專(zhuān)利名稱(chēng)：玻璃基板再生裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種玻璃基板再生裝置，其從液晶顯示裝置等所使用的彩色濾光器的 制造工序中所產(chǎn)生的不良基板(未滿(mǎn)足質(zhì)量基準(zhǔn)的基板)再生玻璃基板。
背景技術(shù)：
圖15是表示彩色液晶顯示裝置所使用的彩色濾光器的一例的剖面圖。彩色濾光器101具備有玻璃基板2、形成于玻璃基板2上的黑陣列(BM) 3、紅色的 著色像素(R像素)4R、綠色的著色像素(G像素)4G、藍(lán)色的著色像素(B像素)4B(以下將 RGB各像素總稱(chēng)為“著色像素4”)、ITO (銦錫氧化物，Indium Tin Oxide)等的透明電極5、 光間隔片(PS)以及垂直取向部(VA)7。作為這種構(gòu)造的彩色濾光器101的制造方法，已知 光蝕刻法、印刷法以及噴墨法。圖16是表示光蝕刻法的各工序的流程圖。首先，將BM形成于玻璃基板上(SlOl)。接著，清潔玻璃基板(S102)，在玻璃基 板上涂布RGB的任一種著色光阻劑，并進(jìn)行預(yù)干燥(S103)，之后為了使基板上的著色光阻 劑干燥、硬化，而進(jìn)行預(yù)烘焙(S104)。然后，使用光掩模將基板上的著色光阻劑進(jìn)行曝光 (S105)，在進(jìn)行顯影處理后(S106)，使已圖形化的著色光阻劑硬化(S107)。重復(fù)進(jìn)行上述 S102 S107的處理直到在玻璃基板上形成R、G、B3色像素為止(S108)。然后，在著色像素 上形成透明電極膜后(S109)，在透明電極上形成PS、VA(S110)。經(jīng)由以上的工序，而制造圖 15所示的彩色濾光器。此外，關(guān)于對(duì)玻璃基板上的BM的形成，例如可采用如下的方法，將金屬薄膜形成 于玻璃基板上，在金屬薄膜上涂布光阻劑后，利用光蝕刻法進(jìn)行曝光、顯影、蝕刻，而形成BM 形狀的圖形?；蛘撸捎萌缦碌姆椒ǎ瑢⒑谏墓庾鑴┩坎加诓ＡЩ迳?，再利用光蝕刻法 將此黑色的光阻劑進(jìn)行曝光及顯影，而形成具有BM形狀的圖形(所謂的樹(shù)脂BM)。又，隨著彩色濾光器用玻璃基板的大型化，而有回避采用由金屬薄膜形成的BM的 傾向。這是由于和使用鉻等金屬并利用真空裝置形成金屬薄膜相比，使用黑色的樹(shù)脂光阻 劑進(jìn)行光蝕刻的方法在價(jià)格及環(huán)境兩個(gè)方面更為有利。雖然要求上述彩色濾光器具有高的可靠性，但是如圖16所示，其制造需要經(jīng)過(guò)很 多工序，在這過(guò)程中可能產(chǎn)生灰塵或樹(shù)脂渣等異物的附著或混入、針孔、圖形欠缺等缺陷。 發(fā)生這種缺陷的基板是不滿(mǎn)足質(zhì)量基準(zhǔn)的不良基板，會(huì)降低合格率。又，隨著近年來(lái)的大畫(huà) 面液晶電視的普及，彩色濾光器用玻璃基板發(fā)生大型化，厚度Imm以下且一邊的長(zhǎng)度長(zhǎng)達(dá) 1 2m的玻璃基板已經(jīng)在使用。因?yàn)檫@種玻璃基板易破損，所以不良基板的廢棄作業(yè)本身 伴隨著危險(xiǎn)。因此，人們尋求一種能夠?qū)⒉粷M(mǎn)足質(zhì)量基準(zhǔn)的不良基板再生為玻璃基板的玻璃基 板再生裝置。由玻璃基板再生裝置所再生的玻璃基板能夠再投入到制造工序中。圖17是表示彩色濾光器用玻璃基板的再生處理的流程圖。對(duì)在PS、VA形成工序以后所產(chǎn)生的不良基板(具有和圖15的彩色濾光器一樣的疊層構(gòu)造)進(jìn)行再生時(shí)，首先，依次進(jìn)行第1堿性液處理(S201)、刷洗(S202)以及噴淋水 洗(S203)，剝離位于玻璃基板的最上層的PS、VA膜。接著，進(jìn)行酸性液處理(S204)及噴淋 水洗(S205)，剝離中間層透明電極。然后，依次進(jìn)行第2堿性液處理(S206)、刷洗(S207) 以及噴淋水洗(S208)，并將玻璃基板表面的BM、R像素、G像素、B像素剝離。然后，利用刷 洗(S209)除去微量地殘留于玻璃基板上的清潔殘?jiān)?，通過(guò)除去水分而使玻璃基板變成干 燥(S210)。
