專利名稱：液晶顯示設備及其制造方法
技術(shù)領域：
本發(fā)明涉及液晶顯示設備和制造液晶顯示設備的方法，更具體地涉及具有濾色器 的液晶顯示設備和制造液晶顯示設備的方法，該濾色器具有三維(3D)圖案結(jié)構(gòu)，該三維 (3D)圖案結(jié)構(gòu)設置有用于選擇性地透射特定波長的光的透射圖案。
背景技術(shù)：
近來，隨著信息顯示變得更加引人注目和對使用便攜式信息媒體的需求增加，替 代作為現(xiàn)有顯示設備的陰極射線管(CRT)的輕且薄的平板顯示器(FPD)的研究和商業(yè)化已 增加。在FPD中，液晶顯示(IXD)設備使用液晶的光學各向異性來顯示圖像。IXD設備展現(xiàn) 出優(yōu)良的分辨率、色彩再現(xiàn)特性、圖像質(zhì)量等，因而它們廣泛應用于膝上型計算機、桌面型 監(jiān)視器等。LCD設備包括濾色基板、陣列基板和在濾色基板與陣列基板之間插入的液晶層。 LCD設備的制造需要多次執(zhí)行掩模工藝(即，光刻工藝)。因此，降低掩模的數(shù)量可以提高
生產(chǎn)率。以下，參照圖1詳細地描述相關技術(shù)LCD設備的結(jié)構(gòu)。圖1是示出相關技術(shù)LCD 設備的結(jié)構(gòu)的立體圖。如圖1所示，LCD設備包括濾色基板5、陣列基板10和在濾色基板5 與陣列基板10之間插入的液晶層30。濾色基板5設置有濾色器C、黑底6以及用于向液晶層30施加公共電壓的透明公 共電極8，濾色器C具有用于呈現(xiàn)紅色(R)、綠色(G)和藍色(B)的多個子濾色器7，黑底6 劃分相鄰的子濾色器7并阻擋光透射通過液晶層30。陣列基板10設置有水平及縱向地設置以限定多個像素區(qū)域P的多條選通線16 及數(shù)據(jù)線17 ；作為開關器件的薄膜晶體管(TFT) T，其形成在選通線16和數(shù)據(jù)線17之間的 交叉處；以及像素電極18，其形成在各像素區(qū)域P上。彼此相對的濾色基板5與陣列基板10通過在圖像顯示區(qū)域的邊緣處形成的密封 劑(未示出)而彼此粘結(jié)，由此構(gòu)成液晶板。利用在濾色基板5處或在陣列基板10處形成 的對準鍵(未示出)而實現(xiàn)濾色基板5與陣列基板10之間的附接。為了防止在附接時由于對準誤差所導致的光泄漏，將黑底的線寬設置為寬的，以 保證對準余量。但是，黑底的線寬的增加導致液晶板的孔徑比的降低。在LCD設備中使用的相關技術(shù)濾色器配置為通過使用染料或顏料吸收具有對應 于不必要顏色的頻率分量的光而過濾入射光的多個部分。具體地說，在入射在一個子像素 上的白光中，濾色器透射具有三基色(即，RGB)中的僅一種顏色的光。因此，針對濾色器難 以期望超過30%的透射率。因此，降低了板的透射效率，這由于需要增加背光功率而導致功
^^ ο圖2是示出在使用利用了顏料分散方法的相關技術(shù)濾色器時板的透射效率的示 例圖。如圖2所示，當從背光發(fā)出的光順序地透射通過偏振器、TFT陣列、液晶和濾色器時， 該光降低為低于其原始量的5%。在該示例中，偏振器、TFT陣列和濾色器分別具有大約40 %、45-55 %、以及25 %的透射率。在制造相關技術(shù)濾色器時，針對各種基色重復進行彩色光阻涂敷、曝光、顯影和硬 化工藝。因此，整個制造工藝復雜。此外，除了 TFT生產(chǎn)線，還應該運行濾色器生產(chǎn)線以在 濾色基板上制造濾色器，由此增加了線安裝成本。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明旨在一種液晶顯示設備以及制造該液晶顯示設備的方法，其能夠基 本上克服因相關技術(shù)的局限和缺點帶來的一個或更多個問題。本發(fā)明的目的是提供一種IXD設備以及制造IXD設備的方法，通過使用表面等離 振子現(xiàn)象而不使用現(xiàn)有的染料或顏料來形成具有提高的透射效率的濾色器，該LCD設備能 夠提高板的孔徑比和透射率。本發(fā)明的另一目的是提供LCD設備以及制造LCD設備的方法，通過使用濾色器作 為公共電極或后表面ITO或者在下陣列基板上形成濾色器，該LCD設備能夠簡化制造工藝 并降低成本。本發(fā)明的附加特征和優(yōu)點將在下面的描述中描述且將從描述中部分地顯現(xiàn)，或者 可以通過本發(fā)明的實踐來了解。通過書面的說明書及其權(quán)利要求以及附圖中特別指出的結(jié) 構(gòu)可以實現(xiàn)和獲得本發(fā)明的目的和其它優(yōu)點。為了實現(xiàn)這些和其它優(yōu)點，按照本發(fā)明的目的，作為具體和廣義的描述，制造液晶 顯示設備的方法包括以下步驟制備第一基板和第二基板；在所述第一基板上形成薄膜晶 體管，該薄膜晶體管包括柵極、半導體層、源極和漏極；在所述第一基板上形成與所述漏極 連接的像素電極；形成具有透射圖案的濾色器，所述透射圖案具有多個周期性的孔；在所 述第一基板與所述第二基板之間形成密封劑；以及彼此粘結(jié)所述第一基板和所述第二基 板。在另一方面，液晶顯示設備包括第一基板；在所述第一基板上形成的薄膜晶體 管，該薄膜晶體管包括柵極、半導體層、源極和漏極；在所述第一基板上形成的與所述漏極 連接的像素電極；具有透射圖案的濾色器，所述透射圖案具有多個周期性的孔；與所述第 一基板粘結(jié)的第二基板；以及在所述第一基板與所述第二基板之間形成的密封劑。應當理解，上述一般描述和下述詳細描述是示例性和說明性的，且旨在提供所要 求保護的本發(fā)明的進一步解釋。


