專利名稱：用于光學(xué)元件的支撐元件的制作方法
用于光學(xué)元件的支撐元件
背景技術(shù)：
本發(fā)明依據(jù)35U. S. C. 119(e) (1)的限定，要求享有2008年11月14日提交的申請(qǐng)?zhí)枮?1/114，540的美國臨時(shí)專利申請(qǐng)的優(yōu)先權(quán)。同時(shí)要求享有2008年提交的官方編號(hào)為 102008049746. 0的德國專利申請(qǐng)的優(yōu)先權(quán)。申請(qǐng)?zhí)枮?1/114，540的美國臨時(shí)專利申請(qǐng)的內(nèi)容和官方編號(hào)為102008049746. 0 的德國專利申請(qǐng)的內(nèi)容各自為本發(fā)明申請(qǐng)的一部分，且通過引用被結(jié)合于本申請(qǐng)中。本申請(qǐng)包括通過引用而包含的對(duì)比文件，其構(gòu)成了本申請(qǐng)的一部分。當(dāng)本申請(qǐng)的直接公開和通過引用而包含的對(duì)比文件的公開之間出現(xiàn)不一致時(shí)，本申請(qǐng)的公開優(yōu)先。本發(fā)明涉及用于光學(xué)元件的支撐元件和支撐光學(xué)元件的方法。本發(fā)明可被結(jié)合任意光學(xué)裝置或光學(xué)成像方法使用。具體而言，其可結(jié)合在微電子電路的生產(chǎn)中使用的微光刻而使用。具體而言，在微光刻領(lǐng)域中，除了使用被設(shè)計(jì)為具有最高可能的精確度的部件之外，尤其是在運(yùn)行中，將成像裝置的光學(xué)模塊的位置和定向、以及因此例如將具有諸如透鏡、反射鏡和光柵的光學(xué)元件的模塊以及使用的掩模和基板盡可能精確地設(shè)定在特定的設(shè)定值的范圍內(nèi)，或?qū)⑺霾考€(wěn)定在特定的位置或幾何形狀是必須的，以實(shí)現(xiàn)相應(yīng)的高成像質(zhì)量(其中在本發(fā)明的背景下，術(shù)語光學(xué)模塊既可只表示光學(xué)元件，也可表示所述光學(xué)元件和其它例如諸如夾持部分的部件的組件)。為此，經(jīng)常使用其中多個(gè)支撐元件以動(dòng)力學(xué)并聯(lián)(parallel kinematic)的方式協(xié)作的支撐結(jié)構(gòu)，以在六個(gè)自由度上設(shè)定光學(xué)元件的位置和定向。所述動(dòng)力學(xué)并聯(lián)運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)的典型示例是所謂的六腳架，其中六個(gè)支撐元件(通常成三對(duì)，或三個(gè)所謂的雙腳架)將光學(xué)元件相對(duì)于表現(xiàn)為環(huán)狀保持器的較大的支撐單元定位和定向。通常將簡單的板簧狀元件用作支撐元件，這例如可從文件WO 02/16993A1 (Shibazaki)中得知，其完整的公開被通過引用合并于此。這樣的結(jié)構(gòu)通常的缺點(diǎn)是垂直于保持器平面具有相對(duì)高的升高(high-rise)，以使得具有其中光學(xué)元件緊密排列的光學(xué)系統(tǒng)的構(gòu)造的操控器一般需要互相嵌套，以保證光學(xué)元件之間希望的距離。這帶來的其它缺點(diǎn)是光學(xué)元件只能在配合之后相對(duì)彼此在一定程度內(nèi)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)(例如圍繞系統(tǒng)的光軸)，因此通常不可以將兩個(gè)或更多個(gè)光學(xué)元件結(jié)合以使得光學(xué)元件的成像誤差(例如由光學(xué)元件的變形引起的)可彼此互相補(bǔ)償。文件EP 1632799A1 (Shibazaki)的全部內(nèi)容被通過引用的方式合并于此，從其中已知一種具有沿光軸方向的低升高(low-rise)的六腳架，其中光學(xué)元件被六個(gè)支撐構(gòu)件支撐，所述每個(gè)支撐構(gòu)件各自在其兩端被通過實(shí)現(xiàn)為球接頭的撓曲部連接至鄰接的部件。 此處，對(duì)光學(xué)元件進(jìn)行調(diào)節(jié)是這樣實(shí)現(xiàn)的，即，使分配給外部支撐結(jié)構(gòu)的支撐構(gòu)件的關(guān)節(jié)點(diǎn)與光學(xué)元件的圓周方向相切地位移，使得分配給光學(xué)元件的支撐體的關(guān)節(jié)點(diǎn)沿光學(xué)元件的光軸的方向或其它方向位移。由于使用了球接頭形式的關(guān)節(jié)，所以當(dāng)在小區(qū)域內(nèi)實(shí)現(xiàn)需要的調(diào)節(jié)運(yùn)動(dòng)時(shí)，仍然存在問題，即兩個(gè)撓曲部僅具有相對(duì)較小的橫截面面積，使得在靜載荷之下，最重要的是在(高加速度情況下的)動(dòng)載荷之下，在彎曲元件內(nèi)產(chǎn)生相對(duì)較高的應(yīng)力。這樣的結(jié)果是，首先，光學(xué)元件操控器的壽命受限制或只允許相對(duì)低的加速度，因此(對(duì)于一定的調(diào)整范圍) 僅能進(jìn)行較小的調(diào)節(jié)運(yùn)動(dòng)?？紤]到增加行程以獲得更大的調(diào)節(jié)范圍的持續(xù)的趨勢，這是非常的不利。該構(gòu)造的另一個(gè)缺點(diǎn)是在球接頭的區(qū)域內(nèi)，可能的傾斜運(yùn)動(dòng)可導(dǎo)致分配給光學(xué)元件的關(guān)節(jié)點(diǎn)的位置沿光軸方向的歪曲，由此造成定位準(zhǔn)確性下降。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的目的是提供一種用于支撐光學(xué)元件的支撐元件和方法，所述元件和方法不具有上述缺點(diǎn)，或僅在受限的程度內(nèi)具有上述缺點(diǎn)，且特別地允許以簡單的方式， 在大的調(diào)節(jié)運(yùn)動(dòng)(和由此引起的光學(xué)元件處較高的加速度)情況下，實(shí)現(xiàn)光學(xué)元件的定位和定向的高準(zhǔn)確度和大調(diào)節(jié)范圍，且同時(shí)支撐元件的使用壽命較長。本發(fā)明基于以下的認(rèn)知，S卩如果支撐元件的撓曲部被構(gòu)造為在橫向于其彎曲軸的方向上呈長形的彎曲元件，則可以在大的調(diào)節(jié)運(yùn)動(dòng)情況下，實(shí)現(xiàn)光學(xué)元件的定位和定向的特別高的準(zhǔn)確度和特別大的控制帶寬，且支撐元件具有長使用壽命。通過這種方式，以簡單的方式增大了相應(yīng)撓曲部的橫截面面積，使得即使在高動(dòng)態(tài)載荷下也僅產(chǎn)生較小的應(yīng)力。這樣的構(gòu)造還具有以下優(yōu)勢撓曲部可構(gòu)造為使得其中允許或限制不同的自由度上的運(yùn)動(dòng)的區(qū)域可被分配給支撐元件的可清晰地區(qū)分的區(qū)域，且能夠更加容易地被控制 (capture)。因此，例如，支撐元件在支撐構(gòu)件的區(qū)域內(nèi)的活動(dòng)性可以有利的方式被有效地限制在一定的自由度上的運(yùn)動(dòng)，同時(shí)在該支撐構(gòu)件的其它位置發(fā)生其它自由度上的運(yùn)動(dòng)去耦。這使得控制理念不那么復(fù)雜且使得能夠提高光學(xué)元件的定位和定向的準(zhǔn)確度。因此，根據(jù)第一方面，本發(fā)明涉及特別適用于微光刻的用于光學(xué)元件的支撐元件， 其包括支撐構(gòu)件、將支撐構(gòu)件連接至外部支撐單元的第一連接元件和將支撐構(gòu)件連接至光學(xué)元件的第二連接元件。該支撐元件被構(gòu)造為以動(dòng)力學(xué)并聯(lián)方式和其它支撐元件協(xié)作，以在六個(gè)自由度上將光學(xué)元件相對(duì)于外部支撐單元定位及定向。該支撐構(gòu)件包括多個(gè)第一撓曲部，其中第一連接元件和/或第二連接元件包括至少一個(gè)第二撓曲部，其中每個(gè)第一和第二撓曲部限定彎曲軸。通過所述多個(gè)第一和第二撓曲部可在最多兩個(gè)自由度上實(shí)現(xiàn)對(duì)光學(xué)元件相對(duì)于支撐單元的運(yùn)動(dòng)限制。每一個(gè)所述第一和第二撓曲部構(gòu)造成沿彎曲軸的長形形式。根據(jù)另一方面，本發(fā)明涉及一種特別適用于微光刻的光學(xué)元件的支撐元件，其包括支撐構(gòu)件、用于將支撐構(gòu)件連接至外部支撐單元的第一連接元件和用于將支撐構(gòu)件連接至光學(xué)元件的第二連接元件，其中所述支撐元件被構(gòu)造為以動(dòng)力學(xué)并聯(lián)的方式和其它支撐元件協(xié)作，以在六個(gè)自由度上將所述光學(xué)元件相對(duì)于外部支撐構(gòu)件定位及定向。該第一連接元件被構(gòu)造為使支撐構(gòu)件在其與第一連接元件的第一連接區(qū)域內(nèi)沿第一方向發(fā)生位移， 以使第二連接元件至支撐構(gòu)件的第二連接區(qū)域沿第二方向發(fā)生位移。該支撐構(gòu)件包括多個(gè)第一撓曲部，而所述第一連接元件和/或第二連接元件具有至少一個(gè)第二撓曲部。所述第一撓曲部被構(gòu)造及設(shè)置為使得其阻止第二連接區(qū)域相對(duì)第一連接區(qū)域繞旋轉(zhuǎn)軸的轉(zhuǎn)動(dòng)，所述旋轉(zhuǎn)軸位于由第一方向和第二方向限定的運(yùn)動(dòng)平面內(nèi)。根據(jù)另一方面，本發(fā)明涉及一種特別適用于微光刻的光學(xué)模塊，其包括光學(xué)元件、多個(gè)支撐元件和外部支撐單元，其中所述多個(gè)支撐元件在六個(gè)自由度上以動(dòng)力學(xué)并聯(lián)的方式將光學(xué)元件相對(duì)外部支撐單元定位和定向。該多個(gè)支撐元件中的至少一個(gè)為根據(jù)本發(fā)明的支撐元件。根據(jù)本發(fā)明的另一方面，本發(fā)面涉及一種光學(xué)模塊，其包括支撐單元、相對(duì)于支撐元件保持和/或定位微光刻投射曝光系統(tǒng)中的光學(xué)元件的至少一個(gè)雙腳架，其中所述雙腳架包括兩個(gè)雙腳架支架，所述每個(gè)支架的第一端，即支架腳，被直接或間接地連接至支撐單元，且所述每個(gè)支架的第二端，即支架頭，被直接或間接地連接至光學(xué)元件，使得至少一個(gè)支架頭與連接兩個(gè)支架腳的連接線張成雙腳架平面。此處，支架腳沿連接線的間距可任選地大于支架頭的間距。或者，支架腳沿連接線的間距可小于或等于支架頭的間距。此外，支架腳的間距可通過至少一個(gè)被保持在支承部上且經(jīng)由連接單元接合至至少一個(gè)支架腳的杠桿來調(diào)節(jié)，所述杠桿可沿至少一個(gè)運(yùn)動(dòng)方向運(yùn)動(dòng)，其中所述杠桿的所述至少一個(gè)運(yùn)動(dòng)方向位于雙腳架平面之外，且其中連接單元具有有著恰好一個(gè)彎曲平面的至少一個(gè)撓曲部， 使得所述撓曲部垂直于彎曲平面具有剛性結(jié)構(gòu)。根據(jù)另一方面，本發(fā)明涉及一種特別適用于微光刻的光學(xué)成像裝置，其包括照明設(shè)備、容納包含投射圖案的掩模的掩模裝置、具有光學(xué)元件組的投射裝置和容納基板的基板裝置。該照明裝置被構(gòu)造為對(duì)投射圖案進(jìn)行照明，其中所述光學(xué)元件組被構(gòu)造為將投射圖案投射至基板上。該照明裝置和/投射裝置包括根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)模塊。