專利名稱：微光刻的投射曝光設(shè)備使用的分面鏡的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用作微光刻的投射曝光設(shè)備中的光束引導光學元件的分面鏡(facet mirror)。另外，本發(fā)明涉及微光刻的投射曝光設(shè)備的包括至少一個這樣的分面鏡的照明光 學部件、包括這樣的照明光學部件的投射曝光設(shè)備、使用這樣的投射曝光設(shè)備制造微結(jié)構(gòu) 或納米結(jié)構(gòu)元件的方法以及通過這樣的方法制造的微結(jié)構(gòu)元件或納米結(jié)構(gòu)元件。
背景技術(shù)：
這種類型的分面鏡在US 6，438，299 Bl和US 6，658，084 B2中進行了公開。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是開發(fā)一種開始提到的類型的分面鏡(facet mirror)，從而通過將 該分面鏡安裝在投射曝光設(shè)備中，增加了設(shè)置各種照明幾何形狀以使用該投射曝光設(shè)備對 物場進行照明的變化性。根據(jù)本發(fā)明，該目的通過具有權(quán)利要求1或權(quán)利要求4中陳述的特征的分面鏡而 得以實現(xiàn)。根據(jù)本發(fā)明，由于分面鏡被劃分成多個彼此獨立地可傾斜的分立鏡(^parate mirror)，因此分面鏡可變地被劃分為分立鏡組。這可有助于生成具有不同邊界的組，用于 適合于將被照明的物場的形狀。分立鏡單獨地可被驅(qū)動，這確保物場的多個不同照明，而 不會由于阻擋或遮擋而損失任何光。具體而言，可裝備有分面鏡的照明光學部件可適配于 輻射源的光學參數(shù)，例如光束發(fā)散性或光束橫截面上的強度分布。分面鏡能夠以這樣的方 式設(shè)計，使得幾個分立鏡組在每種情況下獨立地對整個物場進行照明。根據(jù)本發(fā)明的分面 鏡可設(shè)置有多于10個、多于50個或甚至多于100個這樣的分立鏡組。分立鏡照明通道是 由分面鏡引導的照明光束的一部分光束路徑，該照明光束由分面鏡的分立鏡中的僅一個 引導。根據(jù)本發(fā)明，對于整個物場的照明需要該類型的兩個分立鏡照明通道。在根據(jù)US 6，438，199 Bl和US 6，658，084 B2的分面鏡的例子中，分立鏡照明通道在每種情況下照明 了其大小與物場相應(yīng)的物場部分。在根據(jù)權(quán)利要求2的分立鏡的例子中，分配的分立鏡照明通道能夠彼此單獨地照 明物場，或分立鏡照明通道能夠被布置為使得以限定的方式彼此交疊。物場可以由多于兩 個的分立鏡照明通道進行照明，例如由多于十個的分立鏡照明通道進行照明。根據(jù)權(quán)利要求4的分面鏡的優(yōu)點相應(yīng)于上文中參考根據(jù)權(quán)利要求1的分面鏡已經(jīng) 描述的那些優(yōu)點。根據(jù)權(quán)利要求5的分面鏡尤其用作投射曝光設(shè)備的照明光學部件中的場分面鏡。 取決于分立鏡組的大小和形狀，被照明的相應(yīng)大小和形狀的物場是可實現(xiàn)的。在矩形物場 中，在每種情況下都由一個分立鏡組形成的分立面(separate facet)的面縱橫比相應(yīng)于場 縱橫比。分立鏡組不需具有分立鏡的固定布置。例如，分立鏡以這樣的方式可被驅(qū)動，以允 許多個所選擇的分立鏡被可變地分配給分立鏡組，從而分配給具有給定形狀的面(facet)。操作中，取決于形成面的給定分立鏡組，分面鏡則能夠支持各種給定的面形狀。代替形狀與物場的整個形狀相應(yīng)的分立面，可以形成與半場相應(yīng)的分立面或分立 面組，換句話說，沿物場尺寸的一半延伸的場。在每種情況中，這種類型的兩個半場相結(jié)合 用于整個物場的照明。還可想象到的是形成形狀與物場的部分場相應(yīng)的分立面或分立面 組。該類型的數(shù)個部分場則可被結(jié)合用于整個物場的照明，數(shù)個部分場可以是彼此互補的。根據(jù)權(quán)利要求6和7的組形狀也適合于當前物場幾何形狀。通過從分立鏡組的格 柵布置(raster arrangement)中地選擇其邊界類似于期望包絡(luò)的形狀的分立鏡、通過逐個 像素的近似，還可以獲得弓形、環(huán)形或圓形包絡(luò)。根據(jù)權(quán)利要求8的分面鏡尤其用作投射曝光設(shè)備的照明光學部件中的光瞳分面