圖18是表示以往的玻璃基板再生裝置的圖。玻璃基板再生裝置90進(jìn)行用以剝離不良基板1表面的樹(shù)脂膜(PS、VA、BM以及著 色像素)的堿性液處理(圖17的S201、S206)，并具備有儲(chǔ)存槽91、泵92、噴嘴93、堿性液 補(bǔ)充槽94、剝離液補(bǔ)充槽95以及回收盤(pán)96。在儲(chǔ)存槽91中，儲(chǔ)存已預(yù)先調(diào)整了各自的成分及濃度的處理液，包含堿性液及剝 離液。藉由泵92經(jīng)由配管97向噴嘴93供給儲(chǔ)存槽91內(nèi)的處理液，并從噴嘴93向不良基 板1排出該處理液。利用未圖示的清潔刷，和處理液的排出并行地清潔不良基板的表面，并 將PS、VA等樹(shù)脂膜剝離。不良基板1 一邊藉由未圖示的搬運(yùn)裝置以一定速度在規(guī)定方向上 搬運(yùn)，一邊接受藉由處理液及清潔刷的剝離處理。向不良基板1所排出的處理液及被剝離的樹(shù)脂(例如PS、VA形成中所使用的樹(shù) 脂)從回收盤(pán)96經(jīng)由配管100而回收到儲(chǔ)存槽91中。所回收的樹(shù)脂在儲(chǔ)存槽91內(nèi)沉淀 后從配管102排出到外部。或者，亦可將過(guò)濾器設(shè)置于儲(chǔ)存槽91內(nèi)并使樹(shù)脂分離。每隔一定時(shí)間地測(cè)量?jī)?chǔ)存槽91內(nèi)的堿性液濃度及剝離液濃度。在濃度不夠時(shí)，從 堿性液補(bǔ)充槽94及剝離液補(bǔ)充槽95分別經(jīng)由配管98及配管99而向儲(chǔ)存槽91補(bǔ)充堿性 液及剝離液。除了上述的圖17及圖18所示的玻璃基板再生方法以外，人們還提出了幾種方法。 例如，在專(zhuān)利文獻(xiàn)1中，記載了藉由將不良基板浸泡于包含有水溶性有機(jī)胺化合物和無(wú)機(jī) 堿性金屬化合物的水溶液中而再生玻璃基板的方法。在專(zhuān)利文獻(xiàn)2中，記載了下述方法在 將不良基板浸泡于濃度98%的濃硫酸10分鐘后水洗，并浸泡于加溫至55°C的、包含有烷基 二醇和乙二醇酯的堿性水溶液中，并根據(jù)需要而進(jìn)行海綿摩擦(手擦)。在專(zhuān)利文獻(xiàn)2中， 記載了進(jìn)行一次酸性液處理和二次酸性液處理而將ITO膜、RGB像素以及BM剝離的方法。 在專(zhuān)利文獻(xiàn)4中，記載了利用兩級(jí)處理而將RGB像素及BM剝離的方法，該兩級(jí)處理包括以 包含有無(wú)機(jī)酸的前處理液對(duì)不良基板進(jìn)行前處理的工序、及以包含有堿性物質(zhì)的剝離液對(duì) 不良基板進(jìn)行后處理的工序。現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專(zhuān)利文獻(xiàn)專(zhuān)利文獻(xiàn)1 日本特開(kāi)2001-124916號(hào)公報(bào)專(zhuān)利文獻(xiàn)2 日本特開(kāi)平7-230081號(hào)公報(bào)專(zhuān)利文獻(xiàn)3 日本特開(kāi)2006-154752號(hào)公報(bào)專(zhuān)利文獻(xiàn)4 