附圖被包括進來以提供對本發(fā)明的進一步理解，并結(jié)合到本說明書中且構(gòu)成本說 明書的一部分，附圖示出了本發(fā)明的實施方式，且與說明書一起用于解釋本發(fā)明的原理。在 附圖中圖1是示出相關技術(shù)IXD設備的立體圖；圖2是示出在使用根據(jù)相關技術(shù)的利用了普通顏料分散方法的濾色器時板的透 射效率的示例圖；圖3A和圖:3B是分別示出根據(jù)本發(fā)明第一示例性實施方式使用表面等離振子現(xiàn)象 而制造的濾色器的結(jié)構(gòu)的平面圖和截面圖4是根據(jù)本發(fā)明第一示例性實施方式的濾色器的平面圖；圖5至圖7是示出根據(jù)本發(fā)明第一示例性實施方式的LCD設備的結(jié)構(gòu)的截面圖；圖8是示出根據(jù)在圖6中示出的第一示例性實施方式的LCD設備的陣列基板的一 部分的平面圖；圖9A至圖9E是順序地示出在圖6和圖8中示出的陣列基板的制造工藝的平面 圖；圖IOA至圖IOE是順序地示出在圖6和圖8中示出的陣列基板的制造工藝的截面 圖；圖11是示出根據(jù)本發(fā)明第二示例性實施方式的濾色器的平面圖；圖12至圖14是示出根據(jù)本發(fā)明第二示例性實施方式的LCD設備的結(jié)構(gòu)的截面 圖；圖15是示出根據(jù)在圖13中示出的第二示例性實施方式的LCD設備的陣列基板的 一部分的平面圖；圖16A至圖16E是順序地示出在圖13和圖15中示出的陣列基板的制造工藝的平 面圖；圖17A至圖17E是順序地示出在圖13和圖15中示出的陣列基板的制造工藝的截 面圖；和圖18是示出根據(jù)本發(fā)明第三示例性實施方式制造的濾色器的結(jié)構(gòu)的立體圖。
具體實施例方式下面將詳細描述本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，在附圖中例示出了其示例。通過提高相關技術(shù)中的陣列基板的孔徑比而導致的透射率的提高面臨物理上的 限制。因此，為了提高透射比，一般的范例需要改變?yōu)樾碌姆独?。已引入一種過濾光的方法，該方法通過金屬或介電層形成透射圖案來選擇性地透 射具有特定波長的光。本發(fā)明提供通過使用表面等離振子或共振現(xiàn)象而形成金屬層以能夠 選擇性地透射紅色、綠色和藍色光的濾色器。圖3A和圖:3B是分別示出根據(jù)本發(fā)明示例性實施方式使用表面等離振子現(xiàn)象而制 造的濾色器的結(jié)構(gòu)的平面圖和截面圖。如圖3A和圖;3B示出的，如果具有預定間隔(period)L的子波長透射圖案153通 過層152形成，具有從可見光線到近紅外線的波長的入射光(線)的電場耦合到等離振子。 層152可以是金屬層或介電層。為了簡化，層152將被稱為金屬層。但是，使用諸如層152 的介電材料可以做出類似的結(jié)構(gòu)。如圖:3B所示，金屬層152可以形成在介電層上。在該情況下，介電層的未填充有 金屬層152的部分將形成子波長透射圖案153。另選地，盡管未示出，通過在金屬層中填充 介電材料而可以形成介電子波長透射圖案153。在該情況下，金屬層的未填充有介電子波長 透射圖案153的部分將是金屬層152。利用這些配置，透射具有特定波長的光線并且其余都 被反射，由此實現(xiàn)RGB顏色。例如，如果具有預定間隔L的多個子波長孔通過銀膜形成，則根據(jù)各個孔的尺寸d 和間隔L透射具有特定波長的僅選擇的紅色、綠色和藍色光線，以表現(xiàn)RGB顏色。另外，光
7線的透射吸引鄰近孔的光線，導致與孔的面積相比的更多的光線的透射。另外，為了實現(xiàn)高純度的顏色，對應于各個波長的子波長透射圖案153的厚度可 以獨立地調(diào)整。具體地說，針對各個波長的子波長透射圖案153的厚度可以改變。例如，如 圖3B所示，對應于針對各個波長的各個子波長透射圖案153的金屬層152的厚度可以增加 并且隨后減少。另選地，針對各個波長的子波長透射圖案153的厚度可以增加并且隨后減 少。但是，本發(fā)明不限于此。具體地說，針對各個波長的子波長透射圖案153的厚度可以設 置為是均勻的。此外，可以將子波長透射圖案153的厚度設置為與金屬層152的厚度相同。等離振子指一種自由電子在金屬的表面上感應的準粒子，其通過入射光的電場而 全體地振蕩。表面等離振子表示等離振子局部地存在于金屬表面上，這對應于沿金屬與電 介質(zhì)之間的界面行進的電磁波。表面等離振子現(xiàn)象指的是，隨著入射在具有納米尺寸的周期性孔圖案的金屬表面 上的特定波長的光與在金屬表面上的自由電子共振而形成特定波長的光。僅使特定波長的 光透射通過孔。因此，使其它波長的光從金屬表面反射。這樣的特性可以用于調(diào)整透射圖案的間隔以允許所希望的光的透射，由此將白光 分為不同顏色。這里，透射的光具有對應于透射圖案的間隔的大約1.7至2倍的波長。因 此，可以通過調(diào)整透射圖案的間隔來透射具有希望波長的光。這里，如果需要的話，透射圖案的孔的水平截面表面可以改變?yōu)楦鞣N形狀，諸如橢 圓形、三角形、正方形、矩形等，而不限于諸如孔的簡單的圓形。針對孔，可以具有一尺寸，即 在IOOnm至300nm的范圍中的直徑和300nm至700nm的范圍中的間隔?？椎拈g隔和尺寸可 以分別設置為大約300nm和155nm，以透射具有436nm波長的藍色光?？椎拈g隔和尺寸可以 分別設置為大約450nm和180nm，以透射具有538nm波長的綠色光。另外，孔的間隔和尺寸 可以分別設置為大約^Onm和225nm，以透射具有627nm波長的紅色光。同樣，在金屬層處形成具有預定間隔和尺寸的孔圖案，由此利用在金屬層上出現(xiàn) 的表面等離振子現(xiàn)象而用作濾色器。另外，這樣的孔圖案結(jié)構(gòu)可以應用于LCD設備以實現(xiàn) 顏色。這里，在上濾色基板上已形成相關技術(shù)濾色器。但是，在本發(fā)明中提出的使用表面 等離振子的濾色器可以形成在下陣列基板上或基板外部，但不限于此。通過高溫工藝不能形成使用染料或顏料的相關技術(shù)濾色器。但是，使用金屬層的 濾色器允許薄膜晶體管(TFT)通過高溫工藝制造在金屬層處。此外，在下陣列基板處形成 濾色器導致克服了相關技術(shù)LCD設備的問題(如，別無選擇而降低孔徑比以保證用于粘結(jié) 上濾色基板與下陣列基板的對準余量)。當TFT和濾色器全部形成在陣列基板上時，可以期望擴展到簡化工藝、或甚至去 除LCD設備的上濾色基板的技術(shù)。