根據(jù)另一方面，本發(fā)明涉及一種支撐光學(xué)元件的方法，其特別地適用于微光刻，其中該光學(xué)元件通過多個(gè)支撐元件被支撐在外部支撐單元上，且在六個(gè)自由度上以動(dòng)力學(xué)并聯(lián)方式相對(duì)外部支撐單元被定位及定向，其中支撐元件具有經(jīng)由第一連接元件被連接至外部支撐單元且經(jīng)由第二連接元件被連接至掛光學(xué)元件的支撐構(gòu)件。該支撐構(gòu)件包括多個(gè)第一撓曲部，而所述第二連接元件和/第二連接元件具有至少一個(gè)第二撓曲部，其中每一個(gè)第一和第二撓曲部限定彎曲軸。經(jīng)由所述多個(gè)第一和第二撓曲部可在最多兩個(gè)自由度上實(shí)現(xiàn)對(duì)光學(xué)元件相對(duì)于支撐單元的運(yùn)動(dòng)限制，其中對(duì)每一個(gè)第二和第二撓曲部，使用沿彎曲軸被構(gòu)造成長形形式的接頭。根據(jù)另一個(gè)方面，本發(fā)明最后涉及一種特別適用于微光刻的支撐光學(xué)元件的方法，其中所述光學(xué)元件通過多個(gè)支撐元件被支撐在外部支撐單元上，且在六個(gè)自由度上以動(dòng)力學(xué)并聯(lián)的方式相對(duì)于外部支撐單元被定位及定向，其中支撐元件具有支撐構(gòu)件，支撐構(gòu)件經(jīng)由第一連接元件被連接至外部支撐單元，且經(jīng)由第二連接元件被連接至光學(xué)元件。 該第一連接元件使支撐構(gòu)件在與第一連接元件的第一連接區(qū)域處沿第一方向發(fā)生位移，使得第二連接元件至支撐構(gòu)件的第二連接區(qū)域沿第二方向發(fā)生位移。該支撐構(gòu)件包括多個(gè)第一撓曲部，而所述第二連接元件和/第二連接元件具有至少一個(gè)第二撓曲部。經(jīng)由所述多個(gè)第一撓曲部，阻止第二連接區(qū)域相對(duì)于第一連接區(qū)域繞旋轉(zhuǎn)軸發(fā)生轉(zhuǎn)動(dòng)，所述旋轉(zhuǎn)軸位于由第一方向和第二方向限定的運(yùn)動(dòng)平面內(nèi)。本發(fā)明的其它優(yōu)選設(shè)計(jì)在從屬權(quán)利要求或下文中參照附圖的關(guān)于優(yōu)選實(shí)施例的描述中顯見。


圖1為根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)成像裝置的優(yōu)選實(shí)施例的示意圖，該光學(xué)成像裝置包括帶有根據(jù)本發(fā)明的支撐元件的、根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)元件，且可通過所述光學(xué)元件來實(shí)施根據(jù)本發(fā)明的用來支撐光學(xué)元件的方法的優(yōu)選實(shí)施例；圖2是圖1中的成像裝置中，根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)模塊的優(yōu)選實(shí)施例的示意性俯視圖；圖3是圖2中的光學(xué)模塊的示意性橫截面圖(沿圖2中的線III-III)圖4是圖2中的光學(xué)模塊的示意性橫截面圖(沿圖2中的線IV-IV)；圖5是根據(jù)本發(fā)明的支撐元件的優(yōu)選實(shí)施例的部分的示意性透視橫截面圖，所述支撐元件被用在圖2中的光學(xué)模塊中；圖6是圖5中支撐元件的另一部分的示意性俯視圖；圖7是圖5中支撐元件的另一部分的示意性俯視圖；圖8是用于支撐光學(xué)元件的根據(jù)本發(fā)明的方法的優(yōu)選實(shí)施例的框圖，所述方法可被使用于圖1中的光學(xué)成像裝置；圖9A至9D是根據(jù)本發(fā)明的支撐元件的其它優(yōu)選實(shí)施例的部分的示意性橫截面視圖，所述元件可被用在圖2中的光學(xué)模塊中；圖IOA至IOB是根據(jù)本發(fā)明的支撐元件的其它優(yōu)選實(shí)施例的部分的示意性橫截面視圖，所述元件可被用在圖2中的光學(xué)模塊中；圖IlA是可被用于圖2中的光學(xué)模塊中的、根據(jù)本發(fā)明的支撐元件的另一優(yōu)選實(shí)施例的部分的示意性透視圖；圖IlB是圖IlA中支撐元件的示意性透視截面圖(沿圖IlA中的線XIB-XIB)；圖12是可被用于圖2中的光學(xué)模塊中的、根據(jù)本發(fā)明的支撐元件的另一優(yōu)選實(shí)施例的部分的示意性透視圖；圖13是可被用于圖2中的光學(xué)模塊中的、根據(jù)本發(fā)明的支撐元件的另一優(yōu)選實(shí)施例的部分的示意性透視圖；圖14A至14E是可被用于圖2中的光學(xué)模塊中的、根據(jù)本發(fā)明的支撐元件的另一優(yōu)選實(shí)施例的部分的示意性橫截面視圖；圖15A至15D是可被用于圖2中的光學(xué)模塊中的、根據(jù)本發(fā)明的支撐元件的另一優(yōu)選實(shí)施例的部分的示意性橫截面視圖；圖16是可被用于圖2中的光學(xué)模塊中的、根據(jù)本發(fā)明的支撐元件的另一優(yōu)選實(shí)施例的部分的示意性橫截面視圖；圖17A和17B是可被用于圖2中的光學(xué)模塊中的、根據(jù)本發(fā)明的支撐元件的另一優(yōu)選實(shí)施例的示意性橫截面視圖。具體實(shí)施方法第一實(shí)施例在下文參照?qǐng)D1至8對(duì)根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)支撐元件的優(yōu)選實(shí)施例進(jìn)行描述，其被用在用于微光刻的根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)成像裝置的根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)模塊中。這種情況下， 為了使此描述簡單化，xyz坐標(biāo)系被引入，其中ζ方向標(biāo)示了垂直方向。但不言而喻的是， 在對(duì)本發(fā)明進(jìn)行相應(yīng)的改動(dòng)后，可提供該成像裝置的組件的任意空間定向。圖1示出了根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)成像裝置的優(yōu)選實(shí)施例的示意圖，所述光學(xué)成像裝置為微光刻裝置101的形式，其使用波長為193nm的UV光進(jìn)行工作。
光學(xué)元件組中的光學(xué)元件在本示例中為例如諸如透鏡、棱鏡、片等形式的折射光學(xué)元件。但不言而喻的是在本發(fā)明的其它變型中，在所有情況下，可單獨(dú)或任意組合地使用折射、反射和/或衍射光學(xué)元件。該微光刻裝置101包括照明系統(tǒng)102、掩模裝置103、物鏡104形式的光學(xué)投射系統(tǒng)以及基板裝置105。照明系統(tǒng)102使用投射光束(未更詳細(xì)地示出)照射位于掩模裝置 103的掩模臺(tái)103. 2上的掩模103. 1。在掩模103. 1上有投射圖案，該投射圖案通過投射光束經(jīng)由設(shè)置在物鏡104內(nèi)的光學(xué)元件組106的光學(xué)元件被投射至晶片105. 1形式的基板上，所述基板設(shè)置在基板裝置105的晶片臺(tái)105. 2上。該照明系統(tǒng)102除光源和其它構(gòu)件之外尤其還包括光學(xué)元件組107，所述光學(xué)元件組形成并引導(dǎo)投射光束。如在下文中將利用光學(xué)元件組106的光學(xué)元件106. 1以示例的方式說明的，光學(xué)元件組106和107中的單個(gè)或全部光學(xué)元件根據(jù)本發(fā)明保持在光學(xué)模塊 108 中。尤其如可從圖2至4中推測出的，光學(xué)模塊108在光學(xué)元件106. 1之外還包括用于光學(xué)元件106. 1或由若干件部件形成的光學(xué)組件106的保持裝置109，所述保持裝置被機(jī)械地連接至物鏡殼體，或可能成為物鏡殼體的一部分，由此作用在光學(xué)元件106. 1或光學(xué)組件106上的重力和靜載荷以及動(dòng)載荷被地板或基底結(jié)構(gòu)承擔(dān)。該保持裝置109包括外環(huán)110形式的外部支撐單元，其通過若干個(gè)根據(jù)本發(fā)明的支撐元件111連接至內(nèi)環(huán)112形式的內(nèi)部支撐單元。外環(huán)110、支撐元件111和內(nèi)環(huán)112在當(dāng)前示例中被整體地接合在一起。為了達(dá)到這個(gè)目的，它們可例如被通過線腐蝕(wire erosion)以及必要時(shí)的后續(xù)機(jī)加工由實(shí)心塊制成。但不言而喻的是，可在本發(fā)明的其它變型中，使用由若干個(gè)裝配在一起的部件(使用任意合適的裝配方法)構(gòu)成的其它保持裝置。當(dāng)前示例中的保持裝置109包括六個(gè)支撐元件111，它們各自被按對(duì)組成雙腳架
109.1。用這樣的方法形成的三個(gè)雙腳架109. 1被平均地沿圓周方向U分布在光學(xué)元件 106. 1的周邊，以形成六角架形式的、按照動(dòng)力學(xué)并聯(lián)的方式構(gòu)造的支撐結(jié)構(gòu)，通過該支撐結(jié)構(gòu)可實(shí)現(xiàn)所述光學(xué)元件106. 1的靜態(tài)確定支撐。此處雙腳架109. 1(處于中立位置)各自相對(duì)于由光學(xué)元件106. 1限定的徑向平面以對(duì)稱的方式設(shè)置，所述平面包含光軸(ζ方向) 和在所有情況下由光學(xué)元件106. 1限定的徑向方向R。支撐元件111被構(gòu)造成使得它們能夠以空間內(nèi)的全部六個(gè)自由度可調(diào)節(jié)地定位和定向以任何傳統(tǒng)的方式(此處未更詳細(xì)地描述)固定至內(nèi)環(huán)112的光學(xué)元件106. 1。為此，每個(gè)支撐元件111具有杠桿113形式的第一支撐元件的，所述杠桿113被連接至外環(huán)
110。該杠桿113在第一連接區(qū)域內(nèi)被連接至支撐元件114的一端，而該支撐元件114的另一端被在第二連接區(qū)域內(nèi)連接至第二連接元件115。第二連接區(qū)域115又與內(nèi)環(huán)112連接?？傮w地，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式(execution)中的光學(xué)模塊108包括支撐單元 110，優(yōu)選地為外部支撐單元，例如外環(huán)110。該光學(xué)模塊108還包括至少一個(gè)雙腳架109. 1， 以相對(duì)支撐單元110保持和/或定位微光刻投射曝光系統(tǒng)101的光學(xué)元件106. 1，其中所述雙腳架109. 1包括兩個(gè)雙腳架支架，其也被稱作支撐構(gòu)件114，每一個(gè)所述支撐構(gòu)件的第一端，即支架腳，被直接或間接地連接至支撐單元110，且其第二端，即支架頭，被直接或間接地連接至光學(xué)元件106. 1。支架頭和支架腳的連接使得至少一個(gè)支架頭和連接兩個(gè)支架腳的連接線一起張成一雙腳架平面，其中支架腳沿連接線的間距較支架頭的間距要大，且其中支架腳的間距可通過至少一個(gè)杠桿113來調(diào)節(jié)，所述杠桿保持在支承部(圖6中113. 1) 上，且通過連接單元與至少一個(gè)支架腳接合，其中所述杠桿在至少一個(gè)運(yùn)動(dòng)方向上是可動(dòng)的。這里，杠桿的運(yùn)動(dòng)的至少一個(gè)方向在雙腳架平面之外。另外，接頭單元包括至少一個(gè)恰好具有一個(gè)彎曲平面的撓曲部(例如，圖5中114. 1,114. 2),以使得該撓曲部垂直于彎曲平面具有剛性結(jié)構(gòu)。或者，支架腳之間沿連接線的間距小于或等于支架頭的間距。一般，雙腳架支架的間距以及由雙腳架支架或沿雙腳架支架的線的相交點(diǎn)限定的雙腳架支架的相交點(diǎn)，限定了傾斜軸的位置，如果若干個(gè)雙腳架元件以動(dòng)力學(xué)并聯(lián)的方式(例如以六角架的形式)作用在空間上對(duì)齊的平臺(tái)或構(gòu)件上，則平臺(tái)(或構(gòu)件)的傾斜(旋轉(zhuǎn))將繞所述傾斜軸發(fā)生。