專利名稱：曝光機標靶影像對位裝置及使用該裝置的曝光機的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種令攝影鏡頭及對位光源借由設(shè)置于滑軌的滑座予以平移移載，以使其移載過程非常平穩(wěn)不晃動的設(shè)計，特別涉及ー種曝光機標靶影像對位裝置及使用該裝置的曝光機。
背景技術(shù)：
如圖I 圖3所示，一臺曝光機中通常會設(shè)置有上下兩個曝光框10a、10b，而相對于對位裝置20與曝光裝置30交替移位，以讓ー曝光框IOa借對位裝置20進行對位程序，另ー曝光框IOb則由曝光裝置30進行曝光程序，得以交替進行對位程序與曝光程序；然而， エ件在以曝光裝置30進行曝光程序前，必須先讓エ件借對位裝置20相對底片對位，以獲得較佳的曝光品質(zhì)，而エ件與底片間的對位精度，除了標靶辨識算法的優(yōu)劣外，標靶的影像品質(zhì)則是另ー項重要因素。其次，傳統(tǒng)的曝光機標靶影像對位裝置40是設(shè)置于曝光機的對位裝置20上方，而該標靶影像對位裝置40將ー對以上的攝影鏡頭41及對位光源42設(shè)置于一升降移載單元43 ;其中，該標靶影像對位裝置40于進行對位程序之前，必須令該攝影鏡頭41及對位光源42下降貼近置放于曝光框IOa或IOb的エ件表面，以獲致較佳的標靶影像對位品質(zhì)；但由于該標靶影像對位裝置40的設(shè)置位置位于整臺曝光機的高處重心較高，故致使該攝影鏡頭41及對位光源42會于下降的過程產(chǎn)生嚴重的晃動，而產(chǎn)生晃動非常不利于對位程序的進行，必須等待晃動自然停止后，才得以進行對位程序，因而影響到生產(chǎn)速度。再次，由于前述標靶影像對位裝置40的攝影鏡頭41及對位光源42相對上下兩個曝光框10a、IOb可有不同的升降行程，兩個曝光框10a、IOb遂被設(shè)置于不同的高度，但不同高度的曝光框10a、10b于進行曝光程序時，會有接受到不同強度的曝光能量而造成曝光不均勻的問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的主要技術(shù)問題在于，克服現(xiàn)有技術(shù)存在的上述缺陷，而提供一種曝光機標靶影像對位裝置及使用該裝置的曝光機，其具有攝影鏡頭及對位光源于移動過程不晃動的功效，且具有令曝光機的兩個曝光框接受相同強度曝光能量的功效。本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是—種曝光機標靶影像對位裝置結(jié)構(gòu)特征，是將ー對以上的攝影鏡頭及對位光源設(shè)置于一平移移載單元，而借該平移移載單元往復移載該攝影鏡頭及對位光源至停駐于對位裝置上方的曝光框上方。前述的曝光機標靶影像對位裝置，其中攝影鏡頭鏡頭前緣至置放于曝光框的エ件表面的距離在50 150mm之間。前述的曝光機標靶影像對位裝置，其中平移移載單元沿著該曝光框的移位走向平行設(shè)置有第一軸向滑軌，并于該第一軸向滑軌上設(shè)置有第一軸向滑座，而于該第一軸向滑座上設(shè)置有第二軸向滑軌，且于該第二軸向滑軌上設(shè)置有第二軸向滑座，該第二軸向滑座供該攝影鏡頭及對位光源設(shè)置。再者，本發(fā)明的曝光機結(jié)構(gòu)特征，包括有ー對位裝置；一曝光裝置；上、下曝光框，相對該對位裝置與該曝光裝置交替移位停駐；ー頂升裝置，將停駐狀態(tài)的該下曝光框頂升至與該上曝光框同一高度；以及ー標靶影像對位裝置，將ー對以上的攝影鏡頭及對位光源設(shè)置于一平移移載單元，而借該平移移載單元往復移載該攝影鏡頭及對位光源至停駐于該對位裝置上方的曝光框上方。此外，該攝影鏡頭鏡頭前緣至置放于曝光框的エ件表面的距離在50 150mm之間。又，該平移移載單元沿著該曝光框的移位走向平行設(shè)置有第一軸向滑軌，并于該第一軸向滑軌上設(shè)置有第一軸向滑座，而于該第一軸向滑座上設(shè)置有第二軸向滑軌，且于該第二軸向滑軌上設(shè)置有第二軸向滑座，該第二軸向滑座供該攝影鏡頭及對位光源設(shè)置。本發(fā)明的有益效果是，其具有攝影鏡頭及對位光源于移動過程不晃動的功效，且·具有令曝光機的兩個曝光框接受相同強度曝光能量的功效。