因此，連鎖反應可以是巨大的。圖4是根據(jù)本發(fā)明第一示例性實施方式的濾色器的平面圖，其示出用于應用到扭 曲向列(TN)型LCD設備的濾色器，在扭曲向列(TN)型LCD設備中在向列上的液晶分子垂 直于基板地被驅(qū)動。這里，示例圖例示針對一個像素的濾色器，其包括從左側(cè)起的對應于藍色、紅色和 綠色的子濾色器。另選地，本發(fā)明還可用于實現(xiàn)各種顏色，即多于三基色的顏色。如圖4所示，根據(jù)本發(fā)明第一示例性實施方式的濾色器150可以包括透射圖案153，透射圖案153包括通過金屬層152形成的具有間隔的多個子波長孔。因此，具有從可 見光線到近紅外線的波長的入射光的電場耦合到等離振子，這促使僅具有分別對應于藍 色、紅色或綠色的波長的光被透射，并且其余的光全部被反射，由此分別產(chǎn)生藍色、紅色或 綠色。這里，在除了選通線、數(shù)據(jù)線和TFT所位于的區(qū)域之外的像素區(qū)域內(nèi)形成透射層 圖案153的多個子波長孔。另外，孔的間隔和尺寸可以分別設置為大約300nm和155nm，以透射具有436nm波 長的藍色光。孔的間隔和尺寸可以分別設置為大約550nm和225nm，以透射具有627nm波長 的紅色光。另外，孔的間隔和尺寸可以分別設置為大約450nm和180nm，以透射具有538nm 波長的綠色光。圖5至圖7是示出根據(jù)本發(fā)明第一示例性實施方式的LCD設備的結(jié)構(gòu)的截面圖。 如圖5所示，用于在LCD設備中實現(xiàn)使用表面等離振子的濾色器的方法可以包括將根據(jù)本 發(fā)明第一示例性實施方式的濾色器150形成在上濾色基板105上的方法。這里，可以預期多個優(yōu)點。例如，RGB濾色器可以通過在單個金屬層處以一個步驟 工藝形成透射圖案而產(chǎn)生，并接著替代上ITO公共電極而使用，這導致制造工藝的簡化和 制造成本的降低。使用表面等離振子的濾色器150的金屬層的整個表面可以涂敷有具有相同折射 率的絕緣層。因此，為了在玻璃基板上形成濾色器150，可以適合于在玻璃基板上形成折射 率與玻璃基板的折射率相同的絕緣層(如SiO2等)106。由于金屬與相鄰絕緣層的介電常 數(shù)影響表面等離振子，這將更有效地形成二元系統(tǒng)。使用表面等離振子的濾色基板105和濾色器150通過在圖像顯示區(qū)域的邊緣處的 密封劑170粘結(jié)到陣列基板110，使得由于柱狀間隔體160而在其間維持均勻的單元間隙。 陣列基板110包括水平及縱向地設置以限定多個像素區(qū)域的多條選通線(未示出)及數(shù) 據(jù)線(未示出)；作為開關器件的TFT，其形成在選通線和數(shù)據(jù)線之間的交叉處；以及像素 電極118，其形成在像素區(qū)域P上。濾色器150可以一直延伸到圖像顯示區(qū)域的外圍，以用作ITO公共電極，因而密封 劑170可以位于上濾色基板105的濾色器150與下陣列基板110之間。另外，各個TFT包括連接到選通線的柵極121 ；連接到數(shù)據(jù)線的源極122 ；和連接 到像素電極118的漏極123。TFT還包括第一絕緣層115a，用于將柵極121從源極122以 及漏極123絕緣；和有源圖案124，其響應于施加到柵極121的柵極電壓而形成源極122與 漏極123之間的導電溝道。標號11 和125η分別表示第二絕緣層和用于有源圖案124的 源區(qū)與漏區(qū)之間、以及源極122與漏極123之間進行歐姆接觸的歐姆接觸層。使用表面等離振子的濾色器即使在由于使用金屬層的高溫工藝期間也不損壞。結(jié) 果，可以在陣列基板上形成濾色器。圖6和圖7例示在下陣列基板上使用表面等離振子來 形成濾色器的示例性方法。如圖6所示，可以在單元內(nèi)(例如在TFT陣列之下)形成濾色器150。另選地，如 圖7所示，可以在單元外部(例如在陣列基板110的外表面上)形成濾色器150。上濾色基板105可以包括除濾色器和黑底以外的公共電極108。在陣列基板110 上形成的使用表面等離振子的濾色器150可以浮置或接地。
密封劑170可以形成在上濾色基板105的公共電極108與下陣列基板110或濾色 器150之間。另選地，當在濾色器150上形成絕緣層106時，密封劑170可以形成在上濾色 基板105的公共電極108與陣列基板110的絕緣層106之間。同樣，當在陣列基板110上形成濾色器150時，不必要保證用于上濾色基板105和 下陣列基板110的對準余量。此外，可以提高孔徑比，由此提高板的透射率。板透射率的提 高可以使得降低背光的亮度，由此降低由于背光導致的功耗。由于背光的功耗的降低，可以 產(chǎn)生多顏色的像素，這提供了具有真實顏色再現(xiàn)的高畫面質(zhì)量。另外，如果濾色器150形成 在陣列基板110上以取消濾色器工藝線，則設備安裝成本和建設成本可以有效地降低大約 50%?，F(xiàn)在參照附圖將詳細地描述根據(jù)本發(fā)明第一示例性實施方式的在扭曲向列(TN) 型LCD設備中例如當在陣列基板上形成使用表面等離振子的濾色器時陣列基板的結(jié)構(gòu)及 其制造方法。圖8是示出根據(jù)在圖6中示出的第一示例性實施方式的LCD設備的陣列基板的一 部分的平面圖。為了進行說明，示例性地例示了從圖中左側(cè)起由對應于藍色、紅色和綠色的 子濾色器組成的一個像素。但是，本發(fā)明可以不限于該像素結(jié)構(gòu)，而是可適用于實現(xiàn)多于三 基色的多顏色。本發(fā)明第一示例性實施方式例示垂直于基板地驅(qū)動向列上的液晶分子的TN型 IXD設備。對應于藍色、紅色和綠色的子濾色器大致包括除了濾色器的結(jié)構(gòu)以外的相同組 件，如透射圖案的尺寸和間隔(間距)。如圖8所示，根據(jù)第一示例性實施方式的陣列基板110包括水平及縱向地設置在 陣列基板110上以限定像素區(qū)域的選通線116及數(shù)據(jù)線117。另外，作為開關器件的薄膜晶 體管(TFT)形成在選通線116與數(shù)據(jù)線117之間的各個交叉處，并且像素電極118形成在 各個像素區(qū)域上，像素電極118連接到TFT以與濾色基板(未示出)的公共電極協(xié)作地驅(qū)
