專利名稱：用于圖像中繼裝置、高光譜成像儀和攝譜儀的小型光傳遞系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明總地來說涉及在圖像中繼裝置、高光譜成像儀和攝譜儀中使用的光傳遞成像儀的光學(xué)設(shè)計(jì)，更具體來說，涉及一種具有較之大多數(shù)先前設(shè)計(jì)更容易制造而且具有優(yōu)良的光譜和空間成像品質(zhì)的更簡(jiǎn)單的光學(xué)設(shè)計(jì)的設(shè)計(jì)。
背景技術(shù)：
目前基于“Offner”設(shè)計(jì)的光傳遞成像儀往往體積相對(duì)很大，而且難以實(shí)現(xiàn)和維持多條光軸對(duì)準(zhǔn)。目前基于“Dyson”設(shè)計(jì)的光傳遞成像儀設(shè)計(jì)的體積較小，但是在后焦距方面受到很大的限制，因而焦平面陣列(focal plane array, FPA)必須放置在緊靠Dyson光學(xué)塊的 地方，美國(guó)專利7，609，381 (沃倫(Warren))中對(duì)這一點(diǎn)有過舉例說明。因此，需要一種光學(xué)成像系統(tǒng)，其FPA離最近的光學(xué)元件的物理間隔更大，因而可以增強(qiáng)與FPA相關(guān)的機(jī)械設(shè)計(jì)的靈活性。此外，高品質(zhì)映射和圖像中繼應(yīng)用一般需要像素很多的FPA，對(duì)于這樣的FPA，Dyson設(shè)計(jì)的另一個(gè)局限是，Dyson塊體積很大，因而在操作之前需要很長(zhǎng)時(shí)間才能在塊內(nèi)實(shí)現(xiàn)和維持熱平衡，而且如果完全實(shí)現(xiàn)或維持了熱平衡，可能還會(huì)導(dǎo)致所得的圖像品質(zhì)降級(jí)。Dyson設(shè)計(jì)的圖像品質(zhì)還有一個(gè)重大的局限是，光通過同一個(gè)大的塊在兩個(gè)方向上傳播(對(duì)于攝譜儀設(shè)計(jì)是在衍射之前和之后)，使得入射的光可能在FPA上的Dyson塊內(nèi)和邊緣處散射。此外，美國(guó)專利7，609, 381 (Warren)中舉例說明的Dyson設(shè)計(jì)不可能包含光學(xué)擋板來防止這種散射。這種散射可能對(duì)攝譜儀應(yīng)用是一個(gè)嚴(yán)重問題，因?yàn)楸簧⑸涞娜肷涔馐侨庾V的，而期望到達(dá)FPA的信號(hào)是光譜色散的，落在FPA的不同部分上，每一個(gè)信號(hào)只具有全光譜譜能量的一小部分。對(duì)于一些波長(zhǎng)，散射的光于是可能成為撞擊在FPA上的總能量的較大部分。此外，美國(guó)專利7，199,876 (米歇爾(Mitchell))和美國(guó)專利7，061，611 (米歇爾(Mitchell))舉例說明的其它光學(xué)設(shè)計(jì)中合并了一個(gè)在狹縫與色散光柵之間的光學(xué)組件，使得穿過狹縫的光變準(zhǔn)直，從而可以使用平面鏡、平面反射衍射光柵或平面透射光柵。因?yàn)樾枰构庾儨?zhǔn)直，所以光學(xué)復(fù)雜度更高，而且散射光也會(huì)隨之增加。因此，需要一種在狹縫與色散光柵之間的更加簡(jiǎn)單的光學(xué)組件，使得散射光減少，并且不需要使光變準(zhǔn)直。

發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本發(fā)明，描述了一種小型的光傳遞傳遞系統(tǒng)。本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種體積較小的光傳遞系統(tǒng)設(shè)計(jì)。本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種光學(xué)設(shè)計(jì)，可以有效地用于具有大量像素的FPA，該光學(xué)設(shè)計(jì)包含大格式像素且具有最低限度的色畸變和譜線彎曲(spectral smiledistortion)(對(duì)于衍射實(shí)施例),適合高品質(zhì)成像應(yīng)用。本發(fā)明的另一個(gè)目的是所述光學(xué)設(shè)計(jì)中含有最小量的容易制造的光學(xué)元件。