專利名稱：并行光刻直寫(xiě)系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種微納加工裝置，具體涉及一種具有多個(gè)坐標(biāo)軸的光刻直寫(xiě)系統(tǒng)， 應(yīng)用于精密掩模光刻、MEMS器件、3D光刻、衍射光學(xué)、微光學(xué)等研究和制造領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
工業(yè)技術(shù)的發(fā)展離不開(kāi)微納加工技術(shù)，微電子技術(shù)是新技術(shù)革命的標(biāo)志，在過(guò)去 的幾十年中，微納加工技術(shù)的發(fā)展促進(jìn)了集成電路的跨越式進(jìn)步，目前，微納加工技術(shù)不僅 正在微電子領(lǐng)域中發(fā)揮重要的作用，也正在促進(jìn)新型器件的開(kāi)發(fā)和新學(xué)科的發(fā)展，如微機(jī) 電系統(tǒng)(MEMS)、光集成技術(shù)、微光學(xué)等。微納加工是制造微米尺度和納米尺度微小結(jié)構(gòu)的加工技術(shù)總稱，結(jié)構(gòu)尺寸從幾個(gè) 納米到lOOum都屬于微納加工的范圍。激光打孔、激光切割、激光打標(biāo)等激光能量直接加工 手段的最小尺寸在10um以上；lum以下尺寸的加工手段有光學(xué)投影微縮光刻(stepper)、電 子束直寫(xiě)(e-beam)、離子束加工(Ion Beam Machining)、激光干涉光刻(holography) ；1 lOum尺寸的微加工，激光直寫(xiě)光刻被認(rèn)為是最有效的手段。激光直寫(xiě)技術(shù)屬于一種新興的無(wú)掩模微納加工技術(shù)手段。激光光學(xué)系統(tǒng)的分辨率 可根據(jù)激光波長(zhǎng)、和光學(xué)系統(tǒng)數(shù)值孔徑NA計(jì)算(1.22X/NA)，可估算出在亞微米、微米尺 度，適合在這個(gè)尺寸下的微加工。另外，激光還具有能量大、可在空氣環(huán)境中加工的優(yōu)點(diǎn)，激 光直寫(xiě)技術(shù)可以向高速、大幅面發(fā)展。所以發(fā)展激光直寫(xiě)技術(shù)具有重要的意義。中國(guó)實(shí)用新型專利CN201035320Y公開(kāi)了一種微光學(xué)器件高速并行直寫(xiě)系統(tǒng)，其 包括光源、空間光調(diào)制器、傅里葉變換透鏡、空間濾波器、物鏡和二維精密平臺(tái)，以及內(nèi)置圖 形生成軟件的計(jì)算機(jī)。計(jì)算機(jī)中的圖形生成軟件和空間光調(diào)制器配合構(gòu)成圖形發(fā)生系統(tǒng)， 傅里葉變換透鏡、空間濾波器、物鏡構(gòu)成光學(xué)系統(tǒng)，由此實(shí)現(xiàn)并行直寫(xiě)光刻。但是，一般來(lái) 說(shuō)，工件表面的起伏在10微米以上，而高分辨率的光學(xué)系統(tǒng)焦深在1微米以下，并且工件臺(tái) 作二維運(yùn)行時(shí)也存在起伏現(xiàn)象，因此，上述系統(tǒng)在實(shí)際使用時(shí)，會(huì)發(fā)生離焦現(xiàn)象，由此影響 光刻工件的質(zhì)量。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明目的是提供一種并行光刻直寫(xiě)系統(tǒng)，通過(guò)對(duì)光學(xué)系統(tǒng)的改進(jìn)，解決現(xiàn)有技 術(shù)中存在的離焦問(wèn)題。