動液晶層。TFT可以包括形成選通線116的一部分的柵極121 ；連接到數(shù)據(jù)線117的源極 122;以及連接到像素電極118的漏極123。TFT還可以包括第一絕緣層(未示出)以將柵 極121從源極122以及漏極123絕緣；和有源圖案(未示出)，其響應于提供到柵極121的 柵極電壓而形成源極122與漏極123之間的導電溝道。源極122在一個方向上部分地延伸以實現(xiàn)數(shù)據(jù)線117的一部分。漏極123朝向像 素區(qū)域部分地延伸以經(jīng)由在第二絕緣層(未示出)處形成的接觸孔140電連接到像素電極 118。根據(jù)第一示例性實施方式的使用表面等離振子的濾色器150位于具有這樣配置 的陣列基板110的最下層。濾色器150包括通過金屬層152形成的透射圖案153，該金屬層 152包括具有間隔L的多個子波長孔。具有從可見光線到近紅外線的波長的入射光(線) 的電場耦合到等離振子。結(jié)果，僅具有對應于藍色、紅色或綠色的特定波長的光被透射，而 其余全部被反射，由此分別實現(xiàn)藍色、紅色或綠色。圖9A至圖9E是順序地示出在圖6和圖8中示出的陣列基板的制造工藝的平面圖。 圖IOA至圖IOE是順序地示出在圖6和圖8中示出的陣列基板的制造工藝的截面圖。如圖9A和圖IOA所示，使用表面等離振子的濾色器150形成在陣列基板110上，
10該陣列基板110由諸如玻璃的透明絕緣材料形成。濾色器150包括在金屬層152中形成的 透射圖案153，并且包括具有間隔L的多個子波長孔。透射圖案153可以由具有高透射率和 高的光學特性的透明聚合物、旋涂玻璃(spin on glass，S0G)、有機或無機材料等制成。金 屬層152可以由鋁、鉬、銅、金、銀、鉻等制成。濾色器150可以按照以下方式制造，該方式為通過軟成型、毛細作用力平版印刷 術(shù)、使用剛-柔性模的聚合物層過渡構(gòu)圖、使用UV可固化聚合物的構(gòu)圖等而形成透射圖案 153，之后進行金屬層沉積和平整工藝。本發(fā)明不限于形成濾色器150的該方法。根據(jù)本發(fā)明第一示例性實施方式的具有這樣的結(jié)構(gòu)的濾色器150可以通過選擇 性地使紅色透射通過紅色區(qū)域內(nèi)的紅色透射圖案、通過選擇性地使綠色透射通過綠色區(qū) 域內(nèi)的綠色透射圖案、并通過選擇性地使藍色透射通過藍色區(qū)域內(nèi)的藍色透射圖案而實現(xiàn) RGB顏色。在根據(jù)本發(fā)明第一示例性實施方式的濾色器150的結(jié)構(gòu)中，透射圖案、即對應于 藍色、紅色和綠色子像素的孔圖案已按照不同尺寸形成。此外，金屬層已形成有不同的厚度 以增加透射效率。具體地說，厚的紅色透射圖案形成在紅色區(qū)域中。綠色透射圖案至少比 紅色透射圖案薄。最薄的藍色透射圖案形成在該顏色區(qū)域中。但是，本發(fā)明可以不限于此。 當在玻璃基板上形成濾色器150時，與玻璃基板相同的絕緣層(SiA等)106可以形成在其 上具有濾色器150的陣列基板110上。如圖9B和圖IOB所示，在其上形成有絕緣層160的陣列基板110上形成柵極121 和選通線116。通過在陣列基板110的整個表面上沉積第一導電膜并對其通過光刻工藝執(zhí)行選 擇性構(gòu)圖而可以形成柵極121和選通線116。第一導電膜可以由低電阻不透明導電材料制成，該材料的示例包括鋁(Al)、鋁合 金、鎢(W)、銅(Cu)、鉻(Cr)、鉬(Mo)、鉬合金等。第一導電膜可以形成為具有沉積的兩種或 更多種的低電阻導電材料的多層結(jié)構(gòu)。如圖9C和圖IOC所示，陣列基板110的具有柵極121和選通線116的整個表面 上順序地沉積有第一絕緣層115a、非晶硅薄膜、η+非晶硅薄膜、以及第二導電膜，這些在以 后通過光刻工藝選擇性地去除，由此在陣列基板110上形成由非晶硅薄膜制成的有源圖案 124。形成源極122和漏極123，它們由第二導電膜制成并電連接到有源圖案124的源區(qū)和漏區(qū)。由第二導電膜制成并通過與選通線116交叉來限定像素區(qū)域的數(shù)據(jù)線117通過光 刻工藝形成。在有源圖案1 上形成由η+非晶硅薄膜制成并構(gòu)圖為與源極122和漏極123 相同形狀的歐姆接觸層125η。根據(jù)本發(fā)明第一示例性實施方式的有源圖案124、源極122 和漏極123、以及數(shù)據(jù)線117可以通過使用半色調(diào)掩?；蜓苌溲谀５囊淮窝谀９に噥硇纬?。第二導電膜可以由低電阻不透明導電材料制成，該材料的示例包括鋁(Al)、鋁合 金、鎢(W)、銅(Cu)、鉻(Cr)、鉬(Mo)、鉬合金等。第二導電膜可以形成為具有沉積的兩種或 更多種的低電阻導電材料的多層結(jié)構(gòu)。如圖9D和圖IOD所示，在陣列基板110的其上形成有源圖案124、源極122和漏極 123以及數(shù)據(jù)線117的整個表面上形成第二絕緣層11 之后，通過光刻工藝選擇性地去除 第二絕緣層115b，由此在陣列基板110上形成接觸孔140，以部分地露出漏極123。
11