^Mi ο照明光學部件優(yōu)選地裝配有被劃分成根據(jù)本發(fā)明的分立鏡的場分面鏡，以及劃分 成根據(jù)本發(fā)明的分立鏡的光瞳分面鏡。通過將分立鏡組布置在關(guān)于場分面鏡和光瞳分面鏡 的相應(yīng)組中，則可以實際地實現(xiàn)特定照明角度分布，即照明設(shè)置，而不會損失光。例如在US 2006/0132747 Al中描述的該類型的鏡面反射器也可被劃分為根據(jù)本發(fā)明的分立鏡。由于 鏡面反射器用于調(diào)節(jié)物場中的照明角度分布和強度分布，因此由于劃分成分立鏡的附加可 變性尤其是有利的。使用微鏡陣列領(lǐng)域中已經(jīng)公知的建設(shè)性的解決方案，可以獲得根據(jù)權(quán)利要 求9的實施例。微鏡陣列例如在US 7,061,582 B2中進行了描述。所選擇的平鋪 (tiling)類型取決于分立鏡組的所需的形狀。具體而言，可以使用從“Mathematisches Mosaik" (Mathematical Mosaic),禾斗 H (1977) ψ 白勺 Istvan Reimann ”Parkette, geometrisch betrachtet，，(A geometric view of tilings)以 及 Jan Gulberg "Mathematics-From the birth of numbers，，紐約 / 倫敦(1997)中己經(jīng)公知的平鋪。根據(jù)權(quán)利要求10的分立鏡的構(gòu)造需要相對較小的努力。這種類型的平面的分立 鏡使得分立鏡組能夠用大致彎曲的反射表面形成。替換地，分面鏡的分立鏡可以是彎曲的， 尤其橢圓形彎曲，這分別地導致分立鏡的對于照明光或成像光的成束效果。分立鏡尤其是 凹彎曲的。具體而言，分面鏡可以是多橢圓形鏡。該類型的彎曲分立鏡可以由具有平面反 射表面的分立鏡組替換，其中替換的該類型的彎曲分立鏡的非平面表面由微面的多面體近 似。當設(shè)置分面鏡的反射表面的特定外形時，根據(jù)權(quán)利要求11的可位移能力增加了 可變性。這不僅允許形成組，而且能夠?qū)Ω鱾€組內(nèi)的反射表面限定特定的曲率和自由表面， 其具有期望的成像或任何其它成束效果。由于分立鏡沿垂直于反射表面的法線分別地被驅(qū) 動用于位移，因此分立鏡中共同的遮擋能夠被最小化。使用微鏡陣列領(lǐng)域中已經(jīng)公知的建設(shè)性的解決方案，還可以獲得根據(jù)權(quán)利要求12 的布置。根據(jù)權(quán)利要求13的驅(qū)動確保分立鏡根據(jù)該設(shè)置快速且單獨驅(qū)動。如果需要，例如當組合或共同地阻擋分立鏡，根據(jù)權(quán)利要求14的平行驅(qū)動，尤其 成行或成列，允許分立鏡被共同地驅(qū)動而不需要任何努力。就物場上的照明強度而言或就調(diào)節(jié)特定的取決于場的照明強度分布，根據(jù)權(quán)利要 求15的設(shè)計使得能夠校正物場照明的均勻性。替換地或附加地，光瞳照明可以通過單獨地驅(qū)動分立鏡而被設(shè)置，使得光瞳面的照明的強度分布能夠通過驅(qū)動分立鏡而被設(shè)置。具體 而言，通過驅(qū)動分立鏡來分布光瞳面的照明強度可尤其取決于被照明的場大小或場形狀而 進行。替換地或附加地，光瞳面內(nèi)的照明強度可以通過驅(qū)動分立鏡而被分布，使得經(jīng)由被照 明的物場設(shè)置入射照明角度的給定變化。例如，場中心的照明角度分布則可與場邊緣處的 照明角度分布不同。分立鏡的單獨驅(qū)動當然還可以用于補償由于其它原因?qū)е碌奈飯錾系恼彰鹘嵌?分布或強度分布的非均勻性，或更一般而言，以校正與在物場上檢測到的默認強度分布值 或照明角度分布值的偏差。根據(jù)權(quán)利要求16的平面載體有利于生產(chǎn)分面鏡。通過相應(yīng)地形成分面鏡的上游 照明光或成像光，可以實現(xiàn)分面鏡的載體的平面布置。至少一個分立鏡的鏡體可以相對于堅硬的載體主體關(guān)于傾斜接頭的至少一個傾 斜軸是可傾斜的。該傾斜接頭可以是固體接頭，該固體接頭具有垂直于傾斜軸的接頭厚 度S,以及沿傾斜軸的接頭長度L，并且L/S > 50。在尤其允許用少許努力執(zhí)行調(diào)整的給定 的較低硬度，接頭長度與接頭厚度的該關(guān)系確保經(jīng)由固體接頭從鏡體到載體主體充分地散 熱。與接頭厚度相比較大的接頭長度為經(jīng)由固體接頭的熱傳遞提供足夠大的橫截面。當 調(diào)整分立鏡時，與接頭長度相比較小的接頭厚度允許用少許努力就實現(xiàn)鏡體的給定角度偏 轉(zhuǎn)。這允許使用驅(qū)動元件來傾斜鏡體，這僅需要少許努力并由此可以是例如非常緊湊的。 