另一個(gè)目的是所述光學(xué)設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn) 和維持最小限度的譜線彎曲(對(duì)于衍射實(shí)施例)和色畸變，并且無需復(fù)雜的對(duì)準(zhǔn)程序。另一個(gè)目的是所述光學(xué)設(shè)計(jì)可以實(shí)現(xiàn)優(yōu)秀的圖像品質(zhì)，包含在用于高光譜成像設(shè)計(jì)時(shí)對(duì)于穿過整個(gè)FPA上的所有相關(guān)波長(zhǎng)在很大程度上是衍射受限的。另一個(gè)目的是所述光學(xué)設(shè)計(jì)格式非常通用，可以用于從紫外線到熱紅外線的不同光譜范圍。另一個(gè)目的是從狹縫發(fā)出的大部分散射光可以受到阻擋、遮擋或用其它方式受到限制，不會(huì)入射到FPA上。根據(jù)本發(fā)明，提供一種光傳遞裝置，其包括具有一條光軸的光學(xué)系統(tǒng)，用于從光源接收入射光，將光投射到反射曲面上，且用于將從所述曲面?zhèn)骰氐墓饩劢沟浇蛊矫骊嚵?FPA)上，其中所述光源和所述FPA在所述光軸的相反側(cè)上是大體上對(duì)稱的，且投射到所述反射曲面上的光和從所述反射曲面?zhèn)骰氐墓飧髯源┻^相同的光學(xué)元件。在另一實(shí)施例中，所述光學(xué)系統(tǒng)包含第一和第二折射校正器元件，其操作地位于所述光源與所述曲面之間，用于將入射光聚焦到所述曲面上，且將從曲面?zhèn)骰氐墓饩劢沟剿鯢PA上。在各個(gè)實(shí)施例中，所述第一折射校正器元件是面向所述光源的正光組(positivepower lens)，且/或第二折射校正器元件是位于所述第一折射校正器元件與所述曲面之間的負(fù)光組(negative power lens)。優(yōu)選地，所述折射校正器操作地定位成離所述光源比離所述曲面更近。在一個(gè)實(shí)施例中，從所述光源發(fā)出的穿過所述光學(xué)系統(tǒng)的光在物理上與從所述曲面?zhèn)骰氐墓夥珠_，并且大體上關(guān)于所述光軸對(duì)稱。 在優(yōu)選實(shí)施例中，光不加準(zhǔn)直就被傳遞到所述曲面。在一個(gè)實(shí)施例中，所述曲面是一個(gè)色散元件，而在另一個(gè)實(shí)施例中，所述曲面是非色散鏡。在另一個(gè)實(shí)施例中，所述光學(xué)系統(tǒng)的所述光源是穿過狹縫被接收的，并且可以包含第一光學(xué)系統(tǒng)，用于將光聚焦在在所述狹縫的上游側(cè)。在另一個(gè)實(shí)施例中，所述光學(xué)系統(tǒng)的所述光源是穿過針孔被接收的，并且可以包含第一光學(xué)系統(tǒng)，用于將光聚焦在在所述針孔的上游側(cè)。在另一實(shí)施例中，所述曲面是衍射光柵，將光譜色散的光引導(dǎo)到FPA上。在其它實(shí)施例中，所述第一光學(xué)系統(tǒng)是將光傳遞到所述狹縫或針孔的上游側(cè)的光纖系統(tǒng)。在其它實(shí)施例中，所述FPA具有一條垂直于所述FPA的FPA軸，并且所述FPA軸相對(duì)于所述光軸傾斜。在其它實(shí)施例中，所述第二折射校正器元件包括在同一光學(xué)平面上的彼此鄰近的兩個(gè)球面光學(xué)元件，這兩個(gè)球面光學(xué)元件可以沿著同一光軸彼此隔開。在其它實(shí)施例中，場(chǎng)透鏡光學(xué)地位于所述FPA與所述第一折射校正器元件之間。
在另一實(shí)施例中，場(chǎng)透鏡光學(xué)地位于所述狹縫與所述第一折射校正器元件之間。在另一實(shí)施例中，所述光學(xué)系統(tǒng)是由一個(gè)或一個(gè)以上雙透鏡光學(xué)元件和一個(gè)或一個(gè)以上單透鏡光學(xué)元件組成。在另一實(shí)施例中，所述光學(xué)系統(tǒng)是由三個(gè)或三個(gè)以上單透鏡光學(xué)元件組成。在其它實(shí)施例中，所述系統(tǒng)可以包含光學(xué)地位于所述光學(xué)系統(tǒng)與所述FPA之間的具有全內(nèi)反射的折疊鏡或棱鏡，使得所述FPA定向在不同于狹縫的平面中，且/或包含光學(xué)地位于所述第一光學(xué)組件與所述狹縫之間的具有全內(nèi)反射的折疊鏡或棱鏡。