第二絕緣層11 可以由硅氮化物或硅氧化物制成，或者另選地由諸如感光亞克 力或苯并環(huán)丁烯(BCB)的有機絕緣層制成。如圖9E和圖IOE所示，在陣列基板110的其上形成有第二絕緣層11 的整個表面 上形成第三導電膜之后，通過光刻工藝選擇性地去除第三導電膜，由此形成像素電極118， 該像素電極118經(jīng)由接觸孔140電連接到漏極123。第三導電膜可以由諸如銦錫氧化物 (ITO)或銦鋅氧化物(IZO)的具有高透射率的透明導電材料制成。根據(jù)本發(fā)明第一示例性實施方式的前面描述是關于垂直于基板地驅(qū)動向列上的 液晶分子的TN型LCD設備。但是，本發(fā)明可以不限于此。本發(fā)明也可以適用于與基板水平 地驅(qū)動液晶分子以提高視角到大于170°的共面切換(IPS)型LCD設備。圖11是示出根據(jù)本發(fā)明第二示例性實施方式的濾色器的平面圖，其例示應用于 與基板水平地驅(qū)動液晶分子以提高視角到大于170°的IPS型LCD設備的濾色器。這里，為 了進行說明，示例性地例示了從圖中左側(cè)起由對應于藍色、紅色和綠色的子濾色器組成的 用于一個像素的濾色器。但是，本發(fā)明可以不限于該像素結(jié)構(gòu)，而是可適用于實現(xiàn)多于三基 色的多顏色。如圖11所示，濾色器250包括在金屬層252中形成的透射圖案253，該金屬層252 包括具有間隔L的多個子波長孔。具有從可見光線到近紅外線的波長的入射光(線)的電 場耦合到等離振子。結(jié)果，僅具有對應于藍色、紅色或綠色的特定波長的光被透射，并且其 余的光全部被反射，由此分別實現(xiàn)藍色、紅色或綠色。在除了選通線、數(shù)據(jù)線和TFT所位于的區(qū)域之外的像素區(qū)域內(nèi)形成透射層圖案 253。此外，透射圖案的孔的截面圖可以具有各種形狀，諸如橢圓形、三角形、正方形、矩 形等，而不限于諸如孔的圓形。針對圓形孔，可以具有在IOOnm至300nm的范圍中的直徑和 300nm至700nm的范圍中的間隔?？椎拈g隔和尺寸可以分別設置為大約300nm和155nm，以 透射具有436nm波長的藍色光?？椎拈g隔和尺寸可以分別設置為大約550nm和225nm，以透 射具有627nm波長的紅色光。另外，孔的間隔和尺寸可以分別設置為大約450nm和180nm， 以透射具有538nm波長的綠色光。圖12至圖14是示出根據(jù)本發(fā)明第二示例性實施方式的LCD設備的結(jié)構(gòu)的截面 圖。如圖12所示，用于在LCD設備中實現(xiàn)使用表面等離振子的濾色器的方法可以包括根據(jù) 本發(fā)明第二示例性實施方式在上濾色基板205上形成濾色器250的方法。這里，可以預期多個優(yōu)點。例如，RGB濾色器可以通過在單個金屬層處以一個步驟 工藝形成透射圖案而產(chǎn)生，并接著替代上ITO后電極而使用，這導致整個工藝的簡化和制 造成本的降低。使用表面等離振子的濾色器250的金屬層的整個表面可以涂敷有具有相同折射 率的絕緣層。因此，為了在玻璃基板上形成濾色器250，可以適合于在玻璃基板上形成折射 率與玻璃基板的折射率相同的絕緣層(如SiO2等)206。濾色基板205和使用表面等離振子的濾色器250通過在圖像顯示區(qū)域的邊緣處的 密封劑270而粘結(jié)到陣列基板210，使得由于柱狀間隔體260而在其間維持均勻的單元間 隙。陣列基板210包括水平及縱向地設置以限定多個像素區(qū)域的多條選通線(未示出) 及數(shù)據(jù)線(未示出)；作為開關器件的TFT，其形成在選通線和數(shù)據(jù)線之間的交叉處；以及像素電極218和公共電極208，其交替地設置在像素區(qū)域P上，以生成橫向場。濾色器250可以一直延伸到圖像顯示區(qū)域的外圍，以用作ITO后電極，因而密封劑 270可以位于上濾色基板205的濾色器250與下陣列基板210之間。另外，各個TFT包括連接到選通線的柵極221 ；連接到數(shù)據(jù)線的源極222 ；和連接 到像素電極218的漏極223。TFT還包括第一絕緣層215a，用于將柵極221從源極222以 及漏極223絕緣；和有源圖案224，其響應于提供到柵極221的柵極電壓而形成源極222與 漏極223之間的導電溝道。還設置有第二絕緣層21 和用于在有源圖案224的源區(qū)與漏 區(qū)之間、以及源極222與漏極223之間進行歐姆接觸的歐姆接觸層225η。圖13和圖14示出在下陣列基板上形成使用表面等離振子的濾色器的示例性方 法。如圖13所示，可以在單元內(nèi)(例如在TFT陣列的下表面上)形成濾色器250。另選地， 如圖14所示，可以在單元外部(例如在陣列基板210的外表面上)形成濾色器250。上濾色基板205可以包括除了濾色器和黑底以外的例如用于防止靜電的ITO后電 極207的另一部件。在陣列基板210上形成的使用表面等離振子的濾色器250可以浮置或 接地。密封劑270可以形成在上濾色基板205與下陣列基板210或濾色器250之間。另 選地，當在濾色器250上形成絕緣層206時，密封劑270可以形成在上濾色基板205與陣列 基板210的絕緣層206之間。同樣，當在陣列基板210上形成濾色器250時，不必要保證用于上濾色基板205和 下陣列基板210的對準余量。此外，可以提高孔徑比，由此提高板的透射率。板透射率的提 高可以使得降低背光的亮度，由此降低由于背光導致的功耗。由于背光的功耗的降低，可以 產(chǎn)生多顏色的像素，以獲得具有真實顏色再現(xiàn)的高畫面質(zhì)量。另外，如果濾色器250形成 在陣列基板210上以取消濾色器工藝線，則設備安裝成本和建設成本可以有效地降低大約 50%?，F(xiàn)在參照附圖將詳細地描述根據(jù)本發(fā)明第二示例性實施方式的在IPS型LCD設備 中例如當在陣列基板上形成使用表面等離振子的濾色器時陣列基板的結(jié)構(gòu)及其制造方法。圖15是示出根據(jù)在圖13中示出的第二示例性實施方式的LCD設備的陣列基板的 一部分的平面圖。為了進行說明，示例性地例示了從圖中左側(cè)起由對應于藍色、紅色和綠色 的子濾色器組成的一個像素。但是，本發(fā)明可以不限于該像素結(jié)構(gòu)，而是可適用于實現(xiàn)各種 基色，即、3種以上的基色。本發(fā)明第二示例性實施方式例示與基板水平地驅(qū)動液晶分子以提高視角為大于 170°的IPS型IXD設備。對應于藍色、紅色和綠色的子濾色器大致包括除了濾色器的結(jié)構(gòu) (如透射圖案的尺寸和間隔)以外的相同組件。