具體而言，用于使鏡體傾斜的合適的驅(qū)動元件是那些安裝在傳統(tǒng)微鏡陣列中的驅(qū)動元件。 該類型的微鏡陣列對于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言是公知的，例如在EP 1 289 273 Al中公開 的“MEMS”(微機電系統(tǒng))。與具有小得多的L/S比率的微鏡的傳統(tǒng)扭懸(參考Yeow等的 Sensors and Actuators A 117 (2005)，331-340)相比，當使用根據(jù)本發(fā)明的固體接頭時， 熱傳遞得到顯著改善。如果由于相當多的殘余吸收導致的熱需要從鏡體驅(qū)散，那么這是特 別有利的，例如如同這樣的情況當使用EUV輻射作為由分立鏡反射的有用光時。通過在載 體主體內(nèi)提供微型通道，這允許借助于特別薄的流動冷卻流體進行主動冷卻，鏡體和載體 主體之間的熱傳遞可附加地得到改善。根據(jù)權(quán)利要求17的照明光學部件的優(yōu)點相應(yīng)于下文中參考根據(jù)本發(fā)明的分面鏡 已經(jīng)描述的那些優(yōu)點。具體而言，根據(jù)權(quán)利要求18的照明光學部件可結(jié)合由分立鏡形成的場分面鏡的 優(yōu)點與由分立鏡形成的光瞳分面鏡的優(yōu)點，這使得可用于大多數(shù)不同的照明設(shè)置，而幾乎 不損失任何光。與上游場分面鏡相比，光瞳分面鏡可具有大量的分立鏡。上游場分面鏡使 得能夠?qū)崿F(xiàn)光瞳分面鏡的各種照明形狀，并且如果需要調(diào)整的面相應(yīng)地被驅(qū)動用于位移， 尤其可傾斜，那么能夠因此實現(xiàn)照明光學部件的各種照明設(shè)置。光瞳分面鏡可尤其具有大 量的分立鏡，該分立鏡的數(shù)量大于場分面鏡的分立面的數(shù)量。如果分立面繼而由分立鏡組 構(gòu)成，那么場分面鏡可比光瞳分面鏡具有更多的分立鏡。根據(jù)權(quán)利要求19的部分物場照明還增加物場照明方面的靈活性，導致用于校正 的附加自由度。物場內(nèi)的被照明物場部分的相對位移相應(yīng)地允許物場照明被校正。根據(jù)權(quán)利要求20的包括場分面鏡的照明光學部件的優(yōu)點相應(yīng)于上文中參考根據(jù) 權(quán)利要求18的照明光學部件已經(jīng)描述的那些優(yōu)點。根據(jù)權(quán)利要求21的投射曝光設(shè)備的優(yōu)點相應(yīng)于上文中已經(jīng)討論的優(yōu)點。
根據(jù)權(quán)利要求22的投射曝光設(shè)備使得能夠獲得較高結(jié)構(gòu)分辨率。根據(jù)權(quán)利要求23的鏡面反射器減小在照明光學部件中是必須的照明光的反射的 數(shù)量。這增加照明光學部件的總傳輸。根據(jù)權(quán)利要求24的離散照明允許鏡面反射器的分立鏡設(shè)置成彼此間隔開，這給 諸如分立鏡的懸掛和位移機構(gòu)或位移驅(qū)動器的裝置提供足夠的空間以布置在分立鏡之間。根據(jù)權(quán)利要求25的分面鏡例如可以是聚光器分面鏡(collector facet mirror)。 這種類型的聚光器分面鏡尤其可包括橢圓的分立鏡，并通?？蓱?yīng)用于不使用鏡面反射器的 照明光學部件。如果根據(jù)權(quán)利要求26的鏡面反射器比上游分面鏡具有更多的分立鏡，那么上游 分面鏡可用于產(chǎn)生鏡面反射器的各種照明形狀，由此產(chǎn)生照明光學部件的各種照明設(shè)置。 如果鏡面反射器的分立鏡的數(shù)量小于上游分面鏡的分立鏡的數(shù)量，那么通過照明光學部件 也可以實現(xiàn)物場的不同照明角度分布。場分面鏡的分立鏡的數(shù)量可相當多地超過鏡面反射器的分立鏡的數(shù)量。就照明光束形成而言，根據(jù)權(quán)利要求27的聚光器減小對于下游分面鏡的要求。至 少一個分面鏡可暴露于來自聚光器的會聚照明。根據(jù)權(quán)利要求28的聚光器與分面鏡相比花費更少的努力被制造。當物場被局部照明時，根據(jù)權(quán)利要求29的長場軸和掃描方向之間的角度防止或 減少非均勻性照明。例如該角度總計為10°。其它角度也是可能的，例如在1和3°之間 的范圍內(nèi)、在3和5°的范圍內(nèi)、在5和7°之間的范圍內(nèi)或在7和9°之間的范圍內(nèi)。大于 10°的角度通常也是可能的。替換地，物場部分可以這樣的方式布置，使得在沿掃描方向的 物場部分之間沒有連續(xù)的邊界。替換地或另外地，分立鏡可以這樣的方式定向，使得經(jīng)由照 明光學部件成像到物場的分立鏡的邊緣不與掃描方向平行。照明光學部件的至少一個分面 鏡的分立鏡可以這樣的方式布置，使得分立鏡組的圖像中的陰影相對于彼此垂直于掃描方 向偏移，從而防止由陰影導致的強度減小在長場軸的特定位置(即特定場高度)累積。根據(jù)權(quán)利要求30的制造方法的優(yōu)點和根據(jù)權(quán)利要求31的微結(jié)構(gòu)元件的優(yōu)點相應(yīng) 于上文中參考權(quán)利要求1至29已經(jīng)解釋的那些優(yōu)點。微結(jié)構(gòu)元件能夠被獲得，即使在亞微 米范圍內(nèi)，這也顯示出高整合密度。