在上述的光學(xué)模塊108的總體實(shí)施例中，作為示例，雙腳架的一個(gè)雙腳架支架可被直接地連接至外環(huán)(或支撐單元)，而該雙腳架的另一個(gè)雙腳架支架，如上所述，被通過杠桿113間接地連接至外環(huán)110?；蛘?，兩個(gè)雙腳架支架可例如通過各自的杠桿113(或總體地經(jīng)由致動(dòng)器)與外環(huán)(與支撐單元110)連接。此處，在改變支架腳的間距和/或改變支架腳相對(duì)于支撐單元110的位置時(shí)，如果雙腳架的支架頭可根據(jù)支架腳的位置在若干個(gè)方向發(fā)生移動(dòng)，則是具有優(yōu)勢的。這使得光學(xué)元件有可能以若干個(gè)自由度直接或間接地關(guān)節(jié)連接至支架頭。此處，自由度的數(shù)量還取決于保持光學(xué)元件的其它安裝元件。優(yōu)選地，光學(xué)模塊108包括三個(gè)雙腳架，其如上所述形成了六腳架。在此示例中，光學(xué)模塊108包括對(duì)應(yīng)于所述至少一個(gè)雙腳架的、三個(gè)優(yōu)選各自具有相同結(jié)構(gòu)的雙腳架，以形成六腳架結(jié)構(gòu)而將光學(xué)元件相對(duì)于支撐單元保持和/或定位，其中對(duì)應(yīng)于所述至少一個(gè)雙腳架的每個(gè)雙腳架都被分配有相應(yīng)的杠桿和連接單元。由該六腳架形成的動(dòng)力學(xué)并聯(lián)運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)(parallel kinematics)，其中光學(xué)元件可被極其自由地沿多達(dá)六個(gè)自由度定位而不受限制力的作用， 具有如下優(yōu)勢所有的致動(dòng)器(杠桿)直接作用在相同的移動(dòng)平臺(tái)上。此處，平臺(tái)是連接至雙腳架的支架頭的單元或模塊。這可例如為光學(xué)元件自身(以實(shí)現(xiàn)雙腳架支架的支架頭的直接連接)，或例如為適用于光學(xué)元件的內(nèi)部保持環(huán)，所述內(nèi)部保持環(huán)也可包括在下文中將更詳盡地描述的連接元件。動(dòng)力學(xué)并聯(lián)運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)的一個(gè)優(yōu)勢是其較串聯(lián)運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)具有較小的質(zhì)量，在串聯(lián)運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)中每個(gè)致動(dòng)器各自作用在其自身的調(diào)整平臺(tái)上，所述平臺(tái)各自形成了另外的質(zhì)量。 由于動(dòng)力學(xué)并聯(lián)運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)的總體質(zhì)量較小，所以所得到的本征頻率是有利的，動(dòng)力學(xué)并聯(lián)運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)的最低本征頻率通常顯著高于串聯(lián)運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)中的最低本征頻率，這是由于該頻率在一級(jí)近似中和質(zhì)量的倒數(shù)的平方根成比例。通過較高的本征頻率可阻止光學(xué)模塊受激發(fā)生振動(dòng)。這對(duì)諸如使用在微光刻投射曝光系統(tǒng)中的光學(xué)模塊是至關(guān)重要的，因?yàn)榉駝t將不能獲得高的光學(xué)分辨率。由于質(zhì)量較小，該動(dòng)力學(xué)并聯(lián)運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)還較串聯(lián)運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)具有更好的動(dòng)力學(xué)特性。動(dòng)力學(xué)并聯(lián)運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)的另一優(yōu)點(diǎn)是不需要移動(dòng)電線，由此由電纜產(chǎn)生的限制力的風(fēng)險(xiǎn)不會(huì)出現(xiàn)。此外，動(dòng)力學(xué)并聯(lián)運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)可被制成較串聯(lián)運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)更扁平且更緊湊。這在微光刻投射曝光系統(tǒng)中也是至關(guān)重要的優(yōu)勢，因?yàn)檫@里光學(xué)元件通常被設(shè)置為彼此非?？拷?，特別是其中設(shè)有使用昂貴的自由曲面作為折射和/反射表面的光學(xué)元件時(shí)。使用在微光刻投射曝光系統(tǒng)中的精密光學(xué)元件中另一個(gè)非常重要的方面是在諸如六腳架形式的動(dòng)力學(xué)并聯(lián)運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)中不會(huì)出現(xiàn)在串聯(lián)運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)中出現(xiàn)的附加導(dǎo)向錯(cuò)誤。因此通過使用動(dòng)力學(xué)并聯(lián)運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)可以實(shí)現(xiàn)光學(xué)元件在光學(xué)模塊108中的最大定位精確度。此外，在上述的光學(xué)模塊108的總體實(shí)施例中，如所述，其中一個(gè)雙腳架支架頭可直接接合光學(xué)元件?；蛘撸撝Ъ茴^間接地接合光學(xué)元件，其中在下文中被更詳盡描述的連接元件115被設(shè)置在支架頭和光學(xué)元件之間，或其中光學(xué)元件可被固持在保持器如內(nèi)部保持環(huán)內(nèi)。通常但不必須地，雙腳架的兩個(gè)支架頭以同樣的方式接合光學(xué)元件，尤其是當(dāng)光學(xué)元件通過六腳架固持在光學(xué)模塊中時(shí)。由于在光學(xué)模塊108的總體實(shí)施方式中，杠桿的至少一個(gè)移動(dòng)方向位于雙腳架平面之外，該模塊108可構(gòu)造為因此沿垂直于支架腳的連接線的方向更加緊湊且更加扁平。 因此，諸如例如六腳架的動(dòng)力學(xué)并聯(lián)運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)的緊湊結(jié)構(gòu)的優(yōu)勢被進(jìn)一步優(yōu)化。在當(dāng)杠桿的移動(dòng)的方向垂直雙腳架平面時(shí)可實(shí)現(xiàn)最緊湊的結(jié)構(gòu)，因?yàn)榇藭r(shí)杠桿沿垂直支架腳之間連接線的方向的運(yùn)動(dòng)不需要任何空間。為了使支架腳的間距在光學(xué)模塊108的總體實(shí)施方式中可變化或可被調(diào)節(jié)，必須將至少一個(gè)支架腳經(jīng)由接頭單元連接至移動(dòng)杠桿。這是因?yàn)?，具體而言，支架腳的間距的變動(dòng)必然導(dǎo)致被杠桿移動(dòng)的雙腳架支架和杠桿之間的角度的變化，這是因?yàn)殡p腳架支架通常具有剛性的結(jié)構(gòu)，即，其長度幾乎(in good approximation)不發(fā)生變化。此處接頭單元至少包括第一撓曲部。為了充分利用由光學(xué)模塊108形成的動(dòng)力學(xué)并聯(lián)運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)在位置準(zhǔn)確度上的優(yōu)勢，當(dāng)使用撓曲部，諸如例如固態(tài)接頭時(shí)，所述撓曲部具有恰好一個(gè)彎曲平面。這阻止了撓曲部沿偏離彎曲平面的方向的寄生彎曲，所述寄生彎曲沿不希望的寄生方向移動(dòng)與接頭單元接合的支架腳。后者將導(dǎo)致相關(guān)的雙腳架的支架頭也發(fā)生不希望的寄生移動(dòng)， 從而損害位置準(zhǔn)確度。為了使撓曲部恰好具有一個(gè)彎曲平面，沿彎曲平面之外的方向，即沿和彎曲平面垂直的方向，所述撓曲部必須具有剛性結(jié)構(gòu)。相關(guān)的術(shù)語“剛性”指的是撓曲部沿彎曲平面的方向具有第一阻力矩，垂直彎曲平面具有第二阻力矩，其中所述第二阻力矩至少為所述第一阻力矩的大小的兩倍。沿彎曲平面的方向的阻力矩指的是當(dāng)撓曲部處在彎曲應(yīng)力下時(shí)沿彎曲平面方向具有決定性的阻力矩。相似地，所述第二阻力矩值的是當(dāng)撓曲部處在彎曲應(yīng)力下時(shí)沿和彎曲平面垂直的方向具有決定性的阻力矩。一般，第二阻力矩越高，撓曲部沿垂直彎曲平面的方向的結(jié)構(gòu)越剛性。所述考慮一般適用于任何方向，而不限于垂直彎曲平面的方向。根據(jù)光學(xué)元件需要的位置準(zhǔn)確度和雙腳架的幾何形狀，尤其是雙腳架支架的長度和它們與光學(xué)元件的聯(lián)接以及適當(dāng)?shù)乜紤]其它撓曲部，可能要求較高的剛度。因此，該第二阻力矩必須為第一阻力矩的至少5倍或至少10倍大。此處阻力矩指的是軸向截面二次矩(或面積慣性矩)和撓曲部的最外側(cè)纖維和中間纖維之間最大距離的商。對(duì)于給定的彎曲應(yīng)力(對(duì)于給定的彎矩而言)，該阻力矩提供了最大的應(yīng)力載荷，所述彎曲應(yīng)力為彎矩和阻力矩的商。為了同時(shí)考慮扭轉(zhuǎn)應(yīng)變下的所有最大切應(yīng)力，以阻力極矩，或阻力扭矩替代阻力矩。通常以下情況是足以滿足上述的沿偏離彎曲平面的方向，即垂直于彎曲平面的方向的剛性需求的撓曲部具有和彎曲平面垂直的長形的彎曲軸，且此處該撓曲部沿該彎曲軸的方向的長度為彎曲單元的至少一個(gè)撓曲部沿彎曲方向垂直于彎曲軸延伸的最大橫截面尺寸的至少兩倍。如果例如該撓曲部被構(gòu)造成具有垂直于彎曲平面的方形截面的板簧狀的接頭，該條件未被滿足。如果相反，該撓曲部被設(shè)置為具有垂直于彎曲平面的長方形截面，且其中截面長方形的長邊和彎曲平面垂直，則當(dāng)截面長方形的邊長比為二時(shí)滿足上述條件。圖2至圖4所示的本示例中的各個(gè)支撐構(gòu)件114(其形成雙腳架支架)沿大致和相關(guān)的切向T平行的方向(所述切向由光學(xué)元件106. 1在相應(yīng)的雙腳架109. 1所處的徑向平面處的切線所限定)延伸。在此實(shí)施方式中，每個(gè)支撐構(gòu)件114包括四個(gè)第一撓曲部 114. 1至114.4(圖5)，它們各自限定了第一彎曲軸。此處，撓曲部114. 1和114. 3或114. 2 和114. 4的彎曲軸成對(duì)地平行延伸，而兩個(gè)對(duì)114. 1、114. 3和114. 2、114. 4中的彎曲軸彼此橫向地(在此處更準(zhǔn)確地為垂直地)延伸。如圖5所示出和描述的，光學(xué)模塊108的總體實(shí)施方式的接頭單元可包括具有另外的彎曲平面的另外的撓曲部114. 2，所述另外的彎曲平面和所述至少一個(gè)撓曲部114. 1 的彎曲面大致垂直。該另外的撓曲部114. 2優(yōu)選地包括和所述另外的彎曲平面垂直的另一彎曲軸。因此，通過接頭單元連接至杠桿113的雙腳架109. 