在其它實(shí)施例中，所述光學(xué)系統(tǒng)具有位于所述光學(xué)系統(tǒng)的一個(gè)或一個(gè)以上所述表面上的非球形表面。在各種實(shí)施例中，所述光傳遞系統(tǒng)可具有針對(duì)紫外(UV)波長(zhǎng)、可見光和近紅外(VNIR)波長(zhǎng)、短波紅外(SWIR)光譜波長(zhǎng)、中波紅外(麗IR)波長(zhǎng)、熱紅外(TIR)波長(zhǎng)優(yōu)化的光·學(xué)元件和/或針對(duì)紫外(UV)、可見光和近紅外(VNIR)、短波IR (SWIR)、中波IR (麗IR)和/或熱IR (TIR)波長(zhǎng)的組合或光譜子集優(yōu)化的光學(xué)元件。在又一實(shí)施例中，所述系統(tǒng)可進(jìn)一步包括光學(xué)地連接到所述光傳遞系統(tǒng)的光學(xué)多路復(fù)用系統(tǒng)，其中光穿過不止一個(gè)狹縫進(jìn)入所述光學(xué)成像儀。


參照?qǐng)D式說明本發(fā)明，其中圖I是根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的典型的基于Dyson的攝譜儀設(shè)計(jì)；圖2是根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的沿著光軸且在平行于光譜色散平面的平面中的高光譜成像儀的剖面示意圖；圖3是根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的展示透鏡上的涂層形式的擋板的高光譜成像儀；圖4是根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的展示與入射光和衍射光的邊緣平行的物理屏障的形式的擋板的高光譜成像儀；圖5是根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的用于具有f2. 8光學(xué)器件的小型可見光近紅外(VNIR)攝譜儀的高光譜成像儀；圖6是根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的用于具有f2. 8光學(xué)器件且合并了位于狹縫與第一光學(xué)元件之間的折疊鏡的VNIR系統(tǒng)的高光譜成像儀；圖7是根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的合并了位于FPA前方的場(chǎng)透鏡且使用f2. 8到f2. 5光學(xué)器件的高光譜成像儀；圖8是根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的合并了位于狹縫與第一光學(xué)元件之間的場(chǎng)透鏡且使用f2. 8到f2. 5光學(xué)器件的高光譜成像儀；圖9是根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的具有f2. 8光學(xué)器件的具有一個(gè)雙透鏡光學(xué)元件和一個(gè)單透鏡光學(xué)元件的高光譜成像儀；圖10是根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例具有三個(gè)非常靠近的單透鏡且具有f2. 8光學(xué)器件的的高光譜成像儀；圖11是根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的用于VNIR到短波紅外(SWIR)光譜范圍的具有所有球形表面加上位于兩個(gè)光學(xué)元件之間用于改善校正的額外分隔的高光譜成像儀；