下文中將借助于附圖更加詳細地對本發(fā)明實施例進行解釋，其中圖1示出了穿過EUV投射光刻的投射曝光設(shè)備的示意性子午截面圖；圖2示出了一部分場分面鏡的示意性平面圖，其中場分面鏡由用于根據(jù)圖1的投 射曝光設(shè)備的分立鏡構(gòu)成；圖3從圖2的方向III示出了根據(jù)圖2的分面鏡的一行分立鏡的一部分；圖4至6示出了由圖3中示出的一行分立鏡的分立鏡形成的一行反射表面的各種 形狀的高度示意圖，所述一行反射表面以三種不同的構(gòu)造示出；圖7示出了由分立面配置的場分面鏡的另一實施例的一部分的平面圖，分立鏡被 組合成界定分立面的布置的示例性分立鏡組；圖8示出了由分立鏡配置的光瞳分面鏡的示意性平面圖，用于根據(jù)圖1的投射曝光設(shè)備，例如用于界定各種環(huán)形的或環(huán)狀的照明設(shè)置；圖9至13示出了根據(jù)圖2的分面鏡的分立鏡的各種分組的例子，其中分立鏡被組 合成界定分立面的分立鏡組；圖14示出了類似于圖8且也由多個分立鏡構(gòu)成的光瞳分面鏡，暴露于圓形照明的 多個分立鏡組被照明以界定第一近似傳統(tǒng)的照明設(shè)置；圖15示出了根據(jù)圖14的光瞳分面鏡，相同數(shù)量的分立鏡組也暴露于圓形照明，以 界定另一近似環(huán)狀的照明設(shè)置；圖16示出了根據(jù)圖2的場分面鏡的分立鏡的分組的另一實施例，用于環(huán)狀或弓形 場的照明；圖17至20示出了被分組為分立鏡組的場分面鏡的分立鏡的另一例子；圖21和22示出了被分組為分立鏡組的光瞳分面鏡的分立鏡的另一例子；圖23示出了具有設(shè)置在由分立鏡構(gòu)成的分面鏡的反射表面上的分立鏡的平鋪的 另一實施例；圖24示出了穿過EUV投射光刻的投射曝光設(shè)備的光學設(shè)計的另一實施例的示意 性子午截面圖，其中投射曝光設(shè)備的照明光學部件包括鏡面反射器；圖25示出了穿過EUV投射光刻的投射曝光設(shè)備的照明系統(tǒng)的另一實施例的一部 分的示意性子午截面圖；圖26示出了包括鏡面反射器的EUV投射光刻的投射曝光設(shè)備的照明光學部件的 光學設(shè)計的另一實施例的類似于圖24的視圖；圖27示出了照明光學部件的聚光器分面鏡的橢圓分立鏡分配到鏡面反射器的分 立鏡的替換形式的類似于圖26的視圖；圖28示出了打在根據(jù)圖26和27的鏡面反射器上的源圖像的平面圖；圖29示出了投射曝光設(shè)備的替換實施例的部分被照明的物場的平面圖；圖30示出了用于根據(jù)圖2的場分面鏡的分立鏡的平面圖；圖31示出了沿圖30中的方向XXXI的分立鏡的視圖，其中示出的分立鏡的反射表 面處于未傾斜的中性位置；圖32示出了圖31的放大截面圖；圖33示出了沿圖30中的方向XXXII的分立鏡的視圖；圖34示出了借助于驅(qū)動器處于傾斜位置的分立鏡的類似于圖31的視圖；圖35示出了根據(jù)圖30至34的分立鏡的傾斜接頭的截面圖，其中該傾斜接頭是固 體接頭；圖36示出了用于根據(jù)圖30至34的分立鏡的鏡體的受控傾斜的靜電電容驅(qū)動器 的實施例的示意圖，在驅(qū)動器的兩個電極之間沒有施加電壓；圖37示出了根據(jù)圖36的驅(qū)動器，其中電壓施加在驅(qū)動器的兩個電極之間；圖38和39示出了由分立鏡構(gòu)成的分面鏡的反射表面的平鋪的另一實施例。