日本特開(kāi)2002-179438號(hào)公報(bào)專(zhuān)利文獻(xiàn)5 日本特開(kāi)2003-279915號(hào)公報(bào)專(zhuān)利文獻(xiàn)6 日本特開(kāi)2005-189679號(hào)公報(bào)在上述的圖17中，雖然為了便于圖示，而連續(xù)地記載了 PS/VA剝離工序(第1堿性液處理)、透明電極剝離工序(酸性液處理)以及RGB像素/BM剝離工序(第2堿性液處 理)，但是因?yàn)檫@些各工序的處理時(shí)間相異，所以實(shí)際上，各工序是以獨(dú)立的分批處理進(jìn)行 的。因而，在玻璃基板的再生處理上耗費(fèi)很多時(shí)間。又，在專(zhuān)利文獻(xiàn)1 4的處理方法中，因?yàn)樾枰獙⒉涣蓟褰萦谔幚硪?0分 鐘 2小時(shí)，所以具有玻璃基板受損的問(wèn)題。又，因?yàn)樽钕聦?玻璃基板表面)的樹(shù)脂膜殘 渣殘留，所以一般在剝離后進(jìn)行研磨處理，亦具有處理工序數(shù)量增加的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容
因而，本發(fā)明的目的在于提供一種玻璃基板再生裝置，其不會(huì)損傷彩色濾光器用 玻璃基板，并可在短時(shí)間內(nèi)將其上的樹(shù)脂膜及金屬膜剝離。本發(fā)明涉及一種玻璃基板再生裝置，其一面搬運(yùn)在玻璃基板上形成有1層以上 的、含有樹(shù)脂及金屬的任一種的層的不良基板，一面從不良基板再生玻璃基板。該玻璃基板 再生裝置具備有第1堿性液處理部，用堿性液處理不良基板，并將位于不良基板的表面的 第1樹(shù)脂層剝離；第1酸性液處理部，設(shè)置于第1堿性液處理部的下游，用酸性液處理不良 基板，并將位于不良基板的表面的金屬膜剝離；以及第2堿性液處理部，設(shè)置于酸性液處理 部的下游，用堿性液處理不良基板，并將位于玻璃基板的表面的第2樹(shù)脂層剝離。發(fā)明效果根據(jù)本發(fā)明的玻璃基板再生裝置，因?yàn)橐幻姘徇\(yùn)基板一面依次進(jìn)行剝離處理，所 以可在短時(shí)間內(nèi)再生玻璃基板。又，藉由處理時(shí)間變短，而可防止玻璃基板的損傷。


圖IA是表示在彩色濾光器制造工序所產(chǎn)生的不良基板的一例的剖面圖。圖IB是表示在彩色濾光器制造工序所產(chǎn)生的不良基板的其他的例子的剖面圖。圖IC是表示在彩色濾光器制造工序所產(chǎn)生的不良基板的其他的例子的剖面圖。圖ID是表示在彩色濾光器制造工序所產(chǎn)生的不良基板的其他的例子的剖面圖。圖IE是表示在彩色濾光器制造工序所產(chǎn)生的不良基板的其他的例子的剖面圖。圖2是表示本發(fā)明的第1實(shí)施方式的玻璃基板再生方法的流程圖。圖3是表示本發(fā)明的第1實(shí)施方式的玻璃基板再生裝置的示意構(gòu)成圖。圖4是表示本發(fā)明的第2實(shí)施方式的玻璃基板再生方法的流程圖。圖5A是表示本發(fā)明的第2實(shí)施方式的玻璃基板再生裝置的示意構(gòu)成圖。圖5B是表示本發(fā)明的第2實(shí)施方式的玻璃基板再生裝置的其他的例子的圖。圖6是表示本發(fā)明的第2實(shí)施方式的玻璃基板再生裝置的其他的例子的圖。圖7是表示本發(fā)明的第3實(shí)施方式的堿性液處理部的示意構(gòu)成圖。圖8是表示本發(fā)明的第3實(shí)施方式的堿性液處理部的其他的例子的圖。圖9是表示本發(fā)明的第4實(shí)施方式的搬運(yùn)裝置的一部分的立體圖。圖10是圖9的IX-IX線(xiàn)視圖。圖11是表示本發(fā)明的第5實(shí)施方式的玻璃基板再生裝置的圖。圖12是表示圖11所示的透過(guò)型光傳感器的示意構(gòu)成圖。 圖13是表示本發(fā)明的第6實(shí)施方式的玻璃基板再生裝置的圖。