為達(dá)到上述目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是一種并行光刻直寫(xiě)系統(tǒng)，包括光源、圖形發(fā)生系統(tǒng)、光學(xué)系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、運(yùn)動(dòng)系統(tǒng) 和工件平臺(tái)，還設(shè)有聚焦伺服系統(tǒng)，所述聚焦伺服系統(tǒng)包括檢測(cè)光路、傳感器和調(diào)焦裝置， 所述光學(xué)系統(tǒng)由微縮系統(tǒng)和檢測(cè)光路構(gòu)成，其中的微縮系統(tǒng)采用雙遠(yuǎn)心光學(xué)系統(tǒng)，檢測(cè)光 路包括檢測(cè)光源、在雙遠(yuǎn)心光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)的第一分光器件、在檢測(cè)光源和第一分光器件間的 第二分光器件，檢測(cè)光經(jīng)第一分光器件進(jìn)入雙遠(yuǎn)心光學(xué)系統(tǒng)并照射在工件平臺(tái)處的工件 上，反射光經(jīng)第一分光器件和第二分光器件被傳感器接收，控制系統(tǒng)根據(jù)傳感器的信號(hào)控制調(diào)焦裝置動(dòng)作，實(shí)現(xiàn)伺服聚焦。上文中，圖形發(fā)生系統(tǒng)一般包括設(shè)于計(jì)算機(jī)內(nèi)的圖形生成軟件和空間光調(diào)制器 (SLM)，空間光調(diào)制器位于光源和微縮系統(tǒng)之間，在實(shí)際使用時(shí)，可以在光源和空間光調(diào)制 器之間設(shè)置擴(kuò)束和準(zhǔn)直系統(tǒng)，給空間光調(diào)制器提供均勻照明光；雙遠(yuǎn)心光學(xué)系統(tǒng)用于將空 間光調(diào)制器上的圖形高分辨率地成像在光刻材料上，形成形狀可變、內(nèi)部具有灰度光強(qiáng)的 光點(diǎn)，控制雙遠(yuǎn)心光學(xué)系統(tǒng)中透鏡組的相對(duì)運(yùn)動(dòng)可以調(diào)節(jié)微縮成像的位置，運(yùn)動(dòng)時(shí)具有微 縮倍率和分辨率不變的特性，給伺服聚焦功能實(shí)現(xiàn)提供條件；所述調(diào)焦裝置用于調(diào)節(jié)雙遠(yuǎn) 心光學(xué)系統(tǒng)中透鏡組的位置，控制系統(tǒng)根據(jù)傳感器檢測(cè)到的信號(hào)判斷雙遠(yuǎn)心光學(xué)系統(tǒng)中物 鏡與工件表面的距離，并據(jù)此控制調(diào)焦裝置，以實(shí)現(xiàn)雙遠(yuǎn)心光學(xué)系統(tǒng)的自動(dòng)聚焦；檢測(cè)光源 采用對(duì)記錄材料不感光的光源。工件平臺(tái)和光學(xué)系統(tǒng)之間，應(yīng)具有相對(duì)運(yùn)動(dòng)的自由度，包括 在工件平臺(tái)所在平面的X-Y方向的相對(duì)運(yùn)動(dòng)自由度，以及垂直于工件平臺(tái)表面的Z軸方向 的相對(duì)運(yùn)動(dòng)自由度，也可以設(shè)置相對(duì)旋轉(zhuǎn)的運(yùn)動(dòng)自由度。具體實(shí)施時(shí)，圖形發(fā)生系統(tǒng)、光學(xué)系統(tǒng)、運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)和傳感器被安裝在機(jī)械框架中， 形成一個(gè)安裝整體。 光源是紫外或藍(lán)光單色光，可以是激光器，也可以是加上濾光片的汞燈、LED等非 激光光源。檢測(cè)光源采用對(duì)記錄材料不感光的光源，如650nm紅光半導(dǎo)體激光器。優(yōu)選地， 所述光源發(fā)出的光的波長(zhǎng)小于450納米，所述檢測(cè)光源發(fā)出的光的波長(zhǎng)大于550納米。圖形發(fā)生系統(tǒng)用于產(chǎn)生光刻圖形，采用振幅型空間光調(diào)制器系統(tǒng)，例如，透射式的 IXD，反射式的DMD、LC0S，這些空間光調(diào)制器的像素尺寸一般是10_30um量級(jí)，具有VGA以 上分辨率、灰階調(diào)制能力，顯示內(nèi)容通過(guò)計(jì)算機(jī)控制，可以用程序控制實(shí)時(shí)刷新，實(shí)現(xiàn)可變 形狀和灰度的圖形。