè)液晶顯示陣列基板上的圖案是否出現(xiàn)斷線； 掃描模塊，用于在所述檢測(cè)裝置檢測(cè)至液晶顯示陣列基板上的圖案出現(xiàn)斷線時(shí)，確定并掃描為所述圖案的斷線處的補(bǔ)線路徑； 設(shè)置模塊，根據(jù)所述掃描模塊的掃描結(jié)果，將所述補(bǔ)線路徑分成至少兩段路徑區(qū)間，并為所述每一段路路徑區(qū)間設(shè)置對(duì)應(yīng)的鍍膜速度； 鍍膜裝置，在所述設(shè)置模塊所設(shè)置的每段路徑區(qū)間上，以所確定的對(duì)應(yīng)的鍍膜速度進(jìn)行鍍膜，使所述補(bǔ)線路徑上形成連通的鍍膜。
7.如權(quán)利要求6所述的修補(bǔ)液晶顯示陣列基板斷線的裝置，其特征在于，所述掃描模塊是通過白光干涉或激光掃描的方式對(duì)所述補(bǔ)線路徑進(jìn)行掃描，獲得所述補(bǔ)線路徑上每點(diǎn)的高度數(shù)據(jù)。
8.如權(quán)利要求7所述的修補(bǔ)液晶顯示陣列基板斷線的裝置，其特征在于，所述設(shè)置模塊是根據(jù)每一路徑區(qū)間中各點(diǎn)的高度數(shù)據(jù)的變化大小，為所述路徑區(qū)間設(shè)置對(duì)應(yīng)的鍍膜速度，其中，為所述高度數(shù)據(jù)變化大的路徑區(qū)間設(shè)置更慢的鍍膜速度。
9.如權(quán)利要求7所述的修補(bǔ)液晶顯示陣列基板斷線的裝置，其特征在于，所述設(shè)置模塊是根據(jù)所述掃描模塊的結(jié)果，將所述補(bǔ)線路徑上的經(jīng)過圖案線條邊緣的區(qū)間與未經(jīng)過圖案線條邊緣的區(qū)間分別設(shè)置成不同的路徑區(qū)間；并為所述經(jīng)過圖案線條邊緣的路徑區(qū)間設(shè)置更慢的鍍膜速度，為其他未經(jīng)過圖案線條邊緣的路徑區(qū)間設(shè)置較快的鍍膜速度。
全文摘要
本發(fā)明實(shí)施例公開了一種修補(bǔ)液晶顯示陣列基板斷線的方法，至少包括如下步驟在發(fā)現(xiàn)液晶顯示陣列基板上的圖案出現(xiàn)斷線時(shí)，確定所述圖案的斷線處的補(bǔ)線路徑，并掃描所述補(bǔ)線路徑；根據(jù)所述補(bǔ)線路徑的掃描結(jié)果，將所述補(bǔ)線路徑分成至少兩段路徑區(qū)間，并為所述每一段路路徑區(qū)間設(shè)置對(duì)應(yīng)的鍍膜速度；在每段路徑區(qū)間上，以所確定的對(duì)應(yīng)的鍍膜速度進(jìn)行鍍膜，使所述補(bǔ)線路徑上形成連通的鍍膜。同時(shí)，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種修補(bǔ)液晶顯示陣列基板斷線的裝置，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，可以提高補(bǔ)線的成功率。
文檔編號(hào)G02F1/13GK102914888SQ20121044837
公開日2013年2月6日 申請(qǐng)日期2012年11月12日 優(yōu)先權(quán)日2012年11月12日
發(fā)明者鄭文達(dá) 申請(qǐng)人:深圳市華星光電技術(shù)有限公司