圖14是表示本發(fā)明的第6實(shí)施方式的蝕刻液管理部的其他的例子的圖。圖15是表示彩色液晶顯示裝置所使用的彩色濾光器的一例的剖面圖。圖16是表示光蝕刻法的各工序的流程圖。圖17是表示彩色濾光器用玻璃基板的再生處理的流程圖。圖18是表示以往的玻璃基板再生裝置的圖。附圖標(biāo)記1...不良基板；2...玻璃基板；3...黑陣列(BM) ；4...著色像素；5...透明電 極；6. · ·光間隔片(PS) ；7. · ·垂直取向部；8. · ·金屬膜；9. · ·金屬膜；10...璃基板再生 裝置；12...第1堿性液處理部；14...酸性液處理部；16...第2堿性液處理部；20...玻 璃基板再生裝置；22...第1酸性液處理部；24...第1堿性液處理部；26...第2酸性液 處理部；28...第2堿性液處理部；40...堿性液處理單元；41...處理部；60...搬運(yùn)裝置； 61...輥；62...刮刀；70...判斷部；71...分配部；75...蝕刻液管理部；76...表面形狀 測(cè)量部；77...累計(jì)計(jì)算/判斷部；81...蝕刻液供給排出部
具體實(shí)施例方式圖IA 圖IE是表示在彩色濾光器制造工序所產(chǎn)生的不良基板的例子的剖面圖。在此，不良基板是在光蝕刻法的各工序所產(chǎn)生的不滿(mǎn)足質(zhì)量基準(zhǔn)的基板，意指在 玻璃基板上形成有樹(shù)脂膜(BM、R像素、G像素、B像素、PS、VA)及金屬膜(透明電極)的一 方或雙方的狀態(tài)的基板。圖IA所示的不良基板Ia是在PS、VA形成工序后的檢查中所發(fā)現(xiàn)的，是在玻璃基 板2上形成有BM3、RGB的著色像素4、由ITO等的金屬膜所形成的透明電極5、PS6以及VA7 的基板。又，在彩色濾光器的制造工藝中，使用檢查中所發(fā)現(xiàn)的不良基板，來(lái)探索透明電極 用金屬膜的成膜條件。圖IB所示的不良基板Ib是使用圖IA所示的不良基板來(lái)探索金屬膜的成膜條件 時(shí)、作為結(jié)果所產(chǎn)生的基板，在PS6、VA7上還具有ITO等金屬膜8。圖IC所示的不良基板Ic是使用在金屬膜的形成工序以后且在PS、VA形成工序 之前所發(fā)現(xiàn)的不良基板來(lái)探索金屬膜的成膜條件時(shí)、作為結(jié)果而產(chǎn)生的基板，在玻璃基板2 的背面(與BM3及著色像素4的形成面相反側(cè)的面)具有ITO等金屬膜9。圖ID所示的不良基板Id具有形成于著色像素4上的覆膜保護(hù)層33和形成于玻 璃基板2的背面的透明電極34。圖IE所示的不良基板Ie在圖ID所示的不良基板Id的覆 膜保護(hù)層33上還具有PS6及VA7。覆膜保護(hù)層33是為了使著色像素4上部平坦、或防止著 色像素4中的成分流出、保護(hù)著色像素4的目的而設(shè)置的。此外，不良基板在光蝕刻法(圖15)所示的任一工序都可能產(chǎn)生。因此，除了圖IA 圖IE所示的不良基板以外，亦存在在玻璃基板2上形成有BM3及著色像素4 (R像素、 G像素、B像素)的至少一種的不良基板，或在玻璃基板2上僅形成有BM3、著色像素4、以及 透明電極5的不良基板。以下，根據(jù)需要，參照著圖IA 圖1E，說(shuō)明各實(shí)施方式的玻璃基板再生裝置。(第1實(shí)施方式)