如圖15所示，根據(jù)第二示例性實施方式的陣列基板210包括水平及縱向地設置在 陣列基板210上以限定像素區(qū)域的選通線216及數(shù)據(jù)線217。另外，作為開關器件的薄膜晶 體管(TFT)形成在選通線216與數(shù)據(jù)線217之間的各個交叉處。在各個像素區(qū)域中交替地 形成通過生成橫向場而驅(qū)動液晶(未示出)的公共電極208和像素電極218。TFT可以包括形成選通線216的一部分的柵極221 ；連接到數(shù)據(jù)線217的源極 222 ；以及連接到像素電極218的漏極223。TFT還可以包括第一絕緣層(未示出)，用以將 柵極221從源極222以及漏極223絕緣；和有源圖案(未示出)，其響應于提供到柵極221的柵極電壓而形成源極222與漏極223之間的導電溝道。這里，源極222在圖中示出為“U” 形，因而TFT也實現(xiàn)為“U”形。但是，本發(fā)明不限于該形狀，而是與TFT的溝道的形狀無關 地可適用。源極222在一個方向上部分地延伸以實現(xiàn)數(shù)據(jù)線217的一部分。漏極223朝向 像素區(qū)域部分地延伸以經(jīng)由在第二絕緣層(未示出)處形成的第一接觸孔MOa電連接到 像素電極218。在像素區(qū)域中交替地設置用于生成橫向場的多個公共電極208和像素電極 218。在各個像素區(qū)域的下端處形成大致與選通線216平行的公共線208L。公共電極 208經(jīng)由在第一絕緣層和第二絕緣層處形成的第二接觸孔MOb而電連接到公共線208L。如圖15所示，根據(jù)本發(fā)明第二示例性實施方式的公共電極208、像素電極218和數(shù) 據(jù)線217具有彎曲結(jié)構(gòu)。因此，液晶分子在兩個方向上排列以限定兩個域，由此與單一域相 比進一步提高視角。這里，本發(fā)明可以不限于具有兩個域結(jié)構(gòu)的IPS型IXD設備，而是還可 適用于具有多于兩個域的多域結(jié)構(gòu)的IPS型LCD設備。具體地說，形成多于兩個域的多域 結(jié)構(gòu)的IPS結(jié)構(gòu)被稱為超IPS(S-IPS)結(jié)構(gòu)。如果采用公共電極208、像素電極218和數(shù)據(jù)線217的彎曲結(jié)構(gòu)來實現(xiàn)具有液晶分 子的對稱驅(qū)動方向的多域結(jié)構(gòu)，可以削弱由于液晶的雙折射特性導致的異常光，由此使顏 色偏移現(xiàn)象最小化。根據(jù)第二示例性實施方式的使用表面等離振子的濾色器250位于具有這樣的配 置的陣列基板220的最下層。濾色器250包括通過金屬層252形成的透射圖案253，該金 屬層252包括具有間隔L的多個子波長孔。具有從可見光線到近紅外線的波長的入射光 (線)的電場耦合到等離振子。結(jié)果，僅具有對應于藍色、紅色或綠色的特定波長的光被透 射，而其余全部反射，由此分別實現(xiàn)藍色、紅色或綠色。圖16A至圖16E是順序地示出在圖13和圖15中示出的陣列基板的制造工藝的平 面圖。圖17A至圖17E是順序地示出在圖13和圖15中示出的陣列基板的制造工藝的截面 圖。如圖16A和圖17A所示，使用表面等離振子的濾色器250形成在陣列基板210上，該陣 列基板210由諸如玻璃的透明絕緣材料形成。濾色器250包括通過特定金屬層252形成的 透射圖案253，該金屬層252包括具有間隔L的多個子波長孔。透射圖案253可以由具有 高透射率和高的光學特性的透明聚合物、旋涂玻璃(SOG)、有機或無機材料等制成。金屬層 252可以由鋁、鉬、銅、金、銀、鉻等制成。濾色器250可以按照以下方式制造，該方式為通過軟成型、毛細作用力平版印刷 術(shù)、使用剛-柔性模的聚合物層過渡構(gòu)圖、使用UV可固化聚合物的構(gòu)圖等而形成透射圖案 253，之后進行金屬層沉積和平整工藝。本發(fā)明不限于形成濾色器250的該方法。根據(jù)本發(fā)明第二示例性實施方式的具有這樣的結(jié)構(gòu)的濾色器250可以通過選擇 性地使紅色透射通過紅色區(qū)域內(nèi)的紅色透射圖案、通過選擇性地使綠色透射通過綠色區(qū) 域內(nèi)的綠色透射圖案、并通過選擇性地使藍色透射通過藍色區(qū)域內(nèi)的藍色透射圖案而實現(xiàn) RGB顏色。在根據(jù)本發(fā)明第二示例性實施方式的濾色器250的結(jié)構(gòu)中，透射圖案，例如對應 于藍色、紅色和綠色子像素的孔圖案已按照不同尺寸形成。此外，金屬層已形成有不同的厚 度以增加透射效率。具體地說，厚的紅色透射圖案形成在紅色區(qū)域上。綠色透射圖案至少比紅色透射圖案薄。最薄的藍色透射圖案形成在藍色區(qū)域上。但是，本發(fā)明可以不限于此。當在玻璃基板上形成濾色器250時，與玻璃基板相同的絕緣層206 (SW2等)可以 形成在其上具有濾色器250的陣列基板210上。如圖16B和圖17B所示，在其上形成有絕緣層206的陣列基板210上形成柵極221、 選通線216和公共線208L。通過在陣列基板210的整個表面上沉積第一導電膜并對其通過光刻工藝執(zhí)行選 擇性構(gòu)圖來形成柵極221、選通線216和公共線208L。如圖16C和圖17C所示，陣列基板210的具有柵極221、選通線216和公共線208L 的整個表面上順序地沉積有第一絕緣層215a、非晶硅薄膜、η+非晶硅薄膜、以及第二導電 膜，這些在以后通過光刻工藝選擇性地去除，由此在陣列基板210上形成由非晶硅薄膜制 成的有源圖案224。形成源極222和漏極223，它們由第二導電膜制成并電連接到有源圖案 224的源區(qū)和漏區(qū)。通過光刻工藝形成由第二導電膜制成并通過與選通線216交叉來限定像素區(qū)域 的數(shù)據(jù)線217。在有源圖案2Μ上形成由η+非晶硅薄膜制成并構(gòu)圖為與源極222和漏極 223相同形狀的歐姆接觸層225η。