專利名稱：一種太陽能光伏板覆蓋薄膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
一種太陽能光伏板覆蓋薄膜技術(shù)領(lǐng)域[0001]本實(shí)用新型涉及太陽能領(lǐng)域，尤其涉及一種提高吸收空間中散射光線的太陽能光伏板薄膜。
背景技術(shù)：
[0002]在提倡節(jié)能減排的當(dāng)下，太陽能作為一種清潔能源，得到人們的廣泛認(rèn)同，目前人們利用的太陽能的方式主要有光伏發(fā)電和光熱兩種形式。近年來，光伏發(fā)電技術(shù)越來越多進(jìn)入人們的視野，太陽能在社會能源結(jié)構(gòu)中所占的比例越來越大，在國民經(jīng)濟(jì)中扮演著越來越重要的角色。[0003]我國太陽能光伏產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，也帶動(dòng)了光伏業(yè)周邊產(chǎn)品的需求量迅速增加， 這其中包括光伏生產(chǎn)設(shè)備，太陽能電池、組件生產(chǎn)原輔材料等。其中，大部分設(shè)備及耗材已完全實(shí)現(xiàn)國產(chǎn)化，但仍有少部分設(shè)備及原輔材料由于關(guān)鍵技術(shù)一直被國外公司掌握和限制，國內(nèi)尚未攻關(guān)，難以實(shí)現(xiàn)國產(chǎn)化。而這些設(shè)備往往需要一次性的大量投入，一般光伏企業(yè)難以承受。我國的光伏產(chǎn)業(yè)受到嚴(yán)重制約。因此發(fā)展我們自己的太陽能技術(shù)成為了迫在眉睫的大事。[0004]但現(xiàn)實(shí)情況是，目前太陽能硅電池本身的發(fā)電效率不高，光電轉(zhuǎn)換效率不到20%， 我國一大批的學(xué)者為提高太陽能電池的發(fā)電效率付出了很多精力。從目前的研究情狀來看，單純地從研究電池本身出發(fā)，太陽能電池發(fā)展技術(shù)進(jìn)入瓶頸階段，通過改變電池材料從而尋求新的突破難度很大，很難取得突破性的進(jìn)展。[0005]另一方面，太陽能電池的原材料是硅。在其煉制的過程中，不可避免地會對環(huán)境產(chǎn)生污染，同時(shí)需要消耗大量的能源。因此，光伏產(chǎn)業(yè)被質(zhì)疑屬高耗能、高污染行業(yè)，僅能量回收就至少需要2 3年，企業(yè)的生產(chǎn)過程必須遵守相當(dāng)嚴(yán)格的流程規(guī)范。在資源短缺的當(dāng)今，高耗能、高污染的生產(chǎn)過程對于社會的可持續(xù)發(fā)展是大大不利的。發(fā)明內(nèi)容[0006]本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)存在的缺點(diǎn)與不足，從提高太陽能利用率的角度出發(fā)，提供一種壽命高，工作可靠、成本低的光伏發(fā)電覆蓋薄膜。[0007]本實(shí)用新型通過下述技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)[0008]一種太陽能光伏板覆蓋薄膜，薄膜表面呈四棱臺陣列分布形狀；在薄膜表面鍍有一層減反射膜。[0009]所述薄膜材料的厚度為1. 6mnT2mm。[0010]所述薄膜材料為光學(xué)玻璃或透光度高的樹脂。[0011]所述四棱臺高度為0. 6mnT0. 8mm，頂角為60°，間距為ImnTl. 5mm。[0012]所述減反射膜為氮化硅薄膜。[0013]與現(xiàn)有技術(shù)相比本實(shí)用新型的有益效果在于[0014]1.本實(shí)用新型技術(shù)在太陽能光伏板上覆蓋一層四棱臺結(jié)構(gòu)的光學(xué)玻璃薄膜，使得太陽能電池上表面面積大大增加，光線在其表面經(jīng)多次折射后被電池吸收。特別是對于側(cè)面的光線來說，四棱臺形狀使光線更容易發(fā)生折射，到達(dá)電池表面。該實(shí)用新型技術(shù)加強(qiáng)了對空間中散射光線的吸收，解決了當(dāng)前太陽能技術(shù)的發(fā)展瓶頸，通過外接裝置的形式，從全新角度提高太陽能利用效率，為新技術(shù)的發(fā)展拓寬了思路。