圖2是表示本發(fā)明的第1實(shí)施方式的玻璃基板再生方法的流程圖。圖2所示的玻璃基板再生方法適合從具有圖IA的構(gòu)造的不良基板Ia再生玻璃基 板。具體而言，本實(shí)施方式的玻璃基板再生方法，具備有將最上層的樹(shù)脂膜(PS6、VA7)剝 離的第1堿性液處理工序(Sll)、將中間層的金屬膜(透明電極5)剝離的酸性液處理工序 (S12)、以及將最下層的樹(shù)脂膜(BM3、著色像素4)剝離的第2堿性液處理工序(S13)。這些 各工序Sll S13，不是作為獨(dú)立的分批處理來(lái)進(jìn)行的，而是對(duì)由搬運(yùn)裝置所搬運(yùn)的不良基 板連續(xù)地進(jìn)行的。此外，在第2堿性液處理工序(S13)以后，進(jìn)行最終水洗處理工序(S14)， 而完成玻璃基板的再生。圖3是表示本發(fā)明的第1實(shí)施方式的玻璃基板再生裝置的圖。玻璃基板再生裝置10是對(duì)以大致水平支撐的狀態(tài)由搬運(yùn)裝置所搬運(yùn)的基板進(jìn)行 再生處理的裝置，朝向不良基板的搬運(yùn)方向依次具備有第1堿性液處理部12、酸性液處理 部14以及第2堿性液處理部16。又，在第1堿性液處理部12的上游，配置有基板搬入部11。緊跟在第1堿性液處 理部12、酸性液處理部14以及第2堿性液處理部16之后，分別配置有噴淋水洗部13、15以 及17。此外，在噴淋水洗部17的下游，依次配置最終水洗處理部18和玻璃基板搬出部19。第1堿性液處理部12向從基板搬入部11所搬入的不良基板噴射堿性液，將最上 層的樹(shù)脂層(圖IA的PS6、VA7)剝離。噴淋水洗部13利用水洗而除去在第1堿性液處理 部12中附著于不良基板表面的堿性液。酸性液處理部14向已由噴淋水洗部13淋洗的不良基板噴射酸性液，而將中間層 的金屬層(圖IA的透明電極5)剝離。噴淋水洗部15利用水洗而除去在酸性液處理部中 附著于不良基板表面的酸性液。第2堿性液處理部16向已由噴淋水洗部15淋洗的不良基板噴射堿性液，而將最 下層的樹(shù)脂層(圖IA的BM3、著色像素4)剝離。噴淋水洗部17利用水洗來(lái)除去在第2堿 性液處理部16中附著于不良基板表面的堿性液。已由噴淋水洗部17淋洗的玻璃基板2，由最終水洗處理部18再次水洗后，從玻璃 基板搬出部19排出。在上述第1堿性液處理部12、酸性液處理部14以及第2堿性液處理部16中，可任 意地設(shè)定處理液的排出壓力或液體溫度、排出時(shí)間以及基板的搬運(yùn)速度。藉由可變更這些 項(xiàng)目，而即使因設(shè)計(jì)的變更等而改變了玻璃基板2上的各層( 56、￥々7、透明電極5、810、著 色像素4)的材料或厚度的情況下，亦可設(shè)定剝離各層的最佳條件。又，在第1堿性液處理 部12、酸性液處理部14以及第2堿性液處理部16中，根據(jù)需要而設(shè)置用以剝離基板上的層 的刷子或海綿輥等。此外，在酸性液處理部14中，亦可向基板的雙而排出酸性液。(第1實(shí)施例) 以下，作為第1實(shí)施例，表示使用圖3所示的玻璃基板再生裝置10時(shí)的具體處理 條件。在堿性處理工序中所使用的堿性液及在酸性液處理工序中所使用的酸性液的成 分例如下所示。(1)堿性液(在第1堿性液處理部12及第2堿性液處理部16中使用)氫氧化鉀
8重量％
單乙醇胺(monoethanolamine) 12 重量％二乙二醇單丁醚(butyl carbitol) 15 重量％苯甲基乙醇(benzylalcohol) 2 重量％水63重量％(2)酸性液(在酸性液處理部14中使用)三氯化鐵35重量％硝酸3重量％水62重量％表 權(quán)利要求
1.一種玻璃基板再生裝置，一面搬運(yùn)在玻璃基板上形成有1層以上的、含有樹(shù)脂及金 屬的任一種的層的不良基板，一面從上述不良基板再生上述玻璃基板，該裝置至少具有第1堿性液處理部，用堿性液處理上述不良基板，并將位于上述不良基板的表面的第1 樹(shù)脂層剝離；第1酸性液處理部，設(shè)置于上述第1堿性液處理部的下游，用酸性液處理上述不良基 板，并將位于上述不良基板的表面的金屬膜剝離；第2堿性液處理部，設(shè)置于上述酸性液處理部的下游，用堿性液處理上述不良基板，并 將位于上述玻璃基板的表面的第2樹(shù)脂層剝離。