具體實施例方式圖1示出了穿過微光刻的投射曝光設(shè)備1的示意性子午截面圖。投射曝光設(shè)備1 的照明系統(tǒng)2具有輻射源3和照明光學部件4，照明光學部件4照明物平面6中的物場5。在此過程中，掩模母版(reticle)(圖中未示出)被照明，其中該掩模母版布置在物場5中， 且由掩模母版夾具(未示出)保持在合適的位置。投射光學部件7用于將物場5成像到像 平面9中的像場8。掩模母版上的結(jié)構(gòu)成像到晶片(圖中未示出)的光敏層上，該晶片布置 在像場8的區(qū)域內(nèi)的像平面9中，并且由晶片夾具(未示出)固定在合適的位置。輻射源3是發(fā)射5nm和30nm之間的范圍內(nèi)的有用光的EUV輻射源。該輻射源可 以是等離子體源，例如GDPP源(氣體放電產(chǎn)生的等離子體)或LPP源(激光產(chǎn)生的等離子 體)?；谕郊铀倨鞯妮椛湓匆部捎米鬏椛湓?。本領(lǐng)域技術(shù)人員將在例如US6，859，515 B2中找到這種類型的輻射源的有用信息。由輻射源3發(fā)射的EUV輻射10由聚光器11聚 焦。相應(yīng)的聚光器在EP 1 225 481 A中公開。聚光器11的下游的EUV輻射10在照射到 場分面鏡13之前傳播穿過中間焦平面12。場分面鏡13設(shè)置在照明光學部件4的平面內(nèi)， 該平面與物平面6光學共軛。在下文中，EUV輻射10還被稱為為照明光或成像光。在場分面鏡13的下游，EUV輻射10由光瞳分面鏡14反射。該光瞳分面鏡14設(shè) 置在照明光學部件4的光瞳面內(nèi)，該光瞳面與投射光學裝置7的光瞳面光學共軛。借助于 光瞳分面鏡14和以傳輸光學部件15的形式的成像光學組件，場分面鏡13的分立的場面 (separate field facet) 19成像到物場5，該場分面鏡13也被稱為子場或分立鏡組，并且 在下文中將詳細描述，并且相應(yīng)于光束路徑的方向，該傳輸光學部件15包括由16、17和18 標示的面鏡。傳輸光學部件15的最后的鏡子18是掠入射鏡。圖1示出了笛卡爾xyz坐標系，這便于位置關(guān)系的描述，該坐標系是全局的坐標 系，用于描述投射曝光設(shè)備1的元件在物平面6和像平面9之間的位置關(guān)系。χ軸垂直于圖 1的圖畫平面，并延伸到該平面內(nèi)。y軸朝向圖1中的右側(cè)延伸。ζ軸在圖1中向下延伸，并 因此垂直于物平面6和像平面9。圖2示出了場分面鏡13的構(gòu)造細節(jié)的高度示意性視圖。場分面鏡13的整個反射 表面20被分成行和列，以形成分立鏡21的格柵。每個分立鏡21的各自的反射表面是平面。 一分立鏡行22包括多個緊鄰的分立鏡21。一分立鏡行22可包括幾十個到幾百個分立鏡 21。在根據(jù)圖2的例子中，分立鏡21是方形形狀。允許實現(xiàn)的平鋪具有盡可能小的間隙的 其它形狀的分立鏡也是可應(yīng)用的。用于分立鏡的這些替換形狀從平鋪的數(shù)學理論中已知。 在此方面，將參考 “Mathematisches Mosaik”(Mathematical Mosaic)，科隆(1977)中的 Istvan Reimann :“Parkette, geometrisch betrachtet，，(A geometric view of tilings) UR Jan Gulberg "Mathematics-From the birth of numbers" / itMi (1997)。具體而言，場分面鏡13可如DE 10 2006 036 064 Al中所述進行配置。取決于場分面鏡13的設(shè)計，分立鏡列23也包括多個分立鏡21。分立鏡列23例如 由幾十個分立鏡21構(gòu)成。圖2示出了笛卡爾xyz坐標系，該坐標系用作場分面鏡13的局部坐標系，用于更 容易描述位置關(guān)系。相應(yīng)的局部xyz坐標系還可以在后續(xù)的示出分面鏡或其一部分的平面 圖的附圖中找到。在圖2中，χ軸朝向右側(cè)水平延伸，并且平行于分立鏡的行22。在圖2中 y軸向上延伸，并且平行于分立鏡的列23。ζ軸垂直于圖2的圖畫平面，并延伸出所述圖畫 平面外。在投射曝光期間，掩模母版夾具和晶片夾具沿y方向被同步掃描。掃描方向和y方向之間的較小角度是可能的，如下文所述。場分面鏡13的反射表面20具有沿χ方向的廣度X00沿y方向，場分面鏡13的反 射表面20具有廣度yQ。取決于場分面鏡13的設(shè)計，分立鏡21具有的x/y廣度在例如600 μ mX 600 μ m至 例如2mmX2mm的范圍內(nèi)。分立鏡21可以被成形，從而對于照明光10具有聚焦效果。當場 分面鏡13暴露于發(fā)散照明光3中時，分立鏡21的該聚焦效果特別有利。取決于設(shè)計，整個 場分面鏡13具有XcZytl的廣度，該廣度達到例如300mmX 300mm或600mmX 600mm。分立場 面19示出了 25mmX4mm或104mmX8mm的典型x/y廣度。取決于各自的分立場面19的大 小和形成這些單獨的場面19的分立鏡21的大小之間的關(guān)系，每個分立場面19具有相應(yīng)數(shù) 量的分立鏡21。