2.本實(shí)用新型技術(shù)應(yīng)用前景好。實(shí)驗(yàn)過程中所用的光學(xué)玻璃板為K9玻璃，或者利用注塑技術(shù)，采用透光度高的樹脂也可以大批量制造出本產(chǎn)品，由此可使產(chǎn)品成本大大降低，具有廣闊的市場前景。3.本實(shí)用新型技術(shù)充分考慮對環(huán)境的影響。太陽能電池的原材料是硅，硅的煉制過程會對環(huán)境產(chǎn)生不利的影響，本實(shí)用新型技術(shù)在不增加硅的使用量的前提下，大大提高了太陽能利用率，從而提高了太陽能光伏電池的發(fā)電效率。

圖1為本實(shí)用新型的左剖結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為本實(shí)用新型的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合具體實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步具體詳細(xì)描述，但本實(shí)用新型的實(shí)施方式不限于此，對于未特別注明的工藝參數(shù)，可參照常規(guī)技術(shù)進(jìn)行。
實(shí)施例本實(shí)施例選用玻璃為K9光學(xué)玻璃，厚度1. 7mm。在CNC磨床上將玻璃加工成如圖 1所示的四棱臺陣列形狀。其中，四棱臺高度0.7mm，頂角60°，間距1. 2mm，在基板上呈陣列分布。CNC精密磨床采用零磨削可將玻璃加工表面粗糙度加工至微米級別，隨后采用磁流變拋光技術(shù)對加工表面進(jìn)行光整加工，可將普通加工難以完成的V槽內(nèi)部拋光成類似鏡面的外表面，最后在其表面鍍一層氮化硅減反射膜，使入射光線不容易反射出去。上述實(shí)施例為本實(shí)用新型較佳的實(shí)施方式，但本實(shí)用新型的實(shí)施方式并不受上述實(shí)施例的限制，其他的任何未背離本實(shí)用新型的精神實(shí)質(zhì)與原理下所作的改變、修飾、替代、組合、簡化，均應(yīng)為等效的置換方式，都包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種太陽能光伏板覆蓋薄膜，其特征在于薄膜表面呈四棱臺陣列分布形狀；在薄膜表面鍍有一層減反射膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種太陽能光伏板覆蓋薄膜，其特征在于薄膜的厚度為 1. 6mm 2mm ο
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種太陽能光伏板覆蓋薄膜，其特征在于薄膜為光學(xué)玻璃或透光度高的樹脂。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種太陽能光伏板覆蓋薄膜，其特征在于四棱臺高度為 0. 6mnT0. 8mm，頂角為 60°，間距為 ImnTl. 5mm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種太陽能光伏板覆蓋薄膜，其特征在于減反射膜為氮化硅薄膜。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種太陽能光伏板覆蓋薄膜，所述薄膜材料為光學(xué)玻璃或透光度高的樹脂，先將1.6mm~2mm的薄膜材料加工成四棱臺形狀，四棱臺高度為0.6mm~0.8mm，頂角為60°，間距為1mm~1.5mm，四棱臺在基板上呈陣列分布，其上表面鍍有一層氮化硅減反射膜。將此薄膜覆蓋于太陽能光伏板表面，可以大大增強(qiáng)對空間中散射光線的吸收，提高太陽能利用效率。
文檔編號G02B1/11GK202256733SQ201120332009
公開日2012年5月30日 申請日期2011年9月6日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月6日
發(fā)明者李獻(xiàn)春, 蔣鈞海, 謝晉, 鄭佳華 申請人:華南理工大學(xué)