1的支架腳114通過多個(gè)撓曲部被支撐，所述多個(gè)撓曲部的旋轉(zhuǎn)軸互相交叉，這導(dǎo)致支架腳以及相應(yīng)地雙腳架支架在兩個(gè)自由度上被去耦。通過對(duì)互相交叉的撓曲部進(jìn)行適當(dāng)?shù)牟贾?，利用這些撓曲部可模擬 (approximate)球接頭，特別是如果相交的旋轉(zhuǎn)軸之間的間距落在撓曲部的垂直于彎曲軸的延展范圍內(nèi)或更小時(shí)。為了充分利用由光學(xué)模塊108形成的動(dòng)力學(xué)并聯(lián)運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)在使用撓曲部例如固態(tài)接頭時(shí)在位置準(zhǔn)確度上的優(yōu)勢，所述另外的撓曲部114. 2垂直于所述另外的彎曲平面優(yōu)選也具有剛性結(jié)構(gòu)。此處該另外的撓曲部沿所述另外的彎曲平面的方向具有第一阻力矩， 而垂直于所述另外的彎曲平面的方向具有第二阻力矩，其中所述第二阻力矩至少是所述第一阻力矩大小的兩倍。以上結(jié)合所述至少一個(gè)撓曲部提供的關(guān)于其剛性的說明以類比的方式適用于其它撓曲部。為了在可能導(dǎo)致?lián)锨颗まD(zhuǎn)的、任何作用在雙腳架支架114上的扭轉(zhuǎn)應(yīng)力的情況下，獲得連接至撓曲部的支架腳的最小可能寄生運(yùn)動(dòng)，該另外的撓曲部114. 2相對(duì)于垂直于述另一個(gè)彎曲軸的扭轉(zhuǎn)軸構(gòu)造成使得其關(guān)于該扭轉(zhuǎn)軸的阻力極矩為沿所述另外的彎曲平面方向的阻力矩的至少兩倍。在光學(xué)模塊108的總體實(shí)施方式中，這可被構(gòu)造為使得所述接頭單元的所述至少一個(gè)撓曲部的彎曲平面平行于光學(xué)元件的對(duì)稱面，或平行于垂直于投射曝光系統(tǒng)內(nèi)的光軸的平面。這種情況下，該撓曲部的彎曲軸平行于光軸延伸。在如圖2至5所示的實(shí)施例中， 這樣的撓曲部對(duì)應(yīng)于接頭114. 1。如果該實(shí)施例包括具有接頭單元的光學(xué)模塊，所述接頭單元具有另外的撓曲部，則所述另外的撓曲部的另外的彎曲平面優(yōu)選垂直于光學(xué)元件的對(duì)稱面，或所述另外的彎曲平面平行于投射曝光系統(tǒng)的光學(xué)軸。這樣的另外的撓曲部在如圖 2至4所示的實(shí)施例中是接頭114. 2。此處，所述另外的撓曲部的另外的彎曲平面平行于雙腳架平面，尤其是當(dāng)該光學(xué)模塊108形成了如上所述的六腳架結(jié)構(gòu)的時(shí)候。圖6示出了各自與支撐構(gòu)件114相關(guān)的杠桿113經(jīng)由第二撓曲部113. 1連接至外環(huán)110。該第二撓曲部113. 1限定了第二彎曲軸且由此限定了杠桿113的旋轉(zhuǎn)軸，其(在保持裝置109的中性位置)平行于光學(xué)元件106. 1的光軸延伸。在光學(xué)模塊108內(nèi)的撓曲部113. 1具有這樣的位置時(shí)，如果雙腳架平面平行于光軸延伸，則杠桿的運(yùn)動(dòng)方向垂直于雙腳架平面。一般，和光軸無關(guān)，杠桿的運(yùn)動(dòng)方向可垂直于雙腳架平面。此處，所述至少一個(gè)撓曲部114. 1的彎曲平面則垂直于于雙腳架平面。該至少一個(gè)撓曲部114. 1的彎曲軸則平行于雙腳架平面?？赏ㄟ^調(diào)節(jié)裝置116圍繞由撓曲部113. 1所限定的旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)杠桿113(將在下文中更詳盡地描述)。此處，支撐構(gòu)件114的第一連接區(qū)域114. 5沿相關(guān)的切向方向T(x方向)發(fā)生位移。該運(yùn)動(dòng)由沿光學(xué)元件106. 1的光軸位移的第一撓曲部114. 2和114. 4的布置和雙腳架109. 1中所分配的另一個(gè)支撐元件111的鄰接力轉(zhuǎn)化成第二連接區(qū)域114. 6的運(yùn)動(dòng)，所述第二連接區(qū)域至少部分地沿光學(xué)元件106. 1的光軸的方向(ζ方向)延伸。在根據(jù)此處描述的實(shí)施例的光學(xué)模塊中，接頭單元的至少一個(gè)撓曲部114. 1或另外的撓曲部114. 2被構(gòu)造為板簧，如圖5所示。此外，分配給相應(yīng)的雙腳架109. 1的杠桿的支承部可被構(gòu)造為撓曲部113. 1，其將杠桿113接合至支撐單元110。與最初引用的文件EP 1632799Α1 (Shibazaki)中不同，此處相應(yīng)的第一撓曲部 114. 1至114. 4和相應(yīng)的第二撓曲部113. 1被構(gòu)造成使得其具有沿其彎曲軸的長形結(jié)構(gòu)。 這具有以下優(yōu)勢撓曲部114. 1至114. 4或113. 1的橫截面面積被擴(kuò)大，以使得在運(yùn)行中即使在各個(gè)撓曲部114. 1至114. 4或113. 1處承受高動(dòng)態(tài)載荷時(shí)，在撓曲部114. 1至114.4 或113. 1內(nèi)也僅出現(xiàn)少許的應(yīng)力。與光學(xué)元件106. 1的有源(active)定位/定向情況下的現(xiàn)有技術(shù)構(gòu)造相比，本發(fā)明具有以下優(yōu)勢由于接頭114. 1至114. 4或113. 1中的應(yīng)力較低，所以允許更大的加速度，從而對(duì)于給定的光學(xué)元件106. 1的位移控制帶寬來說，可實(shí)現(xiàn)更大的調(diào)節(jié)運(yùn)動(dòng)，而不導(dǎo)致?lián)锨?14. 1至114. 4或113. 1 (可能為長期的)過載。該構(gòu)造的另一優(yōu)勢是在各個(gè)自由度上的運(yùn)動(dòng)被分配給明顯區(qū)別開的撓曲部。這簡化了各個(gè)支撐元件處的調(diào)節(jié)運(yùn)動(dòng)的直觀控制(envisaged capture) 0最終，橫向于第二撓曲部113. 1的彎曲軸，因此其構(gòu)造作為純粹的旋轉(zhuǎn)接頭的短結(jié)構(gòu)具有以下優(yōu)點(diǎn)杠桿113最多可繞橫向于第二撓曲部113. 1的彎曲軸的軸僅發(fā)生非常小的傾斜。這對(duì)動(dòng)態(tài)載荷下的光學(xué)元件106. 1的位置和定向的穩(wěn)定性以及光學(xué)元件106. 1 的定位和定向的準(zhǔn)確度具有顯著影響，因?yàn)檫@樣會(huì)消除導(dǎo)致偏離期望位置的傾斜。為了減少這樣的傾斜，構(gòu)成杠桿113的支承部的撓曲部113. 1可具有恰好一個(gè)彎曲平面，以使得該支承部的撓曲部具有和其彎曲平面垂直的剛性結(jié)構(gòu)。出于上述的優(yōu)點(diǎn)，該實(shí)施方式在光學(xué)模塊108的在此處被描述的實(shí)施例中特別優(yōu)選。此處“剛性”的意思也是支承部的撓曲部沿其彎曲平面的方向具有第一阻力矩而垂直于其彎曲平面具有第二阻力矩， 其中所述第二阻力矩至少為第一阻力矩大小的兩倍。通常以下情況足以實(shí)現(xiàn)支承部的撓曲部的剛性具有垂直于彎曲平面的長形彎曲軸，其中支承部的撓曲部沿其彎曲軸的方向的長度為該支承部的撓曲部沿彎曲方向垂直于支承部的撓曲部伸展的最大橫截面尺寸的至少兩倍。通過根據(jù)此處描述的實(shí)施例的光學(xué)模塊108，支承部的彎曲軸113. 1可平行于雙腳架平面，所述雙腳架平面的雙腳架可通過支承部所保持的杠桿113. 1被調(diào)節(jié)。為了進(jìn)一步減少上述的傾斜的程度，在本示例中相應(yīng)杠桿113經(jīng)由作為支撐接頭的撓曲裝置117連接至外環(huán)。撓曲裝置117被構(gòu)造為大致U形的支撐臂(在xy平面內(nèi))， 其具有三個(gè)另外的第二撓曲部117. 1，所述另外的第二撓曲部的彎曲軸各自平行于第二撓曲部113. 1的彎曲軸延伸。通過這樣的方式，其可跟隨杠桿113的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，且同時(shí)用作阻礙上述杠桿113的傾斜的支撐件。
支撐臂117相對(duì)于第一連接區(qū)域114. 5布置成與第二撓曲部113. 1相反，這使得能夠?qū)崿F(xiàn)阻礙杠桿傾斜的特別好的支撐件。但不言而喻的是，阻礙杠桿傾斜的支撐件可被布置在其它任意合適的點(diǎn)上。如果要獲得特別好的阻礙傾斜的支撐件，若需要，還可以設(shè)置成使得其上布置有支撐臂117的外環(huán)110的(近乎自由地懸掛的)部分經(jīng)由增強(qiáng)(諸如擰合)支撐板與位于杠桿113的另一側(cè)的外環(huán)110的部分接合，如圖2中虛線輪廓118示出的一樣。同樣不言而喻的是，在本發(fā)明的其它變型中可以以其它的方式構(gòu)造附加的阻礙杠桿傾斜的支撐件。但如果需要的話，在第二撓曲部在預(yù)期的靜載荷和動(dòng)載荷下保證了足夠的支撐時(shí)，也可完全省去所述附加的支撐件。為了減小光學(xué)模塊108的所述實(shí)施例中的上述杠桿113的傾斜，杠桿108可具有至少一個(gè)連接有支撐單元110的另外的撓曲部。此處，所述杠桿的另外的撓曲部恰好具有一個(gè)平行于支承部的撓曲部113. 1的彎曲平面的彎曲平面是具有優(yōu)勢的。此外，杠桿的另外的撓曲部也具有垂直于其彎曲平面的剛性構(gòu)造。如果該另外的撓曲部設(shè)置成與支承部隔開小于杠桿的載荷臂長度兩倍的一段距離也是有優(yōu)勢。結(jié)果，對(duì)于通常較高的力和載荷臂的撓曲比，通常大于5，整個(gè)支撐杠桿的所述另外的撓曲部，僅需要該另外的撓曲部處的較小的運(yùn)動(dòng)補(bǔ)償，出于這一原因，該另外的撓曲部可同樣具有剛性結(jié)構(gòu)。一般，該杠桿可被構(gòu)造為單邊或雙邊杠桿。可替換地或附加地，為了減少傾斜，杠桿可被經(jīng)由撓曲部914. 1接合至雙腳架支架914，特別是如果該支架又經(jīng)由撓曲部913. 2由支撐單元110支撐(見圖16)。如特別地由圖7可推測出，杠桿113在其遠(yuǎn)離支撐體113的自由端處被連接至調(diào)節(jié)裝置116，經(jīng)由所述調(diào)節(jié)裝置可設(shè)定杠桿113繞其旋轉(zhuǎn)軸的旋轉(zhuǎn)。在示出的示例中，調(diào)節(jié)裝置116是通常已知的無源裝置，經(jīng)由該裝置通過各種手段(螺紋連接和調(diào)節(jié)墊圈)可實(shí)現(xiàn)對(duì)杠桿旋轉(zhuǎn)的粗調(diào)節(jié)和細(xì)調(diào)節(jié)。此處不言而喻的是，作為所述的該無源調(diào)節(jié)裝置的附加或替代，可以設(shè)置有源調(diào)節(jié)裝置(按照任意的運(yùn)行原理或運(yùn)行原理的組合進(jìn)行工作)。然而，在本構(gòu)造中特別具有優(yōu)勢而又和已知的構(gòu)造(例如，最初提及的文件EP 1632799A1中的構(gòu)造)不同的是，在杠桿113的回轉(zhuǎn)平面內(nèi)結(jié)合了用于杠桿113的預(yù)拉伸裝置119。該預(yù)拉伸裝置119在此處被構(gòu)造為簡單的板簧，其被加入在外環(huán)110和杠桿113 之間的間隙中。這具有以下優(yōu)勢通過該預(yù)拉伸力，沒有附加的旋轉(zhuǎn)力矩被施加在杠桿113 上。此外，板簧119本身(由于其在其延伸平面內(nèi)的高剛度)仍然可用作杠桿113的傾斜支撐件，或允許后者的存在。在如此處所述的光學(xué)模塊108的其它實(shí)施例中，杠桿可包括預(yù)拉伸裝置和例如如上所述的調(diào)節(jié)裝置。如特別地由圖5可推測出的，在本示例中，橫向于它們的彎曲軸的第一撓曲部 114. 1和114. 3構(gòu)造成較短，并因此成為純粹的旋轉(zhuǎn)接頭，而同樣橫向于它們的彎曲軸的兩個(gè)第一撓曲部114. 