根據(jù)本發(fā)明第二示例性實施方式，有源圖案224、源極222 和漏極223、以及數(shù)據(jù)線217可以通過使用半色調(diào)掩?；蜓苌溲谀５囊淮窝谀９に噥硗瑫r 形成。如圖16D和圖17D所示，在陣列基板210的其上形成有有源圖案224、源極222和 漏極223以及數(shù)據(jù)線217的整個表面上形成第二絕緣層21 之后，通過光刻工藝選擇性 地去除第二絕緣層215b，由此在陣列基板210上形成第一接觸孔240a，以部分地露出漏極 223。另外，選擇性地去除第一絕緣層21 和第二絕緣層21 以在陣列基板210上形成第 二接觸孔240b，以部分地露出公共線208L。如圖16E和圖17E所示，在陣列基板210的其上形成有第二絕緣層21 的整個表 面上形成第三導電膜之后，通過光刻工藝選擇性地去除第三導電膜，由此形成像素電極218 和公共電極208，該像素電極218經(jīng)由第一接觸孔MOa電連接到漏極223，該公共電極208 經(jīng)由第二接觸孔MOb電連接到公共線208L。使用在圖像顯示區(qū)域的邊緣上形成的密封劑將根據(jù)本發(fā)明第一和第二示例性實 施方式的陣列基板以彼此相對的方式附接到濾色基板上。圖18是示出根據(jù)本發(fā)明第三示例性實施方式制造的濾色器的結(jié)構(gòu)的立體圖。如 圖18所示，透射圖案350可以具有在僅一個方向上的周期性圖案。透射圖案350可以包括 了在另一材料355之間插入的一種材料352的條紋。本發(fā)明的第一至第三示例性實施方式已例示使用非晶硅薄膜作為有源圖案的非 晶硅薄膜晶體管。但是，本發(fā)明不限于該配置。例如，本發(fā)明還可適用于使用多晶硅薄膜作 為有源圖案的多晶硅薄膜晶體管。本發(fā)明不限于LCD設備，而是還可以用于使用薄膜晶體管制造的其它顯示設備， 諸如有機發(fā)光二極管(OLED)被連接到開關晶體管的有機發(fā)光二極管(OLED)顯示設備。對于本領域技術(shù)人員而言很明顯，在不偏離本發(fā)明的精神或范圍的條件下，可以 在本發(fā)明的液晶顯示設備及其制造方法中做出各種修改和變型。因而，本發(fā)明旨在涵蓋落 入所附權(quán)利要求及其等同物的范圍內(nèi)的本發(fā)明的修改和變型。
1權(quán)利要求
1.一種制造液晶顯示設備的方法，該方法包括以下步驟制備第一基板和第二基板；在所述第一基板上形成薄膜晶體管，該薄膜晶體管包括柵極、半導體層、源極和漏極；在所述第一基板上形成與所述漏極連接的像素電極；形成具有透射圖案的濾色器，所述透射圖案具有多個周期性的孔；在所述第一基板與所述第二基板之間形成密封劑；以及彼此粘結(jié)所述第一基板和所述第二基板。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述透射圖案包括選擇性地僅透射紅色光、綠色 光或藍色光的三維圖案。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中用于各種顏色的所述透射圖案的厚度不同。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中在金屬層中形成具有多個周期性的孔的所述透射 圖案。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中用于各種顏色的所述透射圖案的厚度與所述金屬 層的厚度相同。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中在介電層中形成具有多個周期性的孔的所述透射圖案。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中具有多個周期性的孔的所述透射圖案具有一維周 期性結(jié)構(gòu)或二維周期性結(jié)構(gòu)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述多個孔的間隔被設置為透射波長的大約 0. 688倍，并且所述多個孔的尺寸被設置為所述透射波長的大約0. 356倍。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述多個孔的間隔被設置為透射波長的大約 0. 836倍，并且所述多個孔的尺寸被設置為所述透射波長的大約0. 334倍。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述多個孔的間隔被設置為透射波長的大約 0. 877倍，并且所述多個孔的尺寸被設置為所述透射波長的大約0. 359倍。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中在所述第一基板的內(nèi)表面上形成所述薄膜晶體 管，并且在所述第一基板的所述內(nèi)表面與所述第二基板之間形成所述密封劑。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，該方法還包括與所述像素電極平行地形成公共電 極，其中所述像素電極和所述公共電極具有至少一個彎曲部。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，該方法還包括使數(shù)據(jù)線與選通線交叉，其中所述數(shù) 據(jù)線具有至少一個彎曲部。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，該方法還包括在所述第二基板上形成公共電極。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，該方法還包括在所述濾色器上形成絕緣層，所述絕 緣層由與所述第一基板相同的介電材料形成。
16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，該方法還包括在所述第一基板和所述第二基板之間 形成液晶層。