光學(xué)系統(tǒng)可以包含三部分(1)擴(kuò)束和準(zhǔn)直系統(tǒng)，位于光源和空間光調(diào)制器之間，給空間光調(diào)制器提供均勻照 明光；(2)微縮系統(tǒng)，微縮空間光調(diào)制器上的圖形，使之高分辨率地成像在光刻材料上， 形成形狀可變、內(nèi)部具有灰度光強(qiáng)的光點(diǎn)，光學(xué)系統(tǒng)圖像分辨率優(yōu)于lum。微縮光學(xué)系統(tǒng)基 于雙遠(yuǎn)心光學(xué)原理，由TUBE LENS和直寫(xiě)物鏡兩組透鏡組組成，如圖2所示，空間光調(diào)制器 上圖形21和直寫(xiě)光點(diǎn)24之間的微縮倍率由TUBE LENS 22和直寫(xiě)物鏡23兩者的焦距之比 控制，如，TUBE LENS焦距是200mm，直寫(xiě)物鏡焦距是4mm，可以實(shí)現(xiàn)50倍圖形微縮，在405nm 波長(zhǎng)下，若物鏡的數(shù)值孔徑達(dá)到0. 5以上，圖形分辨率可以小于lum。另外，控制透鏡組的相 對(duì)運(yùn)動(dòng)可以調(diào)節(jié)微縮成像的位置，運(yùn)動(dòng)時(shí)具有微縮倍率和分辨率不變的特性，給伺服聚焦 功能實(shí)現(xiàn)提供條件依據(jù)，如圖3所示，當(dāng)記錄面31的起伏大于物鏡的焦深時(shí)，可以調(diào)節(jié)兩組 透鏡之間的距離32，空間光調(diào)制器離TUBE LENS的距離不變、記錄面離物鏡的距離也不變。 在具體實(shí)施中，該微縮光學(xué)系統(tǒng)應(yīng)設(shè)計(jì)為平場(chǎng)、小畸變光學(xué)系統(tǒng)；(3)反饋收集系統(tǒng)，向光電傳感器提供光信號(hào)，使控制系統(tǒng)能夠監(jiān)測(cè)系統(tǒng)成像的狀 態(tài)。上述技術(shù)方案中，運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)由垂直于光軸運(yùn)動(dòng)的X、Y軸、旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)的R軸和平行光 軸運(yùn)動(dòng)的Z軸構(gòu)成，在Z軸運(yùn)動(dòng)方向有納米級(jí)分辨率的小行程可控運(yùn)動(dòng)裝置。X、Y、R軸用于載物臺(tái)和光學(xué)頭作相對(duì)移動(dòng)，使光點(diǎn)在記錄介質(zhì)上分區(qū)域逐面積曝
4光或矢量掃描曝光。ζ軸運(yùn)動(dòng)，實(shí)現(xiàn)光點(diǎn)在非平面記錄介質(zhì)上曝光，如球面。X、Y、Z、R軸可組成多種三維坐標(biāo)系，如直角坐標(biāo)系、極坐標(biāo)系，光刻系統(tǒng)在運(yùn)行中，可以轉(zhuǎn)換坐標(biāo)系，實(shí)現(xiàn) 復(fù)雜圖形光刻。Z方向小行程運(yùn)動(dòng)裝置具有幾十至幾百微米行程，納米級(jí)運(yùn)動(dòng)分辨率，IOOHz 以上滿行程往復(fù)運(yùn)動(dòng)頻率，用于物鏡伺服聚焦運(yùn)動(dòng)，這種裝置可以采用壓電陶瓷或音圈電 機(jī)驅(qū)動(dòng)。在需要高精度光刻的情況下，運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)一般采用閉環(huán)控制方式?？刂葡到y(tǒng)用于接收外部輸入指令，進(jìn)行人機(jī)對(duì)話，統(tǒng)一協(xié)調(diào)各系統(tǒng)工作，控制系統(tǒng) 由計(jì)算機(jī)、多軸控制器、控制卡、控制程序等組成。由于上述技術(shù)方案運(yùn)用，本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有下列優(yōu)點(diǎn)1.本發(fā)明通過(guò)伺服聚焦控制，能夠在平面及曲面上實(shí)現(xiàn)高分辨率圖形直寫(xiě)；并行 曝光的光刻方式，可以比單點(diǎn)掃描的直寫(xiě)方式成倍的提高光刻的效率；灰度曝光方式，可以 實(shí)現(xiàn)光刻膠基材三維結(jié)構(gòu)制作。