每個分立鏡21連接到驅(qū)動器24，以單獨偏轉(zhuǎn)入射照明光10 ；這在圖2中通過兩個 虛線的分立鏡21示出，這兩個虛線的分立鏡布置在反射表面20的下方左手側(cè)的角落里，以 及在圖3中示出，其中圖3示出了分立面行22的一部分的更詳細視圖。在每種情況下，驅(qū) 動器24布置在分立鏡21 —側(cè)，其遠離分立鏡21的反射側(cè)。該驅(qū)動器24例如可以是壓電 式驅(qū)動器。從微鏡陣列的設(shè)計中已知這樣的驅(qū)動器的設(shè)計。在每種情況下，分立鏡行22的驅(qū)動器24經(jīng)由信號線25連接到行信號總線26。分 立鏡行22被分配到行信號總線26的對應(yīng)之一。分立鏡行22的行信號總線26繼而連接到 主信號總線27。所述主信號總線27經(jīng)由信號連接到場分面鏡13的控制裝置28。該控制 裝置28尤其配置為并行驅(qū)動分立鏡21，換句話說，一行或一列分立鏡21共同地被驅(qū)動。每個分立鏡21關(guān)于彼此垂直的兩個傾斜軸可單獨地傾斜，這兩個傾斜軸中的第 一傾斜軸平行于X軸，并且這兩個傾斜軸中的第二傾斜軸平行于y軸。這兩個傾斜軸設(shè)置 在各自的分立鏡21的分立的反射表面中。除此之外，借助于驅(qū)動器24，分立鏡21在ζ方向上可單獨位移。因此，分立鏡21 可彼此分開地被驅(qū)動，以沿反射表面20的法向位移。這允許改變反射表面20的整個外形， 如圖4至6中高度示意的視圖所示。這允許反射表面輪廓被制成具有較大矢狀高度，換句 話說反射表面的形貌具有較高的變化，其形式為均布置在一個平面內(nèi)的類似于菲涅爾透鏡 的鏡區(qū)域。劃分成類似于菲涅爾帶的鏡區(qū)域消除了具有較大矢狀高度的這種鏡面形貌的基 本曲率。圖4示出了分立鏡行22的一部分分立鏡21的分立的反射表面，借助于控制裝置 28和驅(qū)動器24，該分立鏡行22的所有分立鏡21都被設(shè)置成具有相同的絕對ζ位置。結(jié)果 導致該分立鏡行22的平面行反射表面。如果場分面鏡13的所有分立鏡21根據(jù)圖4設(shè)置， 那么場分面鏡13的整個反射表面20是平面的。圖5示出了該分立鏡行22的分立鏡21的驅(qū)動，其中中心的分立鏡2、相對于相 鄰的分立鏡21ri、21rt和在負ζ方向位移。這導致階梯式布置，該布置致使照射到根據(jù) 圖5的該分立鏡行22的EUV輻射10的相應(yīng)相位偏移。由兩個中心分立鏡21m反射的EUV 輻射10經(jīng)歷最大的相位偏移。在邊緣處的分立鏡21^產(chǎn)生最小的相位偏移。相對于中心 分立鏡21m產(chǎn)生的相位滯后，設(shè)置在其之間的分立鏡21ri、21rt產(chǎn)生的相位滯后逐漸變得越 來越小。圖6示出了在該分立鏡行22的顯示的截面上的分立鏡21的驅(qū)動，使得一方面通過分立鏡21相對于彼此沿ζ方向的偏移配置，并且另一方面通過分立鏡21相對于彼此取 向，形成分立鏡的凸行22。這對于產(chǎn)生場分面鏡13的分立鏡組的成像效果是有用的。自然 地，分立鏡組21的相應(yīng)的凹布置也是可能的。取決于經(jīng)由控制裝置28的驅(qū)動，上文中參考圖5和6解釋的相應(yīng)形式不限于χ維 度，而是甚至在場分面鏡13的y維度中可以繼續(xù)。驅(qū)動器24經(jīng)由控制裝置28的單獨驅(qū)動允許給定分組的分立鏡21被布置在上述 分立鏡組中，每個分立鏡組包括至少兩個分立鏡21，在每種情況下一個分立鏡組界定場分 面鏡13的分立場面19。由幾個分立鏡21構(gòu)成的這些分立場面19與例如從US 6，438，199 Bl或US 6，658，084 B2中已知的場面具有相同的效果。圖7示出了該類型的分組，該圖示出了場分面鏡13的替換實施例的場面板(field facet plate)的一部分反射表面20，其中與圖2所示相比，該場分面鏡13包括更多數(shù)量的 分立鏡21。與上文中參考圖2至6已經(jīng)進行解釋的元件相應(yīng)的元件具有相同的附圖標記， 并且不再詳細討論。在圖7的例子中，通過經(jīng)由控制裝置28的組合驅(qū)動，在反射表面20上 形成總共12個分立鏡組19。每個分立鏡組19由分立鏡21的24X3陣列構(gòu)成，換句話說， 具有三行分立鏡，每行分立鏡具有二十四個分立鏡21。因此，每個分立鏡組19即每個通過 該組形成的分立場面具有8比1的縱橫比。該縱橫比相應(yīng)于將被照明的物場5的縱橫比。每個分立鏡組19的分立鏡21相對于彼此布置，使得每個分立鏡組19的形狀相應(yīng) 于傳統(tǒng)場分面鏡的分立面的形狀。因此，每個分立鏡組19界定分立面。