2和114. 4構(gòu)造為長形的板簧元件。這樣的構(gòu)造意味著兩個(gè)第一撓曲部 114. 2和114. 4還可吸收(take up)繞橫向于其彎曲軸的軸(此處為χ軸)扭轉(zhuǎn)。通過這種方式，例如光學(xué)元件106. 1繞橫向于其光軸延伸的軸的傾斜可由支撐元件111補(bǔ)償。相應(yīng)地，在本示例中，支撐構(gòu)件114在恰好一個(gè)自由度(S卩，沿X方向的平動(dòng)) 上形成了對(duì)光學(xué)元件106. 1相對(duì)外環(huán)的運(yùn)動(dòng)的限制。但不言而喻的是，對(duì)于本發(fā)明的某些變型(例如用于光學(xué)元件的純粹平動(dòng)調(diào)節(jié))，也可能不存在這樣對(duì)傾斜的補(bǔ)償。這樣的情況下，例如，所有四個(gè)第一撓曲部可被實(shí)現(xiàn)為 (在橫向于彎曲軸的方向上較短的)純粹的旋轉(zhuǎn)接頭。在這種情況下，對(duì)光學(xué)元件106. 1相對(duì)于外環(huán)的運(yùn)動(dòng)的限制可發(fā)生在兩個(gè)自由度(即沿χ方向的平動(dòng)和繞Χ方向的旋轉(zhuǎn))上。圖8示出了根據(jù)本發(fā)明的用來支撐被使用在微光刻設(shè)備101中的光學(xué)元件106. 1 的方法的優(yōu)選實(shí)施例的流程圖。最初在步驟120. 1中，使光學(xué)模塊108的部件如之前它們已經(jīng)被描述的那樣可用。在步驟120. 2中，然后光學(xué)元件106. 1和保持裝置109被連接在一起。然后，在步驟120. 3中，經(jīng)由調(diào)節(jié)裝置116按照前述的方式設(shè)定光學(xué)元件的位置和定向。第二實(shí)施例在下文中，參照?qǐng)D1、2和9A描述根據(jù)本發(fā)明的支撐元件211的另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例。支撐元件211可用來取代成像裝置101中的支撐元件111。該支撐元件211的基本結(jié)構(gòu)及其操作方法對(duì)應(yīng)于圖2中的支撐元件111，所以這里僅對(duì)其不同之處進(jìn)行描述。特別地，將相似的部件的附圖標(biāo)記增加100。除在下文中另行說明之外，與部件的特性相關(guān)的描述參照前文中給出的說明。圖9A中示出了支撐構(gòu)件214的區(qū)域內(nèi)的橫截面。支撐元件211和支撐元件111 之間僅有的不同是支撐元件214的第一撓曲部214. 2和214. 4被構(gòu)造為橫向于χ方向延伸的板簧元件。通過這種方式，同樣可形成對(duì)恰好一個(gè)自由度(即繞χ軸的旋轉(zhuǎn))上的運(yùn)動(dòng)的限制，因此這里也可獲得對(duì)光學(xué)元件106. 1的靜態(tài)確定支撐。圖9Β至9D示出了第一撓曲部214. 1至214. 4的布置和構(gòu)造的其它變型。此處不言而喻的是，撓曲部214. 1至214. 4的構(gòu)造和布置基本上可以任意的方式選定。因此，例如， 圖9Β示出了第一實(shí)施例的布置的變體，其中撓曲部214. 1至214. 4在沿力流方向具有互換過的順序。作為原則，此處的撓曲部的布置取決于所希望的運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)(kinematics)或與剛度無關(guān)的狀況，諸如生產(chǎn)能力和/或裝配能力。具體而言，在第一連接區(qū)域內(nèi)214. 5和第二連接區(qū)域214. 6中的位移之間的傳動(dòng)比取決于所述兩個(gè)第一撓曲部214. 2和214. 4之間的間距。圖9C示出了結(jié)合第一實(shí)施例在上文中已經(jīng)被描述的一個(gè)變型，其中所有的撓曲部被實(shí)現(xiàn)在橫向于彎曲軸的方向上較短的接頭，從而實(shí)現(xiàn)為旋轉(zhuǎn)接頭。在圖9D的變型中，兩個(gè)板簧狀撓曲部214. 2和214. 4被沿力流方向K對(duì)齊。結(jié)果， 它們的彎曲軸因此被布置為與力流方向K共面。對(duì)于其它方面，適用于圖9C中的結(jié)構(gòu)。通過這種方式，最終獲得在載荷作用下出現(xiàn)的所希望的應(yīng)力分布或設(shè)置(例如純拉伸/壓縮應(yīng)力的產(chǎn)生、彎曲應(yīng)力的減少)。在根據(jù)此處描述的實(shí)施例的光學(xué)模塊108中，雙腳架支架可被沿其平行于支撐單元表面的縱向方向布置，其中雙腳架支架的支架腳和支架頭各自通過至少一個(gè)撓曲部 214. 2、214. 4沿直徑方向接合在一起，使得它們的連接線與支撐單元的表面以一角度相交。第三實(shí)施例在下文中，參照?qǐng)D1、2和IOA描述根據(jù)本發(fā)明的支撐元件311的另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例。該支撐元件311可用來取代成像裝置101中的支撐元件111。該支撐元件311的基本結(jié)構(gòu)及其操作方法對(duì)應(yīng)于圖2中的支撐元件111，所以僅對(duì)不同之處進(jìn)行描述。特別地，將相似的部件的附圖標(biāo)記增加200。除在下文中另行說明之外，與部件的特性相關(guān)的描述參照前文中給出的說明。圖IOA示出了在支撐構(gòu)件314的區(qū)域內(nèi)的橫截面。支撐元件311和支撐元件111 之間僅有的不同是支撐元件314的第一撓曲部314. 1被構(gòu)造為板簧元件(沿χ方向延伸)， 而和撓曲部114. 3類似的撓曲部被省略。換句話說，此處撓曲部314. 1首先集成了兩個(gè)彎曲元件114. 1和114. 3的功能，并且還通過其扭轉(zhuǎn)提供了對(duì)光學(xué)元件106. 1的傾斜運(yùn)動(dòng)(繞橫向于光軸延伸的傾斜軸)的去耦。通過這種方式，同樣形成對(duì)恰好一個(gè)自由度上的運(yùn)動(dòng) (即繞χ軸的旋轉(zhuǎn))的限制，從而獲得對(duì)光學(xué)元件106. 1的靜態(tài)確定支撐。圖IOB示出的構(gòu)造在構(gòu)造和功能上類似于圖IOA中的構(gòu)造，其中以彼此緊鄰設(shè)置的兩個(gè)短板簧314. 1和314. 4取代一個(gè)長板簧。第四實(shí)施例在下文中，參照?qǐng)D1、2、11A和IlB描述根據(jù)本發(fā)明的支撐元件411的另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例。該支撐元件411可用來取代成像裝置101中的支撐元件111。該支撐元件411的基本結(jié)構(gòu)及其操作方法對(duì)應(yīng)于圖2中的支撐元件111，所以這里僅對(duì)其不同之處進(jìn)行描述。 特別地，將相似的部件的附圖標(biāo)記增加300。除在下文中另行說明之外，與部件的特性相關(guān)的描述參照前文中給出的說明。在此結(jié)構(gòu)中，支撐構(gòu)件414僅具有兩個(gè)第一撓曲部414. 1和414. 3 (它們的彎曲軸平行于y方向延伸)，使得在支撐構(gòu)件414的區(qū)域內(nèi)實(shí)現(xiàn)對(duì)四個(gè)自由度上的運(yùn)動(dòng)的限制。在此變型中，另外兩個(gè)自由度上的去耦發(fā)生在第二連接元件415的區(qū)域內(nèi)。為此，提供有第二連接元件415的兩個(gè)也沿其彎曲軸呈長形的第二撓曲部415. 1和415. 2。撓曲部415. 1對(duì)光學(xué)元件106. 1繞橫向于光軸延伸的傾斜軸的傾斜運(yùn)動(dòng)去耦，而撓曲部415. 2提供了對(duì)該光學(xué)元件的繞其光軸的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)的去耦。該構(gòu)造具有以下優(yōu)勢光學(xué)元件106. 1的傾斜和旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)的去耦發(fā)生在光學(xué)元件的緊鄰周邊，這樣由其引發(fā)的任何光學(xué)元件的位置相對(duì)其設(shè)定值的偏離較其中去耦元件沿力的流轉(zhuǎn)方向遠(yuǎn)離光學(xué)元件106. 1的布置而言要小。和第四實(shí)施例類似，此處描述的光學(xué)模塊108的實(shí)施例包括至少一個(gè)將雙腳架支架的支架頭直接或間接連接至光學(xué)元件的接頭單元，其中該接頭單元包括至少一個(gè)撓曲部
414.3，其彎曲平面和相應(yīng)的雙腳架的雙腳架平面平行。此外，在光學(xué)模塊108中，可替換地或附加地，用于連接光學(xué)元件的接頭單元可包括至少一個(gè)其彎曲平面垂直于相應(yīng)的雙腳架的雙腳架平面的撓曲部。在此處描述的光學(xué)模塊108的其它實(shí)施例中，雙腳架的支架頭可經(jīng)由用于連接光學(xué)元件的接頭單元連接各自經(jīng)由連接元件415保持光學(xué)元件的保持元件112。此處保持元件112或連接元件415可至少包括另外的撓曲部415. 1,415. 2。這樣的話，另外的撓曲部
415.1,415. 3可具有沿光學(xué)元件的光軸方向垂直于雙腳架平面的彎曲平面，以及/或者沿和光學(xué)元件的光軸垂直的方向垂直于雙腳架平面的彎曲平面。第五和第六實(shí)施例在下文中，參照?qǐng)D1、2、12和13描述根據(jù)本發(fā)明的支撐元件511和611的其它優(yōu)選實(shí)施例。所述支撐元件511和611可用來取代成像裝置101中的支撐元件411。所述支撐元件511和611的基本結(jié)構(gòu)及其操作方法對(duì)應(yīng)于圖1IA中的支撐元件411，所以這里僅對(duì)其不同之處進(jìn)行描述。特別地，將相似的部件的附圖標(biāo)記增加100或200。除在下文中另行說明之外，與部件的特性相關(guān)的描述參照前文中給出的說明。支撐元件511和支撐元件411之間的區(qū)別在于經(jīng)由板簧狀第二撓曲部515. 1在三個(gè)自由度上提供去耦，即除了光學(xué)元件106. 1的傾斜和旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)的去耦之外，還有光學(xué)元件106. 1的徑向運(yùn)動(dòng)(相應(yīng)地沿其徑向方向的運(yùn)動(dòng))的去耦。因此，在此構(gòu)造中，支撐構(gòu)件514和第二連接元件515提供了對(duì)光學(xué)元件106. 1相對(duì)于外環(huán)110在恰好一個(gè)自由度(即沿X方向的平動(dòng))上的運(yùn)動(dòng)的限制。利用圖13中的支撐元件611產(chǎn)生對(duì)運(yùn)動(dòng)的類似的限制，其中就對(duì)光學(xué)元件106. 1 的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)的去耦而言，板簧615. 1繞其光軸更具剛性。第七實(shí)施例在下文中，參照?qǐng)D1、2和14A描述根據(jù)本發(fā)明的支撐元件711的另一優(yōu)選實(shí)施例。 所述支撐元件711可用來取代成像裝置101中的支撐元件。所述支撐元件711的基本結(jié)構(gòu)及其操作方法對(duì)應(yīng)于圖IlA中的支撐元件411，所以這里僅對(duì)其不同之處進(jìn)行描述。特別地，將相似的部件的附圖標(biāo)記增加300。除在下文中另行說明之外，與部件的特性相關(guān)的描述參照前文中給出的說明。支撐元件711和支撐元件411之間的區(qū)別在于經(jīng)由L形板簧狀第二撓曲部715. 1 提供了三個(gè)自由度上的去耦，即除了光學(xué)元件106. 