下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明進ー步說明。圖I是現(xiàn)有曝光機的動作狀態(tài)說明圖一。圖2是現(xiàn)有曝光機的動作狀態(tài)說明圖ニ。圖3是現(xiàn)有曝光機的動作狀態(tài)說明圖三。圖4是本發(fā)明的動作狀態(tài)說明圖一。圖5是本發(fā)明的動作狀態(tài)說明圖ニ。圖6是本發(fā)明的動作狀態(tài)說明圖三。圖中標號說明10a、IOb 曝光框20對位裝置30曝光裝置40、50標靶影像對位裝置41、51攝影鏡頭42、52對位光源43升降移載單元53平移移載單元531第一軸向滑軌532a、532b 第一軸向滑座533a、533b 第二軸向滑軌534a、534b 第二軸向滑座60頂升裝置
具體實施例方式首先，請參閱圖4 圖6所示，本發(fā)明的曝光機標靶影像對位裝置50，是將ー對以上的攝影鏡頭51及對位光源52設(shè)置于一平移移載單元53，該平移移載單元53往復移載該攝影鏡頭51及對位光源52至停駐于對位裝置20上方的曝光框10a、10b上方，用以擷取標靶影像，而該攝影鏡頭51鏡頭前緣至置放于曝光框的エ件表面的較佳距離約在50 150mm之間。再者，該平移移載單元53沿著該曝光框10a、10b的移位走向平行設(shè)置有第一軸向滑軌531，并于該第一軸向滑軌531上設(shè)置有第一軸向滑座532a、532b，而于該第一軸向滑座532a、532b上設(shè)置有第二軸向滑軌533a、533b，且于該第二軸向滑軌533a、533b上設(shè)置有第二軸向滑座534a、534b，該第二軸向滑座534a、534b則供該攝影鏡頭51及對位光源52設(shè)置，該攝影鏡頭51及對位光源52隨著第一軸向滑座532a、532b的滑移，而被往復移載至停駐于對位裝置20上方的曝光框10a、10b上方。此外，本發(fā)明的曝光機包括有一對位裝置20 ；一曝光裝置30 ;上、下曝光框10a、10b，相對該對位裝置20與該曝光裝置30交替移位停駐；ー頂升裝置60，將停駐狀態(tài)的該下曝光框IOb頂升至與該上曝光框IOa同一高度；以及ー標靶影像對位裝置50，將ー對以 上的攝影鏡頭51及對位光源52設(shè)置于一平移移載單元53，而借該平移移載單元53往復移載該攝影鏡頭51及對位光源52至停駐于該對位裝置20上方的曝光框10a、10b上方。根據(jù)上述結(jié)構(gòu)，本發(fā)明的曝光機標靶影像對位裝置50，是利用該平移移載單元53往復移載該攝影鏡頭51及對位光源52至停駐于對位裝置20上方的曝光框10a、10b上方，用以擷取標靶影像，而該攝影鏡頭51及對位光源52借由設(shè)置于第一軸向滑軌531的第一軸向滑座532a、532b予以移載，故其移載過程非常平穩(wěn)，而具有攝影鏡頭及對位光源于移動過程不晃動的功效。又，因一臺曝光機中通常會設(shè)置有上下兩個曝光框10a、10b，為了讓上下兩個曝光框10a、10b具有相同的標靶影像品質(zhì)，故借該頂升裝置60將該下曝光框IOb頂升至與該上曝光框IOa同一高度，再進行擷取標靶影像及對位的程序；而此將該下曝光框IOb頂升至與該上曝光框IOa同一高度的動作，亦可應(yīng)用于曝光程序，則具有令曝光機的兩個曝光框接受相同強度曝光能量的功效。