2.由于聚焦伺服系統(tǒng)的設(shè)置，在光刻工件表面起伏及運(yùn)動(dòng)起伏超出光學(xué)系統(tǒng)的焦 深時(shí)，能夠跟蹤聚焦，始終保證直寫(xiě)圖形的高分辨率；3.本發(fā)明的裝置可以設(shè)置多坐標(biāo)軸機(jī)械運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)，可多坐標(biāo)系、點(diǎn)陣和矢量運(yùn)行， 進(jìn)行平面、曲面光刻。


圖1是本發(fā)明實(shí)施例中的激光直寫(xiě)裝置系統(tǒng)組成示意圖；圖2是本發(fā)明所涉及的微縮光學(xué)系統(tǒng)原理圖；圖3是本發(fā)明所涉及的微縮光學(xué)系統(tǒng)成像不變特性示意圖；圖4是本發(fā)明實(shí)施例1系統(tǒng)組成示意圖；圖5是本發(fā)明實(shí)施例2系統(tǒng)組成示意圖；圖6是本發(fā)明實(shí)施例3系統(tǒng)組成示意圖。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步描述實(shí)施例1 一種多軸并行光刻直寫(xiě)系統(tǒng)，參見(jiàn)圖4所示，機(jī)械框架41內(nèi)包含有光源、光學(xué)系 統(tǒng)、空間光調(diào)制器、運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)、傳感器，機(jī)械框架外部有控制計(jì)算機(jī)417和控制驅(qū)動(dòng)單元 418。具體描述如下a)光源42發(fā)出的光經(jīng)擴(kuò)束和準(zhǔn)直后照明空間光調(diào)制器43，經(jīng)空間光調(diào)制器調(diào)制 后的光線經(jīng)過(guò)部分反射鏡44，進(jìn)入鏡筒透鏡(Tube lens) 45，透過(guò)部分反射鏡46后經(jīng)過(guò)物 鏡47，成像到位于多軸平臺(tái)48的工件臺(tái)工作面上，從工件表面反射的光重新進(jìn)入光學(xué)系 統(tǒng)，依次經(jīng)過(guò)47、46、45、44、透鏡組49，進(jìn)入CXD傳感器410，CXD信號(hào)進(jìn)入計(jì)算機(jī)后，可以監(jiān) 視直寫(xiě)光點(diǎn)的成像質(zhì)量。上述光源可以是激光器，如405nm半導(dǎo)體激光器、441. 6nm氦鎘激光器、374nm半導(dǎo) 體激光器，355nm固態(tài)激光器，也可以是經(jīng)過(guò)濾光的汞燈光源，如365nm。空間光調(diào)制器的照明方式需要按照調(diào)制器的具體類型設(shè)計(jì)，如，DMD采用離軸反射 照明方式，LCOS采用同軸反射照明方式，LCD采用同軸透射照明方式。
Tubelens45和物鏡47組成雙遠(yuǎn)心光學(xué)系統(tǒng)，這兩組透鏡均需以無(wú)限遠(yuǎn)校正象差 設(shè)計(jì)，直寫(xiě)光點(diǎn)是空間調(diào)制器上圖像的微縮，微縮倍數(shù)是這兩組透鏡的焦距之比，45和47 之間光線是平行光，45和47之間的距離變化，微縮的倍數(shù)無(wú)影響。(XD410與直寫(xiě)光點(diǎn)之間也構(gòu)成成像關(guān)系，透鏡45、49組成的透鏡組和物鏡47之間 構(gòu)成雙遠(yuǎn)心光學(xué)系統(tǒng)，透鏡49的參數(shù)根據(jù)(XD410的感光尺寸具體設(shè)計(jì)。b)檢測(cè)光源413發(fā)出的光經(jīng)過(guò)第二分光器件半透半反片414，經(jīng)過(guò)第一分光器件 部分反射鏡46，進(jìn)入物鏡47，聚焦在工件表面，表面反射光重新進(jìn)入光學(xué)系統(tǒng)，依次經(jīng)過(guò) 47、46、透過(guò)414，象散光學(xué)器件415，進(jìn)入佞痦裾416。 