1的傾斜和旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)的去耦之外，還有光學(xué)元件106. 1的徑向運(yùn)動(dòng)(相應(yīng)地沿徑向方向的運(yùn)動(dòng))的去耦。圖14B至14D示出了該撓曲部715. 2的構(gòu)造的其它變型，其中在各種情形下，在垂直于彎曲軸的切面內(nèi)，撓曲部715. 2的橫截面的角形區(qū)段(angled course)是確保多重去耦的決定性特性。圖14E示出了另一個(gè)變型，其中可通過附加的板簧元件715. 3解決光學(xué)元件沿χ 方向的可能的寄生運(yùn)動(dòng)的問題第八實(shí)施例在下文中，參照?qǐng)D1、2、15Α描述根據(jù)本發(fā)明的支撐元件811的另一優(yōu)選實(shí)施例。所述支撐元件811可用來取代成像裝置101中的支撐元件111。所述支撐元件811的基本結(jié)構(gòu)及其操作方法對(duì)應(yīng)于圖2中的支撐元件111，所以這里僅對(duì)其不同之處進(jìn)行描述。特別地，將相似的部件的附圖標(biāo)記增加700。除在下文中另行說明之外，與部件的特性相關(guān)的描述參照前文中給出的說明。這里與支撐元件111的區(qū)別僅在于在第二撓曲部813. 1的構(gòu)造，杠桿813經(jīng)由第二撓曲部813. 1被連接至外環(huán)110。在此示例中，為了改善對(duì)杠桿813的傾斜支撐，通過兩個(gè)板簧狀元件形成撓曲部813. 1，所述板簧狀元件的軸相互交叉，并由此限定了杠桿813的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)的瞬時(shí)旋轉(zhuǎn)中心。圖15Β至15D示出了該構(gòu)造的其它變型，其中構(gòu)成撓曲部813. 1的兩個(gè)板簧狀元件的布置不同。在此處描述的光學(xué)元件108的其它實(shí)施例中，支承部的撓曲部813. 1可包括具有各自平行的彎曲平面的多個(gè)撓曲部，所述多個(gè)撓曲部構(gòu)成了旋轉(zhuǎn)中心。此處優(yōu)選的是構(gòu)成旋轉(zhuǎn)中心的彎曲元件構(gòu)垂直于它們相應(yīng)的彎曲平面構(gòu)造成剛性的。
第九實(shí)施例在下文中，參照?qǐng)D1、2、16描述根據(jù)本發(fā)明的支撐元件911的另一優(yōu)選實(shí)施例。所述支撐元件911可用來取代成像裝置101中的支撐元件111。所述支撐元件911的基本結(jié)構(gòu)及其操作方法對(duì)應(yīng)于圖2中的支撐元件111，所以這里僅對(duì)其不同之處進(jìn)行描述。特別地，將相似的部件的附圖標(biāo)記增加800。除在下文中另行說明之外，與部件的特性相關(guān)的描述參照前文中給出的說明。這里與支撐元件111的區(qū)別在于杠桿913的附加傾斜支架的構(gòu)造。在此示例中， 杠桿913沒有直接被附加地支撐，而是提供了附加的板簧狀構(gòu)造撓曲部913. 2，以經(jīng)由該撓曲部進(jìn)一步支撐該支撐構(gòu)件914(沿ζ軸方向)，以避免杠桿913的傾斜以及由此引起的支撐構(gòu)件114的傾斜(關(guān)于χ軸)。另一個(gè)區(qū)別是第一撓曲部914. 1也具有板簧狀構(gòu)造。該板簧狀撓曲部914. 1和 913的軸相交，從而通過這樣的方式，為杠桿913的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)限定杠桿913與支撐構(gòu)件914 之間的補(bǔ)償運(yùn)動(dòng)的瞬時(shí)旋轉(zhuǎn)中心。第十實(shí)施例在下文中，參照?qǐng)D1、2、17A描述根據(jù)本發(fā)明的支撐元件1011的另一優(yōu)選實(shí)施例。 所述支撐元件1011可用來取代成像裝置101中的支撐元件111。所述支撐元件1011的基本結(jié)構(gòu)及其操作方法對(duì)應(yīng)于圖2中的支撐元件111，所以這里僅對(duì)其不同之處進(jìn)行描述。特別地，將相似的部件的附圖標(biāo)記增加900。除在下文中另行說明之外，與部件的特性相關(guān)的描述參照前文中給出的說明。與支撐元件111之間的區(qū)別僅在于預(yù)拉伸裝置1019的構(gòu)造，其中經(jīng)由所述預(yù)拉伸裝置，杠桿1013承受預(yù)拉伸。在本示例中，板簧1019被布置在撓曲部1013. 1的區(qū)域內(nèi)，杠桿經(jīng)由其被連接至外環(huán)110。圖17B示出了該結(jié)構(gòu)的另一變型，其中預(yù)拉伸裝置1019被直接地集成在撓曲部 1013. 1中。為此，具有U形橫截面(在xy平面內(nèi))的板簧狀元件被整體地接合至杠桿1013。 預(yù)拉伸可經(jīng)由接合至外環(huán)110的調(diào)節(jié)螺絲1019. 1 (或類似的調(diào)節(jié)手段)來設(shè)定。以上僅以使用波長為193nm的光的微光刻領(lǐng)域內(nèi)的示例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了進(jìn)一步的說明。然而不言而喻的是，本發(fā)明同樣可用于其它應(yīng)用或成像方法中，尤其是任意的成像用光的波長。
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)模塊，其具有-支撐單元，-用來相對(duì)于所述支撐單元保持和/或定位微光刻投射曝光系統(tǒng)的光學(xué)元件的至少一個(gè)雙腳架，-其中所述雙腳架包括兩個(gè)雙腳架支架，所述每一個(gè)雙腳架支架具有第一端，即支架腳，所述第一端被直接或間接地連接至所述支撐單元，且-所述每一個(gè)雙腳架支架具有第二端，即支架頭，所述第二端被直接或間接地連接至光學(xué)元件，使得至少一個(gè)支架頭與連接所述兩個(gè)支架腳的連接線張成一雙腳架平面，其中-所述支架腳的間距可通過被保持在支承部上且經(jīng)由連接單元與至少一個(gè)支架腳接合的至少一個(gè)杠桿來調(diào)節(jié)，所述杠桿可沿至少一個(gè)運(yùn)動(dòng)方向移動(dòng)，其中-所述杠桿的至少一個(gè)運(yùn)動(dòng)方向位于所述雙腳架平面之外，且-其中所述連接單元具有有著恰好一個(gè)彎曲平面的至少一個(gè)撓曲部，以使得所述撓曲部垂直于所述彎曲平面具有剛性結(jié)構(gòu)。
2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)模塊，其中所述支架腳沿所述連接線的間距大于所述支架頭的間距。
3.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)模塊，其中所述支架腳沿所述連接線的間距小于所述支架頭的間距。
4.如權(quán)利要求1至3之一所述的光學(xué)模塊，其中所述撓曲部沿所述彎曲平面的方向具有第一阻力矩，且垂直于所述彎曲平面具有第二阻力矩，其中所述第二阻力矩為所述第一阻力矩的大小的至少兩倍。
5.如權(quán)利要求1至4之一所述的光學(xué)模塊，其中所述撓曲部具有垂直于所述彎曲平面的長形的彎曲軸，且其中所述撓曲部沿所述彎曲軸的方向的長度為所述至少一個(gè)撓曲部沿所述彎曲方向垂直于所述彎曲軸伸展的最大橫截面尺寸的至少兩倍。
6.如權(quán)利要求1至5之一所述的光學(xué)模塊，其中所述杠桿的運(yùn)動(dòng)方向垂直于所述雙腳架平面，且其中所述至少一個(gè)撓曲部的彎曲平面垂直于所述雙腳架平面。
7.如權(quán)利要求5或6所述的光學(xué)模塊，其中所述杠桿的運(yùn)動(dòng)方向垂直于所述雙腳架平面，且其中所述至少一個(gè)撓曲部的彎曲軸平行于所述雙腳架平面。
8.如權(quán)利要求1至7之一所述的光學(xué)模塊，其中所述接頭單元包括具有另外的彎曲平面的另外的撓曲部。
9.如權(quán)利要求8所述的光學(xué)模塊，其中所述另外的撓曲部的所述另外的彎曲平面垂直于所述至少一個(gè)撓曲部的所述彎曲平面。
10.如權(quán)利要求8或9所述的光學(xué)模塊，其中所述另外的撓曲部垂直于所述彎曲平面具有剛性構(gòu)造。
11.如權(quán)利要求10所述的光學(xué)模塊，其中所述另外的撓曲部具有垂直于所述另外的彎曲平面的另外的彎曲軸。
12.如權(quán)利要求11所述的光學(xué)模塊，其中所述另外的撓曲部相對(duì)于垂直于所述另外的彎曲軸的扭轉(zhuǎn)軸的阻力極矩為沿所述另外的彎曲平面的方向的阻力矩的至少兩倍。
13.如權(quán)利要求10至12之一所述的光學(xué)模塊，其中所述另外的撓曲部沿所述另外的彎曲平面的方向具有第一阻力矩，而垂直于所述另外的彎曲平面具有第二阻力矩，其中所述第二阻力矩為所述第一阻力矩的大小的至少兩倍。
14.如權(quán)利要求1至13之一所述的光學(xué)模塊，其中所述接頭單元的所述至少一個(gè)撓曲部的所述彎曲平面平行于所述光學(xué)元件的對(duì)稱面，或平行于和所述投射曝光系統(tǒng)內(nèi)的光軸平行的平面。
15.如權(quán)利要求8至14之一所述的光學(xué)模塊，其中所述另外的撓曲部的所述另外的彎曲平面垂直于所述光學(xué)元件的對(duì)稱面，或平行于所述投射曝光系統(tǒng)中的光軸。
16.如權(quán)利要求8至15之一所述的光學(xué)模塊，其中所述另外的撓曲部的所述另外的彎曲平面平行于所述雙腳架平面。
17.如前述權(quán)利要求之一所述的光學(xué)模塊，其中所述雙腳架支架沿其平行于所述支撐單元的表面的縱向方向布置，且其中所述雙腳架支架的支架腳和支架頭各自包括至少一個(gè)撓曲部，使得它們的連接線以一角度與所述支撐單元的所述表面相交。
18.如權(quán)利要求1至17之一所述的光學(xué)模塊，其中所述接頭單元的所述至少一個(gè)撓曲部或所述另外的撓曲部被構(gòu)造為板簧。
19.如權(quán)利要求1至18之一所述的光學(xué)模塊，其中分配給相應(yīng)的雙腳架的所述杠桿的支承部被構(gòu)造成將所述杠桿連接至所述支撐單元的撓曲部。
20.如權(quán)利要求19所述的光學(xué)模塊，其中所述支承部的撓曲部恰好具有一個(gè)彎曲平面，使得所述支承部的撓曲部具有垂直于其彎曲平面的剛性構(gòu)造。
21.如權(quán)利要求20所述的光學(xué)模塊，其中所述支承部的撓曲部沿其彎曲平面的方向具有第一阻力矩，而垂直于其彎曲平面具有第二阻力矩，其中所述第二阻力矩為所述第一阻力矩的大小的至少兩倍。
22.如權(quán)利要求20或21所述的光學(xué)模塊，其中所述支承部的撓曲部具有垂直于其彎曲平面的長形彎曲軸，且其中所述支承部的撓曲部沿其彎曲軸的方向的長度是所述支承部的撓曲部沿所述彎曲方向垂直于所述支承部的彎曲軸伸展的最大橫截面尺寸的至少兩倍。
23.如權(quán)利要求22所述的光學(xué)模塊，其中所述支承部的所述彎曲軸平行于所述雙腳架平面，所述雙腳架平面的所述雙腳架支架可通過由所述支承部保持的所述杠桿來調(diào)整。
24.如權(quán)利要求20至23之一所述的光學(xué)模塊，其中所述支承部的所述彎曲平面平行于所述光學(xué)元件的對(duì)稱面或平行于與所述投射曝光系統(tǒng)內(nèi)的光軸垂直的平面。
25.如權(quán)利要求19至M之一所述的光學(xué)模塊，其中所述支承部的所述撓曲部包括多個(gè)撓曲部，所述多個(gè)撓曲部各自具有平行的彎曲平面，且構(gòu)成旋轉(zhuǎn)中心。
26.如權(quán)利要求25所述的光學(xué)模塊，其中所述構(gòu)成旋轉(zhuǎn)中心的所述撓曲部垂直于它們相應(yīng)的彎曲平面被構(gòu)造成剛性的。
27.如權(quán)利要求1至沈之一所述的光學(xué)模塊，其中所述杠桿被構(gòu)造為單邊或雙邊杠桿。