圖12是根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的使用從f2. 5到f2. 0的光學(xué)器件且使用一個(gè)非球形表面的用于VNIR到SWIR的光譜范圍的高光譜成像儀；圖13是根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的用于SWIR光譜范圍的具有f2. 0光學(xué)器件且合并了一個(gè)非球形表面的小型攝譜儀的高光譜成像儀；圖14是根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的使用fl. 5的光學(xué)器件和一個(gè)非球形表面的用于中波紅外(MWIR)光譜范圍的高光譜成像儀；圖15是根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的具有fl. 5光學(xué)器件的用于熱紅外(TIR)光譜范圍的高光譜成像儀；圖16是根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的使用鏡而不是衍射光柵來形成30mm乘以IOmm格式的低失真圖像中繼且使用f2. 8光學(xué)器件的光傳遞成像儀；且 圖17是包含用于物鏡組件的機(jī)械布局和用于FPA與相關(guān)電子器件的外殼的攝譜儀的實(shí)施例。
具體實(shí)施例方式參照各圖，說明改善的小型光傳遞成像系統(tǒng)。在圖2到15所示的第一類型的實(shí)施例中，改善的系統(tǒng)提供一種具有一條光軸的光學(xué)組件，用于非光譜色散的光的成像功能，該非光譜色散的光穿過狹縫或針孔進(jìn)入攝譜儀到達(dá)彎曲的反射色散光柵，其中光譜色散的光隨后使用相同的光學(xué)組件被聚焦到FPA上。這種方法在很大程度上減少了譜線彎曲和色畸變，并且這些設(shè)計(jì)相對(duì)于OfTner型設(shè)計(jì)有顯著的優(yōu)點(diǎn)。在圖16所示的第二圖像中繼裝置的實(shí)施例中，提供一種光學(xué)組件，用于使光進(jìn)入中繼裝置到達(dá)彎曲反射鏡上并且隨后使用相同的光學(xué)組件使反射的光聚焦到FPA上的二維成像功能。在每一實(shí)施例中，所述改善的光學(xué)設(shè)計(jì)讓后焦平面距離實(shí)質(zhì)性增加，這樣FPA就不需要緊靠著光學(xué)元件了。因此，可以按照?qǐng)DI所示且按照下文更詳細(xì)論述的內(nèi)容，較之過去的基于Dyson的設(shè)計(jì)，在光源與第一光學(xué)元件之間實(shí)現(xiàn)更大的距離。這些增加的距離讓光源與FPA的物理間隔更大，這對(duì)于具有大量像素和/或大格式像素的FPA來說特別有利。此外，這種設(shè)計(jì)還改善了對(duì)于雜散光的控制，并且可以選擇使用折疊鏡或棱鏡，其中，這些元件的全內(nèi)反射就在FPA前面。因此，這些設(shè)計(jì)可以提供狹縫與FPA之間更大的物理間隔，從而讓攝譜儀或圖像中繼裝置的物理布局有更大的靈活性。另外，所述光學(xué)設(shè)計(jì)可以使用透鏡和反射性衍射光柵或鏡，這些元件對(duì)于許多波長(zhǎng)范圍全都具有球形表面，這提供了一個(gè)優(yōu)點(diǎn)，就是較之Dyson類型光學(xué)器件需要的非球形表面來說更加容易制造。下表I和表2中提供了用于VNIR f2. 8高光譜實(shí)施例(如圖I所示)的光學(xué)規(guī)定和其它光學(xué)參數(shù)，并且提供了所屬領(lǐng)域技術(shù)人員已知的典型系統(tǒng)的說明。表I 一實(shí)例性光學(xué)規(guī)定
權(quán)利要求
1.一種光傳遞裝置，包括 具有一條光軸的光學(xué)系統(tǒng)，用于從光源接收入射光，將所述光投射到反射曲面上，并且用于將從所述反射曲面?zhèn)骰氐墓饩劢沟浇蛊矫骊嚵?FPA)上； 其中所述光源和所述FPA在所述光軸的相反側(cè)上是大體上對(duì)稱的，并且投射到所述反射曲面上的光和從所述反射曲面?zhèn)骰氐墓飧髯源┻^相同的光學(xué)元件，且所述光不加準(zhǔn)直就被傳遞到所述曲面。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的光傳遞系統(tǒng)，其中所述光學(xué)系統(tǒng)包含 第一和第二折射校正器元件，其操作地位于所述光源與所述曲面之間，用于將入射光聚焦到所述曲面上，且將從所述曲面?zhèn)骰氐墓饩劢沟剿鯢PA上。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光傳遞系統(tǒng)，其中所述第一折射校正器元件是面向所述光源的正光組。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光傳遞系統(tǒng)，其中所述第二折射校正器元件是位于所述第一折射校正器元件與所述曲面之間的負(fù)光組。