圖8示出了安裝在投射曝光設(shè)備1內(nèi)的光瞳分面鏡14的細節(jié)。光瞳分面鏡14包 括圓形的光瞳面板29，該光瞳面板設(shè)置有多個分立鏡21。在根據(jù)圖8的實施例中，有用的分 立鏡21關(guān)于光瞳面板29的中心30布置為環(huán)形構(gòu)造。該構(gòu)造的環(huán)狀寬度大致相應(yīng)于十一 個相鄰分立鏡21的寬度。同樣地，光瞳面板29的中心30設(shè)置有分立鏡21，這些分立鏡也 布置成相應(yīng)的格柵圖案；然而，這些分立鏡21沒有被顯示，因為它們沒有用于根據(jù)圖8的環(huán) 形即環(huán)狀設(shè)置。該環(huán)形構(gòu)造的分立鏡21布置為成行或成列的格柵圖案，相應(yīng)于上文中根據(jù)圖2至 7描述的場分面鏡13。光瞳分面鏡14的分立鏡21也具有驅(qū)動器，并且由控制裝置28驅(qū)動。 這些驅(qū)動器和驅(qū)動器的信號連接類型與上文中關(guān)于場分面鏡13所述的相應(yīng)。光瞳分面鏡14的分立鏡21也可分構(gòu)成分立鏡組。這將在下文中借助于圖14和 15進行解釋。圖9至13示出了場分面鏡13的分立鏡21的各種例子，其中場分面鏡13被分組 為分立鏡組。圖9示出了這樣的情況，其中場分面鏡13的所有分立鏡21被分組為單個分立鏡 組31。在此情況下，場分面鏡13的所有分立鏡21由控制裝置28以相同的方式驅(qū)動，例如， 處于相同ζ位置的鏡子關(guān)于χ軸傾斜，并關(guān)于y軸傾斜相同的傾斜角度。如果這兩個傾斜 角度中的每個傾斜角度總計為零，那么場分面鏡13將是由分立鏡21構(gòu)成的平面鏡。場分 面鏡13的總縱橫比是X(1/y。。根據(jù)圖10，場分面鏡13被劃分成兩個分立鏡組32、33。圖10的上分立鏡組32包 括場分面鏡13的上一半，而分立鏡組33包括場分面鏡13的下一半。這兩個組32、33中的 每個組的分立鏡21再次由控制裝置28以相同的方式驅(qū)動。這可導致場分面鏡包括相應(yīng)于分立鏡組32、33的兩個分立面。這些分立面32、33的縱橫比是2X(1/yQ。根據(jù)圖11，場分面鏡13被劃分成總共四個分立鏡組34至37，這些分立鏡組具有 的縱橫比是4X(l/yQ，并且在每種情況下覆蓋反射表面20的整個行寬。因此，這四個分立鏡 組34至37界定四個具有上述縱橫比的分立面。根據(jù)圖12，場分面鏡13的分立鏡21被劃分成總共八個分立鏡組38至45，這些分 立鏡組在每種情況下相應(yīng)于一行場分面鏡13，并且具有的縱橫比是SxciAv因此這樣分組 可以產(chǎn)生總共具有八個分立面的場分面鏡。根據(jù)圖13，場分面鏡13的分立鏡21被分組，使得在每行場分面鏡13中，在每種情 況下八個相鄰的分立鏡21被分組為一個分立鏡組46。這些分立鏡組46中的每一個分立 鏡組具有的縱橫比是8 1。如果場分面鏡13的每分立鏡行22由例如80個分立鏡21構(gòu) 成，那么根據(jù)圖13的分組的每行22包括十個分立鏡組46，這合計達到總共80個分立鏡組 46。在根據(jù)圖13的實施例中，這允許場分面鏡13形成有80個分立面。圖14和15示出了作為場分面鏡的光瞳分面鏡47的照明，光瞳分面鏡47與光瞳分 面鏡14相類似，該場分面鏡總共具有十九個分立鏡組，這些分立鏡組根據(jù)圖2至7和9至 13所述被劃分成組。類似于根據(jù)圖8的光瞳分面鏡14，光瞳分面鏡47的圓形光瞳面板29 覆蓋有形成行和列的格柵圖案的分立鏡21。光瞳分面鏡47的被照明的分立鏡21由陰影線 表示。照明被引導到在每種情況下具有圓形邊界的分立鏡組48。在分立鏡組48的圓形邊 界內(nèi)，由場分面鏡生成的多個圖像被布置，該場分面鏡設(shè)置在照明光的光束路徑的上游，所 述多個圖像是被設(shè)定為圓形的輻射源的圖像，或是所述輻射源的圖像的圖像。該輻射源可 以根據(jù)圖1的被設(shè)定為圓形的輻射源1而被提供。所述輻射源的圖像可以設(shè)置在照明和成 像光的光束路徑的中間焦點中。這些多個圖像也被稱為源圖像。如果光瞳分面鏡47的中 間焦點中的源圖像偏離圓形形狀，那么分立鏡組48的形狀相應(yīng)地可適合于源圖像的形狀。 如果輻射源的圖像例如是橢圓形，那么光瞳分面鏡47上的分立鏡48可具有相應(yīng)的橢圓邊 界。輻射源圖像或源圖像的其它形狀也是可能的，例如六邊形或矩形形狀，這導致光瞳分面 鏡47上的最佳平鋪。通過在中間焦平面內(nèi)的相應(yīng)光闌布置，輻射源圖像的這些形狀也是可 以實現(xiàn)的。