檢測(cè)光采用對(duì)記錄材料不感光的光源，如650nm紅光半導(dǎo)體激光器，從記錄材料 表面返回的光在傳感器上形成象散光斑，光斑的形狀特征與物鏡47和記錄材料之間的距 離有關(guān)。傳感器可以是四象限探測(cè)器、CCD等，傳感器獲得的信號(hào)進(jìn)入計(jì)算機(jī)，計(jì)算機(jī)可以 分析工件表面與物鏡47的距離，計(jì)算機(jī)發(fā)出指令驅(qū)動(dòng)物鏡47軸向(Z方向)運(yùn)動(dòng)，鎖定象 散光斑的參數(shù)，可以實(shí)現(xiàn)伺服聚焦。c)運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)中，48是X、Y、R三軸(在垂直光軸的平面內(nèi)運(yùn)動(dòng))精密運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，411 是Z向(沿光軸方向)運(yùn)動(dòng)軸，412是Z向小行程運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)，總共構(gòu)成四軸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)。由于光學(xué)系統(tǒng)能夠支持亞微米級(jí)的分辨率直寫(xiě)光點(diǎn)，所以精密運(yùn)動(dòng)平臺(tái)應(yīng)具有亞 微米級(jí)的重復(fù)定位精度，一般需采用直線電機(jī)或陶瓷電機(jī)驅(qū)動(dòng)，光柵尺、激光干涉定位系統(tǒng) 用于位置定位，做閉環(huán)控制。411用于Z軸運(yùn)動(dòng)，實(shí)現(xiàn)曲面光刻方式。412是高分辨率的運(yùn) 動(dòng)機(jī)構(gòu)，用于物鏡的伺服運(yùn)動(dòng)，由于高倍率物鏡的焦深是亞微米數(shù)量級(jí)，所以運(yùn)動(dòng)的分辨率 應(yīng)高一個(gè)數(shù)量級(jí)，采用壓電陶瓷或音圈電機(jī)驅(qū)動(dòng)。d)上述系統(tǒng)中，控制系統(tǒng)用于控制各部件協(xié)調(diào)運(yùn)行，光源、空間光調(diào)制器、運(yùn)動(dòng)系 統(tǒng)、傳感器均受控制系統(tǒng)控制。控制系統(tǒng)由計(jì)算機(jī)、程序、多軸控制器、驅(qū)動(dòng)器組成。典型的 曝光運(yùn)行方式有(1)空間光調(diào)制器顯示圖像_平臺(tái)靜止曝光_平臺(tái)運(yùn)動(dòng)；(2)空間光調(diào)制 器顯示-平臺(tái)運(yùn)動(dòng)掃描曝光；在曝光運(yùn)行進(jìn)行過(guò)程中，后臺(tái)運(yùn)行伺服程序，控制系統(tǒng)不斷采 集從傳感器接收的信號(hào)，分析信號(hào)并發(fā)出伺服控制指令。實(shí)施例2 如圖5所示，增加或減少運(yùn)動(dòng)平臺(tái)58運(yùn)動(dòng)軸的數(shù)量，其他配置與實(shí)施例1相同。減少運(yùn)動(dòng)軸數(shù)目，例如，可以由X、Y運(yùn)動(dòng)平臺(tái)和小行程伺服運(yùn)動(dòng)部件構(gòu)成Χ、Υ平面 直寫(xiě)系統(tǒng)，同理，可以構(gòu)成X、R平面極坐標(biāo)直寫(xiě)系統(tǒng)，X、Y、Z系統(tǒng)等。增加運(yùn)動(dòng)軸的數(shù)目，帶來(lái)更多自由度，可使直寫(xiě)系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)更多的運(yùn)行方式。例如， 加入使工作臺(tái)作俯仰運(yùn)動(dòng)的軸，實(shí)現(xiàn)在曲面加工時(shí)，光線始終垂直工件，提高加工精度。實(shí)施例3 如圖6所示，龍門結(jié)構(gòu)的系統(tǒng)。光學(xué)部件配置不變，將光源、空間光調(diào)制器、光學(xué)系 統(tǒng)、CXD和Z軸等作為一個(gè)整體光學(xué)頭61，安裝在一維機(jī)械運(yùn)動(dòng)軸619上，沿Y軸方向運(yùn)動(dòng)， 68為X方向運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，放置光刻工件，構(gòu)成Χ、Υ、Ζ龍門三軸并行光刻系統(tǒng)，這種結(jié)構(gòu)適合設(shè) 計(jì)光刻幅面較大(大于500mm)的機(jī)型。