5.根據(jù)權(quán)利要求2到4中任一權(quán)利要求所述的光傳遞系統(tǒng)，其中所述折射校正器操作地定位成離所述光源比離所述曲面更近。
6.根據(jù)權(quán)利要求2到5中任一權(quán)利要求所述的光傳遞系統(tǒng)，其中從所述光源發(fā)出的穿過所述光學(xué)系統(tǒng)的光在物理上與從所述曲面?zhèn)骰氐墓夥珠_，并且大體上關(guān)于所述光軸對(duì)稱。
7.根據(jù)權(quán)利要求2到6中任一權(quán)利要求所述的光傳遞系統(tǒng),其中所述光學(xué)系統(tǒng)包含在一個(gè)或一個(gè)以上透鏡上的擋板以減少散射和/或雜散光。
8.根據(jù)權(quán)利要求I到7中任一權(quán)利要求所述的光傳遞系統(tǒng)，其中所述曲面是色散元件。
9.根據(jù)權(quán)利要求I到7中任一權(quán)利要求所述的光傳遞系統(tǒng)，其中所述曲面是非色散鏡。
10.根據(jù)權(quán)利要求I到9中任一權(quán)利要求所述的光傳遞系統(tǒng)，其中所述光學(xué)系統(tǒng)的所述光源是穿過狹縫被接收的。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光傳遞系統(tǒng)，其進(jìn)一步包括第一光學(xué)系統(tǒng)，用于將光聚焦在所述狹縫的上游側(cè)上。
12.根據(jù)權(quán)利要求I到9中任一權(quán)利要求所述的光傳遞系統(tǒng)，其中所述光學(xué)系統(tǒng)的所述光源是穿過針孔被接收的。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的光傳遞系統(tǒng)，其進(jìn)一步包括第一光學(xué)系統(tǒng)，用于將光聚焦在所述針孔的上游側(cè)上。
14.根據(jù)權(quán)利要求I到8中任一權(quán)利要求所述的光傳遞系統(tǒng)，其中所述曲面是衍射光柵，所述衍射光柵穿過所述光學(xué)系統(tǒng)將光譜色散的光引導(dǎo)到所述FPA上。
15.根據(jù)權(quán)利要求11所述的光傳遞系統(tǒng)，其中所述第一光學(xué)系統(tǒng)是將光傳遞到所述狹縫的所述上游側(cè)的光纖系統(tǒng)。
16.根據(jù)權(quán)利要求13所述的光傳遞系統(tǒng)，其中所述第一光學(xué)系統(tǒng)是將光傳遞到所述小孔的所述上游側(cè)的光纖系統(tǒng)。
17.根據(jù)權(quán)利要求I到16中任一權(quán)利要求所述的光傳遞系統(tǒng)，其中所述FPA具有一條垂直于所述FPA的FPA軸，且所述FPA軸相對(duì)于所述光軸傾斜。
18.根據(jù)權(quán)利要求2到17中任一權(quán)利要求所述的光傳遞系統(tǒng)，其中所述第二折射校正器元件包括在同一光學(xué)平面上彼此鄰近的兩個(gè)球面光學(xué)元件。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的光傳遞系統(tǒng)，其中所述兩個(gè)球面光學(xué)元件沿著同一光軸彼此隔開。
20.根據(jù)權(quán)利要求2到19中任一權(quán)利要求所述的光傳遞系統(tǒng)，其進(jìn)一步包括光學(xué)地位于所述FPA與所述第一折射校正器元件之間的場(chǎng)透鏡。
21.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光傳遞系統(tǒng)，其進(jìn)一步包括光學(xué)地位于所述狹縫與所述第一折射校正器元件之間的場(chǎng)透鏡。
22.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光傳遞系統(tǒng)，其中所述光學(xué)系統(tǒng)是由一個(gè)或一個(gè)以上雙透鏡光學(xué)元件和一個(gè)或一個(gè)以上單透鏡光學(xué)元件組成。
