專利名稱：光致抗蝕劑組合物的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光致抗蝕劑組合物t
背景技術(shù)：
光致抗蝕劑組合物用于采用光刻工藝的半導(dǎo)體微制造。JP 2009-237379A1公開了一種光致抗蝕劑組合物，所述光致抗蝕劑組合物包括 樹脂(XI)，所述樹脂(Xl)具有衍生自由式(D)表示的單體、由式(B)表示的單體和由式(J) 表示的單體的結(jié)構(gòu)單元；樹脂(X2)，所述樹脂、\1、具有衍生自由式(D)表示的單體、由式 (B)表示的單體、由式(J)表示的單體和由式(K)表示的單體的結(jié)構(gòu)單元；以及，作為酸生 成劑的甲苯基二苯基锍全氟丁磺酸鹽。
權(quán)利要求
1.一種光致抗蝕劑組合物，所述光致抗蝕劑組合物包含 樹脂，所述樹脂包含衍生自由式(I)表示的化合物的結(jié)構(gòu)單元
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物，其中X1是*-C0-0-X3-，其中X3表示單鍵 或C1-C15亞烷基，并且*表示與-COi1) (Q2)-的結(jié)合位置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物，其中Z+是三芳基锍陽離子。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物，所述光致抗蝕劑組合物還包含堿性化合物。
5.一種用于制造光致抗蝕劑圖案的方法，所述方法包括下面的步驟(1)至(5)(1)將根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物涂覆在襯底上的步驟，(2)通過進行干燥而形成光致抗蝕劑膜的步驟，(3)將所述光致抗蝕劑膜對輻射曝光的步驟，(4)將已曝光的光致抗蝕劑膜烘焙的步驟，以及(5)使用堿性顯影劑將已烘焙的光致抗蝕劑膜顯影，由此形成光致抗蝕劑圖案的步驟。
全文摘要
本發(fā)明提供一種光致抗蝕劑組合物，所述光致抗蝕劑組合物包含樹脂，該樹脂包含衍生自由式(I)表示的化合物的結(jié)構(gòu)單元，其中R1表示C1-C6含氟烷基，R2表示氫原子或甲基，并且A表示C1-C10二價飽和烴基，并且該樹脂不溶或難溶于堿性水溶液，但是通過酸的作用變得可溶于堿性水溶液；以及由式(II)表示的酸生成劑，其中Q1和Q2各自獨立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，X1表示單鍵或C1-C17二價飽和烴基，在所述C1-C17二價飽和烴基中，一個或多個-CH2-可以被-O-或-CO-代替，Y1表示可以具有一個或多個取代基的C1-C36脂族烴基，等，并且Z+表示有機抗衡陽離子。
文檔編號G03F7/004GK102053495SQ20101054111
公開日2011年5月11日 申請日期2010年11月5日 優(yōu)先權(quán)日2009年11月10日
發(fā)明者夏政煥, 市川幸司, 橋本和彥 申請人:住友化學(xué)株式會社