17.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述濾色器由鋁、鉬、銅、金、銀和鉻中的至少一 種形成。
18.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述透射圖案由透明聚合物、旋涂玻璃S0G、有機 材料或無機材料形成。
19.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述透射圖案的所述孔的截面圖包括圓形、橢圓 形、三角形、正方形和矩形中的至少一種。
20.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述透射圖案的所述孔的截面圖包括多個圓形， 所述多個圓形具有在IOOnm至300nm的范圍中的直徑和300nm至700nm的范圍中的間隔。
21.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中在所述第一基板上形成所述濾色器。
22.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中在所述第二基板上形成所述濾色器。
23.一種液晶顯示設備，該液晶顯示設備包括第一基板；在所述第一基板上形成的薄膜晶體管，該薄膜晶體管包括柵極、半導體層、源極和漏極；在所述第一基板上形成的與所述漏極連接的像素電極；具有透射圖案的濾色器，所述透射圖案具有多個周期性的孔；與所述第一基板粘結(jié)的第二基板；以及在所述第一基板與所述第二基板之間形成的密封劑。
24.根據(jù)權(quán)利要求23所述的液晶顯示設備，其中所述透射圖案包括選擇性地僅透射紅 色光、綠色光或藍色光的三維圖案。
25.根據(jù)權(quán)利要求23所述的液晶顯示設備，其中用于各種顏色的所述透射圖案的厚度 不同。
26.根據(jù)權(quán)利要求23所述的液晶顯示設備，其中在金屬層中形成具有多個周期性的孔 的所述透射圖案。
27.根據(jù)權(quán)利要求沈所述的液晶顯示設備，其中用于各種顏色的所述透射圖案的厚度 與所述金屬層的厚度相同。
28.根據(jù)權(quán)利要求23所述的液晶顯示設備，其中在介電層中形成具有多個周期性的孔 的所述透射圖案。
29.根據(jù)權(quán)利要求23所述的液晶顯示設備，其中具有多個周期性的孔的所述透射圖案 具有一維周期性結(jié)構(gòu)或二維周期性結(jié)構(gòu)。
30.根據(jù)權(quán)利要求23所述的液晶顯示設備，其中所述多個孔的間隔被設置為透射波長 的大約0. 688倍，并且所述多個孔的尺寸被設置為所述透射波長的大約0. 356倍。
31.根據(jù)權(quán)利要求23所述的液晶顯示設備，其中所述多個孔的間隔被設置為透射波長 的大約0. 836倍，并且所述多個孔的尺寸被設置為所述透射波長的大約0. 334倍。
32.根據(jù)權(quán)利要求23所述的液晶顯示設備，其中所述多個孔的間隔被設置為透射波長 的大約0. 877倍，并且所述多個孔的尺寸被設置為所述透射波長的大約0. 359倍。
33.根據(jù)權(quán)利要求23所述的液晶顯示設備，其中在所述第一基板的內(nèi)表面上形成所述 薄膜晶體管，并且在所述第一基板的所述內(nèi)表面與所述第二基板之間形成所述密封劑。
34.根據(jù)權(quán)利要求23所述的液晶顯示設備，該液晶顯示設備還包括與所述像素電極平 行地形成的公共電極，其中所述像素電極和所述公共電極具有至少一個彎曲部。
35.根據(jù)權(quán)利要求23所述的液晶顯示設備，該液晶顯示設備還包括與選通線交叉的數(shù) 據(jù)線，其中所述數(shù)據(jù)線具有至少一個彎曲部。
36.根據(jù)權(quán)利要求23所述的液晶顯示設備，該液晶顯示設備還包括在所述第二基板上形成的公共電極。
37.根據(jù)權(quán)利要求23所述的液晶顯示設備，該液晶顯示設備還包括在所述濾色器上形 成的絕緣層，所述絕緣層由與所述第一基板相同的介電材料形成。
38.根據(jù)權(quán)利要求23所述的液晶顯示設備，該液晶顯示設備還包括在所述第一基板和 所述第二基板之間形成的液晶層。
39.根據(jù)權(quán)利要求23所述的液晶顯示設備，其中所述濾色器由鋁、鉬、銅、金、銀和鉻中 的至少一種形成。
40.根據(jù)權(quán)利要求23所述的液晶顯示設備，其中所述透射圖案由透明聚合物、旋涂玻 璃S0G、有機材料或無機材料形成。
41.根據(jù)權(quán)利要求23所述的液晶顯示設備，其中所述透射圖案的所述孔的截面圖包括 圓形、橢圓形、三角形、正方形和矩形中的至少一種。
42.根據(jù)權(quán)利要求23所述的液晶顯示設備，其中所述透射圖案的所述孔的截面圖包括 多個圓形，所述多個圓形具有在IOOnm至300nm的范圍中的直徑和300nm至700nm的范圍 中的間隔。
43.根據(jù)權(quán)利要求23所述的液晶顯示設備，其中在所述第一基板上形成所述濾色器。
44.根據(jù)權(quán)利要求23所述的液晶顯示設備，其中在所述第二基板上形成所述濾色器。
全文摘要
本發(fā)明涉及液晶顯示設備及其制造方法。一種制造液晶顯示設備的方法包括以下步驟制備第一基板和第二基板；在所述第一基板上形成薄膜晶體管，該薄膜晶體管包括柵極、半導體層、源極和漏極；在所述第一基板上形成與所述漏極連接的像素電極；形成具有透射圖案的濾色器，所述透射圖案具有多個周期性的孔；在所述第一基板與所述第二基板之間形成密封劑；以及彼此粘結(jié)所述第一基板和所述第二基板。
文檔編號G02F1/1343GK102096224SQ20101052830
公開日2011年6月15日 申請日期2010年10月28日 優(yōu)先權(quán)日2009年10月29日
發(fā)明者樸世暎, 李昇哲, 李昌九, 金廷炫 申請人:樂金顯示有限公司