28.如權(quán)利要求1至27之一所述的光學(xué)模塊，其中雙腳架的至少一個(gè)雙腳架支架通過其支架腳被經(jīng)由一撓曲部連接至支撐單元，所述撓曲部的彎曲平面平行于與所述支架腳接合的所述接頭單元的所述至少一個(gè)撓曲部的彎曲平面。
29.如權(quán)利要求觀所述的光學(xué)模塊，其中將所述支架腳連接至所述支撐單元的所述撓曲部垂直于其彎曲平面被構(gòu)造成剛性的。
30.如權(quán)利要求20至四之一所述的光學(xué)模塊，其中所述杠桿經(jīng)由至少一個(gè)另外的撓曲部與所述支撐單元連接。
31.如權(quán)利要求30所述的光學(xué)模塊，其中所述杠桿的所述另外的撓曲部恰好具有一個(gè)彎曲平面，所述彎曲平面平行于所述支承部的所述撓曲部的所述彎曲平面，且其中所述杠桿的所述另外的撓曲部具有垂直于其彎曲平面的剛性構(gòu)造。
32.如權(quán)利要求30或31所述的光學(xué)模塊，其中所述另外的撓曲部布置成與所述支承部隔開一段距離，所述距離小于所述杠桿的載荷臂的長度的兩倍。
33.如權(quán)利要求1至32之一所述的光學(xué)模塊，其中用于所述光學(xué)元件的直接或間接連接的雙腳架支架的至少一個(gè)支架頭包括具有至少一個(gè)撓曲部的接頭單元，所述至少一個(gè)撓曲部的彎曲平面平行于對(duì)應(yīng)的雙腳架的雙腳架平面。
34.如權(quán)利要求33所述的光學(xué)元件，其中用于連接所述光學(xué)元件的所述接頭單元包括至少一個(gè)另外的撓曲部，所述至少一個(gè)另外的撓曲部的彎曲平面垂直于對(duì)應(yīng)的雙腳架的雙腳架平面。
35.如權(quán)利要求33或34所述的光學(xué)模塊，其中用于與所述光學(xué)元件連接的所述雙腳架的所述支架頭被經(jīng)由所述接頭單元連接至保持元件，所述保持元件各自經(jīng)由連接元件保持所述光學(xué)元件。
36.如權(quán)利要求35所述的光學(xué)模塊，其中所述保持元件和/或所述連接元件包括至少一個(gè)另外的撓曲部。
37.如權(quán)利要求36所述的光學(xué)模塊，其中所述另外的撓曲部具有彎曲平面，所述彎曲平面沿所述光學(xué)元件的光軸方向垂直于所述雙腳架平面，和/或沿垂直于所述光學(xué)元件的光軸的方向垂直于所述雙腳架平面。
38.如權(quán)利要求1至37之一所述的光學(xué)模塊，其中所述杠桿包括預(yù)拉伸裝置和調(diào)節(jié)裝置。
39.如權(quán)利要求1至38之一所述的光學(xué)模塊，其具有對(duì)應(yīng)于所述至少一個(gè)雙腳架的三個(gè)具有同樣構(gòu)造的雙腳架，所述三個(gè)雙腳架為了相對(duì)于所述支撐單元保持和/或定位所述光學(xué)元件，形成六角架結(jié)構(gòu)，其中對(duì)應(yīng)于所述至少一個(gè)雙腳架的所述每一個(gè)雙腳架各自分配有對(duì)應(yīng)的杠桿和連接單元。
40.用于光學(xué)元件的支撐元件，所述光學(xué)元件特別適用于微光刻，所述支撐元件具有-支撐構(gòu)件，-第一連接元件，用于將所述支撐構(gòu)件連接至外部支撐單元，和-第二連接元件，用于將所述支撐構(gòu)件連接至所述光學(xué)元件，其中-所述支撐元件被構(gòu)造為和另外的支撐元件以動(dòng)力學(xué)并聯(lián)的方式協(xié)作，并在六個(gè)自由度上相對(duì)于所述外部支撐單元定位及定向所述光學(xué)元件，-所述支撐構(gòu)件包括多個(gè)第一撓曲部，且-所述第一連接元件和/或所述第二連接元件包括至少一個(gè)第二撓曲部，-每一個(gè)所述第一和第二撓曲部限定彎曲軸，-經(jīng)由所述多個(gè)第一撓曲部和第二撓曲部在最多兩個(gè)自由度上能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)所述光學(xué)元件相對(duì)于所述支撐單元的運(yùn)動(dòng)限制，其特征在于-每一個(gè)所述第一和第二撓曲部沿所述彎曲軸構(gòu)造成長形形式。
41.如權(quán)利要求40所述的支撐元件，其特征在于，經(jīng)由所述多個(gè)第一和第二撓曲部，能夠恰好在一個(gè)自由度上實(shí)現(xiàn)對(duì)所述光學(xué)元件相對(duì)于所述支撐單元的運(yùn)動(dòng)限制。
42.如權(quán)利要求40或41所述的支撐元件，其特征在于，所述第一和第二彎曲元件中的至少一個(gè)被構(gòu)造為板簧。
43.如權(quán)利要求40至42之一所述的支撐元件，其特征在于，-提供支撐布置，所述支撐布置由所述支撐構(gòu)件形成或由所述支撐構(gòu)件和所述第二連接元件形成，且-所述支撐布置包括多個(gè)第一和第二撓曲部，其中-經(jīng)由所述支撐布置的所述多個(gè)第一和第二撓曲部，能夠在最多兩個(gè)自由度上，尤其是恰好在一個(gè)自由度上，實(shí)現(xiàn)對(duì)所述光學(xué)元件相對(duì)于所述支撐單元的運(yùn)動(dòng)限制，-所述支撐布置的每一個(gè)所述第一和第二撓曲部限定彎曲軸，且沿所述彎曲軸構(gòu)造成長形形式。
44.如權(quán)利要求43所述的支撐元件，其特征在于，所述支撐布置包括至少三個(gè)第一和第二撓曲部，尤其是恰好四個(gè)第一和第二撓曲部。
45.如權(quán)利要求44所述的支撐元件，其特征在于，-所述支撐布置包括恰好三個(gè)第一和第二撓曲部，其中-所述第一和第二撓曲部中的一個(gè)被構(gòu)造成在橫向于其彎曲軸的方向上是長形形式的。
46.如權(quán)利要求44或45所述的支撐元件，其特征在于，-所述支撐布置限定了支撐所述光學(xué)元件時(shí)作用在所述外部支撐單元上的支撐力的力流方向，且-所述第一和第二撓曲部中的兩個(gè)被布置且構(gòu)造成使得它們的彎曲軸和所述力流方向被布置為大致共面，其中-所述兩個(gè)撓曲部特別地具有板簧狀結(jié)構(gòu)。
47.如權(quán)利要求44至46之一所述的支撐元件，其特征在于，-所述第一和第二撓曲部中的至少兩個(gè)的所述彎曲軸大致彼此平行地伸展，且 -所述第一和第二撓曲部中的至少兩個(gè)的所述彎曲軸彼此橫向地伸展，尤其是彼此垂直地伸展。
48.如權(quán)利要求40至47之一所述的支撐元件，其特征在于， -所述支撐構(gòu)件具有恰好兩個(gè)第一撓曲部，其中-所述支撐構(gòu)件的所述兩個(gè)第一撓曲部的所述彎曲軸彼此平行地伸展。
49.如權(quán)利要求40至48之一所述的支撐元件，其特征在于，-為了沿第一方向使所述第二連接元件發(fā)生位移，所述第一連接元件被構(gòu)造為使所述支撐構(gòu)件在其與所述第一連接元件的連接區(qū)域處沿第二方向發(fā)生位移，其中 -所述第一方向橫向于所述第二方向伸展。
50.如權(quán)利要求48或49所述，其特征在于，-所述支撐構(gòu)件的所述兩個(gè)第一撓曲部的所述彎曲軸大致彼此平行地伸展，其中 -所述支撐構(gòu)件的所述兩個(gè)第一撓曲部的所述彎曲軸特別地橫向于所述第一方向且橫向于所述第二方向伸展。
51.如權(quán)利要求40至50之一所述的支撐元件，其特征在于，-所述第一和第二撓曲部中的一個(gè)具有構(gòu)造為板簧形式且相對(duì)彼此傾斜的至少兩個(gè)支腳，其中-所述撓曲部在垂直于其彎曲軸的截平面內(nèi)特別地具有L型橫截面。
52.如權(quán)利要求40至51之一所述的支撐元件，其特征在于，-為了沿第二方向使所述第二連接元件發(fā)生位移，所述第一連接元件被構(gòu)造為使所述支撐構(gòu)件在其與所述第一連接元件的連接區(qū)域處沿第一方向發(fā)生位移，其中所述第一連接元件經(jīng)由第二撓曲部連接至所述外部支撐單元。
53.如權(quán)利要求52所述的支撐元件，其特征在于-經(jīng)由其將所述第一連接元件連接至所述外部支撐單元的所述第二撓曲部具有構(gòu)造成板簧形式的至少兩個(gè)支腳，其中-每一個(gè)支腳限定平行于所述彎曲軸伸展的主延伸平面。
54.如權(quán)利要求52或53所述的支撐元件，其特征在于-經(jīng)由其將所述第一連接元件連接至所述外部支撐單元的所述第二撓曲部限定了所述第一連接元件的旋轉(zhuǎn)軸，且-所述第一連接元件和/或所述支撐構(gòu)件經(jīng)由另外的第二撓曲部連接至所述外部支撐單元，其中-所述另外的第二撓曲部沿所述旋轉(zhuǎn)軸方向?qū)⑺龅谝贿B接元件支撐在所述外部支撐單元上。
55.如權(quán)利要求M所述的支撐元件，其特征在于，-經(jīng)由其將所述第一連接元件連接至所述外部支撐單元的所述第二撓曲部和所述另外的第二撓曲部布置成關(guān)于所述支撐構(gòu)件至所述第一連接元件的連接彼此相對(duì)，其中-所述另外的第二撓曲部特別地被布置在所述支撐構(gòu)件至所述第一連接元件的連接的區(qū)域內(nèi)。
56.如權(quán)利要求M或55所述的支撐元件，其特征在于，所述另外的第二撓曲部具有板簧狀構(gòu)造。
57.如權(quán)利要求52至56之一所述的支撐元件，其特征在于，-經(jīng)由其將所述第一連接元件連接至所述外部支撐單元的所述第二撓曲部限定了所述第一連接元件的旋轉(zhuǎn)軸，且-所述第一連接元件被經(jīng)由另外的第二撓曲部連接至所述外部支撐單元，所述另外的第二撓曲部特別地被布置在所述第二撓曲部附近，其中-所述另外的第二撓曲部被構(gòu)造且布置為使得其向所述第一連接元件施加繞所述第一連接元件的旋轉(zhuǎn)軸的預(yù)拉伸力矩。
58.如權(quán)利要求57所述的支撐元件，其特征在于-所述另外的第二撓曲部具有構(gòu)造成板簧形式的至少一個(gè)截面，其中 -所述另外的第二撓曲部限定彎曲軸，且特別地，所述另外的第二撓曲部具有在垂直于其彎曲軸的平面內(nèi)具有角形橫截面的部分，特別是具有大致U形的橫截面的部分。
59.如權(quán)利要求57或58所述的支撐元件，其特征在于，-所述另外的第二撓曲部能夠經(jīng)由預(yù)拉伸元件連接至所述外部支撐單元，其中， -經(jīng)由所述預(yù)拉伸元件，繞所述第一連接元件的所述旋轉(zhuǎn)軸的預(yù)拉伸力矩是可調(diào)節(jié)的。
60.用于光學(xué)元件的支撐元件，所述光學(xué)元件特別適用于微光刻，所述支撐元件具有 -支撐構(gòu)件，-第一連接元件，用于將所述支撐構(gòu)件連接至外部支撐單元，和 -第二連接元件，用于將所述支撐構(gòu)件連接至所述光學(xué)元件，其中 -所述支撐元件被構(gòu)造為和另外的支撐元件以動(dòng)力學(xué)并聯(lián)的方式協(xié)作，用于在六個(gè)自由度上相對(duì)于所述外部支撐單元定位及定向所述光學(xué)元件，-所述第一連接元件被構(gòu)造為在與所述第一連接元件的第一連接區(qū)域處使所述支撐構(gòu)件沿第一方向發(fā)生位移，以產(chǎn)生所述第二連接元件至所述支撐構(gòu)件的第二連接區(qū)域沿第二方向的位移，-所述支撐構(gòu)件包括多個(gè)第一撓曲部，且-所述第一連接元件和/或所述第二連接元件具有至少一個(gè)第二撓曲部， 其特征在于，-所述第一撓曲部被構(gòu)造及布置為使得其阻止所述第二連接區(qū)域相對(duì)于所述第一連接區(qū)域繞旋轉(zhuǎn)軸的旋轉(zhuǎn)，所述旋轉(zhuǎn)軸位于由所述第一方向和所述第二方向限定的運(yùn)動(dòng)平面內(nèi)。
61.如權(quán)利要求60所述的支撐元件，其特征在于， -每一個(gè)所述第一撓曲部限定第一彎曲軸，其中-每一個(gè)所述第一撓曲部具有沿所述第一彎曲軸的長形構(gòu)造，且 -所述第一彎曲軸大致垂直于所述運(yùn)動(dòng)平面地伸展。
62.如權(quán)利要求60或61所述的支撐元件，其特征在于，經(jīng)由所述多個(gè)第一和第一撓曲部，能夠在最多兩個(gè)自由度上，尤其是恰好在一個(gè)自由度上，實(shí)現(xiàn)對(duì)所述光學(xué)元件相對(duì)于所述支撐單元的運(yùn)動(dòng)的限制。