以上所述，僅是本發(fā)明的較佳實施例而已，并非對本發(fā)明作任何形式上的限制，凡是依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實質(zhì)對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案的范圍內(nèi)。綜上所述，本發(fā)明在結(jié)構(gòu)設(shè)計、使用實用性及成本效益上，完全符合產(chǎn)業(yè)發(fā)展所需，且所掲示的結(jié)構(gòu)亦是具有前所未有的創(chuàng)新構(gòu)造，具有新穎性、創(chuàng)造性、實用性，符合有關(guān)發(fā)明專利要件的規(guī)定，故依法提起申請。
權(quán)利要求
1.一種曝光機標靶影像對位裝置，其特征在干，將ー對以上的攝影鏡頭及對位光源設(shè)置于一平移移載單元，而借該平移移載單元往復移載該攝影鏡頭及對位光源至停駐于對位裝置上方的曝光框上方。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的曝光機標靶影像對位裝置，其特征在于，所述攝影鏡頭鏡頭前緣至置放于曝光框的エ件表面的距離在50 150mm之間。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的曝光機標靶影像對位裝置，其特征在于，所述平移移載單元沿著該曝光框的移位走向平行設(shè)置有第一軸向滑軌，并于該第一軸向滑軌上設(shè)置有第一軸向滑座，而于該第一軸向滑座上設(shè)置有第二軸向滑軌，且于該第二軸向滑軌上設(shè)置有第ニ軸向滑座，該第二軸向滑座供該攝影鏡頭及對位光源設(shè)置。
4.一種如權(quán)利要求I所述的標靶影像對位裝置的曝光機，其特征在于，包括有 ー對位裝置； 一曝光裝置； 上、下曝光框，相對該對位裝置與該曝光裝置交替移位停駐； ー頂升裝置，將停駐狀態(tài)的該下曝光框頂升至與該上曝光框同一高度； ー標靶影像對位裝置，將ー對以上的攝影鏡頭及對位光源設(shè)置于一平移移載單元，而借該平移移載單元往復移載該攝影鏡頭及對位光源至停駐于該對位裝置上方的曝光框上方。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的曝光機，其特征在于，所述攝影鏡頭鏡頭前緣至置放于曝光框的エ件表面的距離在50 150mm之間。
6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的曝光機，其特征在于，所述平移移載單元沿著該曝光框的移位走向平行設(shè)置有第一軸向滑軌，并于該第一軸向滑軌上設(shè)置有第一軸向滑座，而于該第一軸向滑座上設(shè)置有第二軸向滑軌，且于該第二軸向滑軌上設(shè)置有第二軸向滑座，該第ニ軸向滑座供該攝影鏡頭及對位光源設(shè)置。
全文摘要
一種曝光機標靶影像對位裝置及使用該裝置的曝光機，曝光機標靶影像對位裝置，將一對以上的攝影鏡頭及對位光源設(shè)于一平移移載單元，借平移移載單元往復移載攝影鏡頭及對位光源至停駐于對位裝置上方的曝光框上方；使用平移式標靶影像對位裝置的曝光機，包括對位裝置；曝光裝置；上、下曝光框相對對位裝置與曝光裝置交替移位停駐；頂升裝置將停駐狀態(tài)的下曝光框頂升至與上曝光框同一高度；及一標靶影像對位裝置，將一對以上的攝影鏡頭及對位光源設(shè)于一平移移載單元，借平移移載單元往復移載該攝影鏡頭及對位光源至停駐于對位裝置上方的曝光框上方。本發(fā)明具有攝影鏡頭及對位光源于移動過程不晃動及令兩個曝光框接受相同強度曝光能量的功效。
文檔編號G03F7/20GK102789143SQ20111012716
公開日2012年11月21日 申請日期2011年5月17日 優(yōu)先權(quán)日2011年5月17日
發(fā)明者張鴻明 申請人:川寶科技股份有限公司