23.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光傳遞系統(tǒng)，其中所述光學(xué)系統(tǒng)是由三個(gè)或三個(gè)以上單透鏡光學(xué)兀件組成。
24.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光傳遞系統(tǒng)，其進(jìn)一步包括光學(xué)地位于所述光學(xué)系統(tǒng)與所述FPA之間的具有全內(nèi)反射的折疊鏡或棱鏡，使得所述FPA定向在不同于所述狹縫的平面中。
25.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光傳遞系統(tǒng)，其進(jìn)一步包括光學(xué)地位于所述第一光學(xué)組件與所述狹縫之間的具有全內(nèi)反射的折疊鏡或棱鏡。
26.根據(jù)權(quán)利要求2到25中任一權(quán)利要求所述的光傳遞系統(tǒng),其中所述光學(xué)系統(tǒng)具有位于所述光學(xué)系統(tǒng)的一個(gè)或一個(gè)以上所述表面上的非球形表面。
27.根據(jù)權(quán)利要求I到26中任一權(quán)利要求所述的光傳遞系統(tǒng)，其具有針對(duì)紫外(UV)波長(zhǎng)優(yōu)化的光學(xué)元件。
28.根據(jù)權(quán)利要求I到26中任一權(quán)利要求所述的光傳遞系統(tǒng)，其具有針對(duì)可見光和近紅外(VNIR)波長(zhǎng)優(yōu)化的光學(xué)元件。
29.根據(jù)權(quán)利要求I到26中任一權(quán)利要求所述的光傳遞系統(tǒng)，其具有針對(duì)短波紅外(SffIR)光譜波長(zhǎng)優(yōu)化的光學(xué)元件。
30.根據(jù)權(quán)利要求I到26中任一權(quán)利要求所述的光傳遞系統(tǒng)，其具有針對(duì)中波紅外(麗IR)波長(zhǎng)優(yōu)化的光學(xué)元件。
31.根據(jù)權(quán)利要求I到26中任一權(quán)利要求所述的光傳遞系統(tǒng)，其具有針對(duì)熱紅外(TIR)波長(zhǎng)優(yōu)化的光學(xué)兀件。
32.根據(jù)權(quán)利要求I到26中任一權(quán)利要求所述的光傳遞系統(tǒng)，其具有針對(duì)紫外(UV)、可見光和近紅外(VNIR)、短波IR (SWIR)、中波IR (MWIR)和/或熱IR (TIR)波長(zhǎng)的組合或光譜子集優(yōu)化的光學(xué)元件。
33.根據(jù)權(quán)利要求10到32中任一權(quán)利要求所述的光傳遞系統(tǒng)，其進(jìn)一步包括光學(xué)地連接到所述光傳遞系統(tǒng)的光學(xué)多路復(fù)用系統(tǒng)，其中光穿過不止一個(gè)狹縫進(jìn)入所述光學(xué)成像儀。
全文摘要
本發(fā)明提供一種光傳遞成像儀，可以合并到高光譜線形掃描儀、攝譜儀或非衍射圖像中繼裝置中，更具體來說，涉及一種具有較之大多數(shù)先前設(shè)計(jì)更容易制造且具有優(yōu)良成像品質(zhì)的更簡(jiǎn)單光學(xué)設(shè)計(jì)的設(shè)計(jì)。本發(fā)明包含一種通用的第一光學(xué)組件，用以將入射光傳遞到狹縫或針孔上；第二光學(xué)組件，作為折射校正器操作，將入射光引導(dǎo)到彎曲反射衍射光柵或彎曲鏡上，使得光譜色散或反射的光(取決于特定實(shí)施例)穿過同一第二光學(xué)組件回來，所述第二光學(xué)組件將光聚焦到與所述狹縫大概在同一平面中的焦平面陣列上。所述狹縫和PFA優(yōu)選在折射校正器的光軸的相反側(cè)上對(duì)稱位移。
文檔編號(hào)G02B17/00GK102971655SQ201180024869
公開日2013年3月13日 申請(qǐng)日期2011年5月12日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月18日
發(fā)明者史蒂芬·艾查爾 申請(qǐng)人:Itres研究有限公司