2.如權(quán)利要求1所述的玻璃基板再生裝置，還具有第2酸性液處理部，該第2酸性液處 理部設(shè)置于上述第1堿性液處理部的上游，用酸性液處理上述不良基板，并將位于上述不 良基板的表面的金屬層剝離。
3.如權(quán)利要求1所述的玻璃基板再生裝置，在上述第1及第2堿性液處理部的至少一 方，串聯(lián)地設(shè)置有利用上述堿性液處理上述基板的多個(gè)處理機(jī)構(gòu)。
4.如權(quán)利要求1所述的玻璃基板再生裝置，具有搬運(yùn)機(jī)構(gòu)，該搬運(yùn)機(jī)構(gòu)包括多個(gè)輥，該 多個(gè)輥在各自的上端部支撐該不良基板的下表面，并且各個(gè)輥分別繞中心軸轉(zhuǎn)動(dòng)，從而搬 運(yùn)上述不良基板；設(shè)置有刮刀，該刮刀配置在比上述輥的上述上端部靠下方的位置，并與上述輥的外表 面接觸而除去上述輥的表面上的液體。
5.如權(quán)利要求1所述的玻璃基板再生裝置，還具有判斷部，在將上述不良基板投入到上述玻璃基板再生裝置中之前，該判斷部檢測(cè)上述 不良基板上的多個(gè)點(diǎn)處的規(guī)定波長(zhǎng)的光的透過(guò)率，并根據(jù)檢測(cè)結(jié)果，判斷在上述不良基板 上是否有上述金屬層；分配部，在上述判斷部判斷為在上述不良基板上有上述金屬層時(shí)，將上述不良基板投 入到上述第1堿性液處理部中，而在上述判斷部判斷為在上述不良基板上無(wú)上述金屬層 時(shí)，將上述不良基板投入到上述第2堿性液處理部中。
6.如權(quán)利要求1所述的玻璃基板再生裝置，還具有接觸式表面形狀測(cè)量部，對(duì)投入到上述第1酸性液處理部中的各個(gè)上述不良基板，測(cè) 量位于表面的上述金屬層的厚度；及累計(jì)計(jì)算/判斷部，將由上述接觸式表面形狀測(cè)量部所測(cè)量的金屬層的厚度進(jìn)行累 計(jì)，算出累計(jì)膜厚，并根據(jù)所算出的累計(jì)膜厚，控制上述第1酸性液處理部所進(jìn)行的處理時(shí) 間及處理溫度，在所算出的累計(jì)膜厚超過(guò)規(guī)定值時(shí)，使上述第1酸性液處理部的上游側(cè)及 下游側(cè)的處理部停止。
全文摘要
玻璃基板再生裝置(10)是對(duì)以大致水平支撐的狀態(tài)由搬運(yùn)裝置搬運(yùn)的基板進(jìn)行再生處理的裝置，朝向不良基板的搬運(yùn)方向依次具備第1堿性液處理部(12)、酸性液處理部(14)以及第2堿性液處理部(16)。第1堿性液處理部(12)向從基板搬入部(11)所搬入的不良基板噴射堿性液，剝離最上層的樹(shù)脂層。酸性液處理部(14)向由噴淋水洗部(13)淋洗完的不良基板噴射酸性液，剝離中間層的金屬層。第2堿性液處理部(16)向由噴淋水洗部(15)淋洗完的不良基板噴射堿性液，剝離最下層的樹(shù)脂層。根據(jù)玻璃基板再生裝置(10)，可在短時(shí)間內(nèi)完成玻璃基板(2)的再生處理，亦可抑制玻璃基板(2)的損傷。
文檔編號(hào)G02F1/1333GK102112244SQ20098013083
公開(kāi)日2011年6月29日 申請(qǐng)日期2009年7月31日 優(yōu)先權(quán)日2008年8月4日
發(fā)明者中西俊介, 淺井究, 瀨川達(dá)彌, 茅根博之, 鈴木充 申請(qǐng)人:凸版印刷株式會(huì)社