63.如權(quán)利要求60至62之一所述的支撐元件，其特征在于，所述第二撓曲部限定第二彎曲軸，且沿所述第二彎曲軸被構(gòu)造成長形形式，特別是板簧狀構(gòu)造。
64.如權(quán)利要求60至63之一所述的支撐元件，其特征在于，-所述支撐構(gòu)件在支撐所述光學(xué)單元時(shí)限定了作用在所述外部支撐單元上的支撐力的力流方向，且-所述第一撓曲部被布置和構(gòu)造為使得其彎曲軸和所述力流方向被布置為大致共面。
65.如權(quán)利要求60至64之一所述的支撐元件，其特征在于，第一撓曲部和第二撓曲部的所述彎曲軸彼此橫向地伸展，特別地，所述彎曲軸彼此垂直地伸展。
66.如權(quán)利要求60至65之一所述的支撐元件，其特征在于，-所述第二撓曲部具有構(gòu)造成板簧形式且相對(duì)彼此傾斜的至少兩個(gè)支腳，其中 -所述第二撓曲部在垂直于其彎曲軸的截平面內(nèi)特別地具有L形橫截面。
67.如權(quán)利要求60至66之一所述的支撐元件，其特征在于，所述第一連接元件經(jīng)由沿所述第二彎曲軸呈長形的第二撓曲部連接至所述外部支撐單元。
68.如權(quán)利要求67所述的支撐元件，其特征在于，-經(jīng)由其將所述第一連接元件連接至所述外部支撐單元的所述第二撓曲部具有構(gòu)造呈板簧形式的至少兩個(gè)支腳，其中-每個(gè)支腳限定平行于所述第二彎曲軸伸展的主延伸平面。
69.如權(quán)利要求67或68所述的支撐元件，其特征在于，-經(jīng)由其將所述第一連接元件連接至所述外部支撐單元的所述第二撓曲部限定所述第一連接元件的旋轉(zhuǎn)軸，且-所述第一連接元件和/或所述支撐構(gòu)件經(jīng)由另外的第二撓曲部連接至所述外部支撐單元，其中-所述另外的第二撓曲部沿所述旋轉(zhuǎn)軸的方向?qū)⑺龅谝贿B接元件支撐在所述外部支撐單元上。
70.如權(quán)利要求69所述的支撐元件，其特征在于，-經(jīng)由其將所述第一連接元件連接至所述外部支撐單元的所述第二撓曲部和所述另外的第二撓曲部被布置成關(guān)于所述支撐構(gòu)件至所述第一連接元件的連接彼此相對(duì)，其中-所述另外的第二撓曲部特別地被布置在所述支撐構(gòu)件至所述第一連接元件的連接的區(qū)域內(nèi)。
71.如權(quán)利要求69或70所述的支撐元件，其特征在于，所述另外的第二撓曲部具有板簧狀構(gòu)造。
72.如權(quán)利要求67至71之一所述的支撐元件，其特征在于，-經(jīng)由其將所述第一連接元件連接至所述外部支撐單元的所述第二撓曲部限定所述第一連接元件的旋轉(zhuǎn)軸，且-所述第一連接元件經(jīng)由另外的第二撓曲部被連接至所述外部支撐單元，所述另外的第二撓曲部特別地被布置在所述第二撓曲部附近，其中-所述另外的第二撓曲部被構(gòu)造及布置為使得其在所述第一連接元件上施加繞所述第一連接元件的所述旋轉(zhuǎn)軸的預(yù)拉伸力矩。
73.如權(quán)利要求72所述的支撐元件，其特征在于，-所述另外的第二撓曲部具有構(gòu)造為板簧形式的至少一個(gè)部分，其中 -所述另外的第二撓曲部限定第二彎曲軸，且特別地，所述另外的第二撓曲部在垂直于其第二彎曲軸的平面內(nèi)具有有著角形橫截面的部分，特別是有著大致U形的橫截面的部分。
74.如權(quán)利要求71或72所述的支撐元件，其特征在于，-所述另外的第二撓曲部能夠經(jīng)由預(yù)拉伸元件被連接至所述外部支撐單元，其中 -經(jīng)由所述預(yù)拉伸元件，繞所述第一連接元件的所述旋轉(zhuǎn)軸作用的預(yù)拉伸力矩是可調(diào)節(jié)的。
75.光學(xué)模塊，特別適用于微光刻，其具有 -光學(xué)元件，-多個(gè)支撐元件，和 -外部支撐單元，其中-所述多個(gè)支撐元件在六個(gè)自由度上以動(dòng)力學(xué)并聯(lián)的方式將所述光學(xué)元件相對(duì)于所述外部支撐元件定位及定向，其中-所述多個(gè)支撐元件中的至少一個(gè)是如權(quán)利要求40至74之一所述的支撐元件。
76.如權(quán)利要求75所述的光學(xué)模塊，其特征在于， -所述光學(xué)模塊限定光軸，且-所述第一連接元件被構(gòu)造為使得所述支撐構(gòu)件在與所述第一連接元件的第一連接區(qū)域處沿第一方向發(fā)生位移，以產(chǎn)生所述第二連接元件至所述支撐構(gòu)件的第二連接區(qū)域沿第二方向的位移，其中所述第二方向大致平行于所述光軸伸展。
77.如權(quán)利要求76所述的光學(xué)模塊，其特征在于， -所述光學(xué)元件限定徑向方向，且-所述第一方向在大致垂直于所述光軸伸展的平面內(nèi)伸展， 和/或-所述第一方向大致橫向于所述徑向方向伸展。
78.光學(xué)成像裝置，特別適用于微光刻，其具有 -照明裝置-掩模裝置，用于容納包含投射圖案的掩模， -投射裝置，具有光學(xué)元件組，和 -基板裝置，容納基板，其中-所述照明裝置被構(gòu)造為對(duì)所述投射圖案進(jìn)行照明，且-所述光學(xué)元件組被構(gòu)造為將所述投射圖案投射在所述基板上，其中-所述照明裝置和/或所述投射裝置包括如權(quán)利要求75至77之一所述的光學(xué)模塊。
79.用于支撐光學(xué)元件的方法，特別適用于微光刻，其中-所述光學(xué)元件經(jīng)由多個(gè)支撐元件被支撐在外部支撐單元上，且在六個(gè)自由度上相對(duì)于所述外部支撐單元以動(dòng)力學(xué)并聯(lián)的方式被定位及定向，其中-支撐元件具有支撐構(gòu)件，所述支撐構(gòu)件經(jīng)由第一連接元件被連接至所述外部支撐單元，且經(jīng)由第二連接元件被連接至所述光學(xué)元件， -所述支撐構(gòu)件包括多個(gè)第一撓曲部，且-所述第一連接元件和/或所述第二連接元件具有至少一個(gè)第二撓曲部， -每一個(gè)所述第一和第二撓曲部限定彎曲軸，-經(jīng)由所述多個(gè)第一和第二撓曲部能夠在最多兩個(gè)自由度上實(shí)現(xiàn)對(duì)所述光學(xué)元件的運(yùn)動(dòng)限制，其特征在于，-對(duì)于每一個(gè)所述第一和第二撓曲部，使用被構(gòu)造成沿所述彎曲軸呈長形形式的接頭。
80.如權(quán)利要求79所述的方法，其特征在于，-經(jīng)由所述第一連接元件，使所述支撐構(gòu)件在其與所述第一連接元件的連接處沿第二方向發(fā)生位移，以使所述第二連接元件沿第一方向發(fā)生位移，其中 -所述第一方向橫向于所述第二方向伸展。
81.如權(quán)利要求79或80所述的方法，其特征在于，-所述第一連接元件經(jīng)由第二撓曲部被連接至所述外部支撐單元，其中所述第二撓曲部限定所述第一連接元件的旋轉(zhuǎn)軸，且-所述第一連接元件和/或所述支撐構(gòu)件經(jīng)由另外的第二撓曲部連接至所述外部支撐單元，其中-所述另外的第二撓曲部沿所述旋轉(zhuǎn)軸的方向?qū)⑺龅谝贿B接元件支撐在所述外部支撐單元上。
82.如權(quán)利要求79至81之一所述的方法，其特征在于，-所述第一連接元件經(jīng)由第二撓曲部被連接至所述外部支撐單元，其中所述第二撓曲部限定所述第一連接元件的旋轉(zhuǎn)軸，且-所述第一連接元件經(jīng)由另外的第二撓曲部連接至所述外部支撐單元，其中所述另外的第二撓曲部特別地位于所述第二撓曲部附近，其中-所述另外的第二撓曲部在所述第一連接元件上施加繞所述第一連接元件的所述旋轉(zhuǎn)軸作用的預(yù)拉伸力矩。
83.如權(quán)利要求82所述的方法，其特征在于，-所述另外的第二撓曲部經(jīng)由預(yù)拉伸元件被連接至所述外部支撐單元，其中， -繞所述第一連接元件的所述旋轉(zhuǎn)軸作用的所述預(yù)拉伸力矩經(jīng)由所述預(yù)拉伸元件被調(diào)節(jié)。
84.用于支撐光學(xué)元件的方法，特別適用于微光刻，其中-所述光學(xué)元件經(jīng)由多個(gè)支撐元件被支撐在外部支撐單元上，且在六個(gè)自由度上以動(dòng)力學(xué)并聯(lián)的方式相對(duì)于所述外部支撐單元被定位及定向，其中-支撐元件具有支撐構(gòu)件，所述支撐構(gòu)件經(jīng)由第一連接元件被連接至所述外部支撐單元，且經(jīng)由第二連接元件被連接至所述光學(xué)元件，-所述第一連接元件使得所述支撐構(gòu)件在與所述第一連接元件的第一連接區(qū)域處沿第一方向發(fā)生位移，以產(chǎn)生所述第二連接元件至所述支撐構(gòu)件的第二連接區(qū)域沿第二方向的位移，-所述支撐構(gòu)件包括多個(gè)第一撓曲部，且-所述第一連接元件和/或第二連接元件具有至少一個(gè)第二撓曲部， 其特征在于，-所述第一撓曲部阻止所述第二連接區(qū)域相對(duì)于所述第一連接區(qū)域繞旋轉(zhuǎn)軸的旋轉(zhuǎn)， 所述旋轉(zhuǎn)軸位于由所述第一方向和所述第二方向限定的運(yùn)動(dòng)平面內(nèi)。
85.如權(quán)利要求84所述的方法，其特征在于，經(jīng)由所述多個(gè)第一和第二撓曲部，在最多兩個(gè)自由度上，特別是在恰好一個(gè)自由度上，實(shí)現(xiàn)對(duì)所述光學(xué)元件相對(duì)于所述支撐單元的運(yùn)動(dòng)的限制。
86.如權(quán)利要求84或85所述的方法，其特征在于，所述第一連接元件經(jīng)由沿所述第二彎曲軸呈長形的第二撓曲部連接至所述外部支撐單元。
87.如權(quán)利要求84至86之一所述的方法，其特征在于，-經(jīng)由其將所述第一撓曲部連接至所述外部支撐單元的所述第二撓曲部限定所述第一連接元件的旋轉(zhuǎn)軸，且-所述第一連接元件和/或所述支撐構(gòu)件經(jīng)由另外的第二彎曲元件被連接至所述外部支撐單元，其中-所述另外的第二撓曲部沿所述旋轉(zhuǎn)軸的方向?qū)⑺龅谝贿B接元件支撐在所述外部支撐單元上。
88.如權(quán)利要求84至87之一所述的方法，其特征在于，-經(jīng)由其將所述第一撓曲部連接至所述外部支撐單元的所述第二撓曲部限定所述第一連接元件的旋轉(zhuǎn)軸，且-所述第一連接元件經(jīng)由另外的第二撓曲部被連接至所述外部支撐單元，其中所述另外的第二撓曲部特別地位于所述第二撓曲部附近，其中-所述另外的第二撓曲部在所述第一連接元件上施加繞所述第一連接元件的所述旋轉(zhuǎn)軸作用的預(yù)拉伸力矩。
89.如權(quán)利要求88所述的方法，其特征在于，-所述另外的第二撓曲部被經(jīng)由預(yù)拉伸元件連接至所述外部支撐單元，其中 -繞所述第一連接元件的所述旋轉(zhuǎn)軸作用的所述預(yù)拉伸力矩經(jīng)由所述預(yù)拉伸元件被調(diào)
全文摘要
本發(fā)明涉及特別適用于微光刻的、用于光學(xué)元件的支撐元件，其包括支撐構(gòu)件、將支撐構(gòu)件連接至外部支撐單元的第一連接元件和將支撐構(gòu)件連接至光學(xué)元件的第二連接元件。所述支撐元件適于以動(dòng)力學(xué)并聯(lián)方式和其它支撐元件協(xié)作，以在六個(gè)自由度上將光學(xué)元件相對(duì)于外部支撐單元定位及定向。所述支撐構(gòu)件包括多個(gè)第一彎曲接頭，其中第一連接元件和/或第二連接元件至少包括第二彎曲接頭，其中每個(gè)第一和第二彎曲接頭限定彎曲軸?？赏ㄟ^多個(gè)第一和第二彎曲接頭的方式在最多兩個(gè)自由度上實(shí)現(xiàn)對(duì)光學(xué)元件相對(duì)于支撐單元的運(yùn)動(dòng)限制。每個(gè)第一和第二彎曲接頭沿彎曲軸設(shè)計(jì)成長形。
文檔編號(hào)G03F7/20GK102227662SQ200980147722
公開日2011年10月26日 申請(qǐng)日期2009年9月30日 優(yōu)先權(quán)日2008年9月30日
發(fā)明者烏爾里克.韋伯, 尼古萊.溫格特, 詹斯.庫格勒 申請(qǐng)人:卡爾蔡司Smt有限責(zé)任公司