權(quán)利要求
一種并行光刻直寫(xiě)系統(tǒng)，包括光源、圖形發(fā)生系統(tǒng)、光學(xué)系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)和工件平臺(tái)，其特征在于還設(shè)有聚焦伺服系統(tǒng)，所述聚焦伺服系統(tǒng)包括檢測(cè)光路、傳感器和調(diào)焦裝置，所述光學(xué)系統(tǒng)由微縮系統(tǒng)和檢測(cè)光路構(gòu)成，其中的微縮系統(tǒng)采用雙遠(yuǎn)心光學(xué)系統(tǒng)，檢測(cè)光路包括檢測(cè)光源、在雙遠(yuǎn)心光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)的第一分光器件、在檢測(cè)光源和第一分光器件間的第二分光器件，檢測(cè)光經(jīng)第一分光器件進(jìn)入雙遠(yuǎn)心光學(xué)系統(tǒng)并照射在工件平臺(tái)處的工件上，反射光經(jīng)第一分光器件和第二分光器件被傳感器接收，控制系統(tǒng)根據(jù)傳感器的信號(hào)控制調(diào)焦裝置動(dòng)作，實(shí)現(xiàn)伺服聚焦。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的并行光刻直寫(xiě)系統(tǒng)，其特征在于所述光源發(fā)出的光的波長(zhǎng) 小于450納米，所述檢測(cè)光源發(fā)出的光的波長(zhǎng)大于550納米。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種并行光刻直寫(xiě)系統(tǒng)，包括光源、圖形發(fā)生系統(tǒng)、光學(xué)系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)和工件平臺(tái)，其特征在于還設(shè)有聚焦伺服系統(tǒng)，所述聚焦伺服系統(tǒng)包括檢測(cè)光路、傳感器和調(diào)焦裝置，所述光學(xué)系統(tǒng)由微縮系統(tǒng)和檢測(cè)光路構(gòu)成，其中的微縮系統(tǒng)采用雙遠(yuǎn)心光學(xué)系統(tǒng)，檢測(cè)光路包括檢測(cè)光源、在雙遠(yuǎn)心光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)的第一分光器件、在檢測(cè)光源和第一分光器件間的第二分光器件，檢測(cè)光經(jīng)第一分光器件進(jìn)入雙遠(yuǎn)心光學(xué)系統(tǒng)并照射在工件平臺(tái)處的工件上，反射光經(jīng)第一分光器件和第二分光器件被傳感器接收，控制系統(tǒng)根據(jù)傳感器的信號(hào)控制調(diào)焦裝置動(dòng)作，實(shí)現(xiàn)伺服聚焦。本發(fā)明通過(guò)結(jié)合聚焦成像伺服系統(tǒng)，可以實(shí)現(xiàn)亞微米尺度微結(jié)構(gòu)的精確光刻。
文檔編號(hào)G03F7/20GK101846890SQ201010170978
公開(kāi)日2010年9月29日 申請(qǐng)日期2010年5月13日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月13日
發(fā)明者朱鵬飛, 浦東林, 胡進(jìn), 陳林森, 魏國(guó)軍 申請(qǐng)人:蘇州蘇大維格光電科技股份有限公司;蘇州大學(xué)