通過改變光瞳分面鏡47的分立鏡組48的分組布置，照明光學部件4可適于改 變輻射源圖像在中間焦點的形狀，該形狀變化是由于光闌的改變而導致的。當輻射源改變 時，例如當⑶PP輻射源由LPP輻射源替換時，這也是可應(yīng)用的。光瞳分面鏡47的每個分立鏡組48正好由場分面鏡13的一個分立鏡組(例如由分 立鏡組19(參看圖7))照明。光瞳分面鏡47設(shè)置有總共十九個被照明的分立鏡組48。如 已經(jīng)提及的，上游場分面鏡13被劃分為十九個指定的分立鏡組19。場分面鏡13的十九個 分立鏡組19分配到光瞳分面鏡47上的十九個分立鏡組48導致總共十九個通道，用于EUV 輻射10從場分面鏡13到物場5的光路徑。在光瞳分面鏡的每個分立鏡組48內(nèi)，九個中心分立鏡21被完全照明，而圍繞中心 分立鏡21的其它分立鏡21被部分照明。這些至少部分被照明的分立鏡21形成分立鏡組 48，借助于控制裝置28，該分立鏡組48將作為一組被驅(qū)動。每個分立鏡組48的分立鏡21 被驅(qū)動，使得經(jīng)由光瞳分面鏡47的分立鏡組48和下游傳輸光學部件16，場分面鏡13的指 定的分立鏡組(例如是根據(jù)圖7的實施例的指定的分立鏡組19)的圖像被成像到物場5。 借助于場分面鏡13，在分立鏡組48的位置處生成二次輻射源，該二次輻射源被成像到投射平面7的光瞳面。因此，EUV輻射10在光瞳分面鏡47上的強度分布直接關(guān)聯(lián)物平面6內(nèi) 物場5的照明的照明角度分布。在根據(jù)圖14的照明例子中，分立鏡組48大致均勻地分布在光瞳面板29上。因而， 物場5以這樣的照明角度被照明，該照明角度分布在光瞳面板29的整個孔徑上。這導致物 場5的從所有方向的近似傳統(tǒng)的照明，這是由投射光學部件7的像側(cè)數(shù)值孔徑來限定的。圖15示出了光瞳分面鏡47的不同于圖14的照明，換句話說，已經(jīng)改變了投射曝 光設(shè)備1的照明設(shè)置。通過場分面鏡13的各自的分立鏡組的成組或集體驅(qū)動，例如根據(jù)圖 7的分立鏡組19，光瞳面板29的邊緣處的分立鏡組49被照明。這導致物場5在物平面6 內(nèi)的近似環(huán)狀照明角度分布的照明。照明分布的環(huán)形的最小寬度由分立鏡組49的寬度界 定，這樣該最小寬度是可以調(diào)節(jié)的。為了確保即使當照明設(shè)置已經(jīng)根據(jù)圖15被改變，各個場面被成像到物場5，分立 場面(例如根據(jù)圖7的實施例的分立鏡組19)和分立鏡組49的分立鏡21這兩者需要相應(yīng) 地通過使用控制裝置28使各個組傾斜而被重新調(diào)整。換句話說，當照明設(shè)置改變時，一方 面場分面鏡13的分立鏡組和另一方面光瞳分面鏡47的分立鏡組需要由控制裝置28同步 驅(qū)動。當使用根據(jù)圖8的光瞳分面鏡14時，根據(jù)圖15的照明也是可能的。所述光瞳分 面鏡14可以各種環(huán)形照明設(shè)置照明物場，這些環(huán)形照明設(shè)置的差別之處在于物場5中的最 小和最大照明角度。圖16示出了場分面鏡13的分立鏡21的分組的另一替換樣式。根據(jù)圖16的場 分面鏡13的分立鏡組50被分組，使得分立鏡組50具有弓形的包絡(luò)51。該包絡(luò)51通過選 擇相應(yīng)的分立鏡21而再現(xiàn)。分立鏡組50包括在圖16中用陰影示出的那些分立鏡21。相 應(yīng)地，分立鏡組50形成弓形分立面，用于照明物平面6內(nèi)的相應(yīng)的弓形或環(huán)形物場5。同 樣地，可以形成多個這樣的具有弓形或環(huán)形包絡(luò)51的分立鏡組50，用于照明相應(yīng)形成的物 場。如同上述的其它分立鏡組一樣，場分面鏡13的分立面21的數(shù)量需要一方面取決于分 立鏡組的期望數(shù)量進行設(shè)置，并且另一方面取決于再現(xiàn)期望的包絡(luò)(例如包絡(luò)51)的期望 分辨率進行設(shè)置，借助于分立鏡21的平鋪或格柵圖案。圖17至20示出了場分面鏡13的分立鏡組或分立面19的布置或構(gòu)造的各種例子。 如參考圖2至16所述，這些分立鏡組19中的每一個被劃分成多個沒有詳細示出的分立鏡 21。在圖17至20中示出的每個分組能夠由同一場分面鏡13生成。這些圖在每種情況下 僅示出了分立鏡組19，另一方面，設(shè)置在這些分組之間但沒有被使用的分立鏡沒有示出。根據(jù)圖17的場分面鏡13被分組為總共四個的分立鏡組19的列52。場分面鏡13 被中心十字形區(qū)域53中的上游元件遮擋；在該區(qū)域53中，相鄰的分立鏡組19被設(shè)置成彼 此間距更遠，使得在該區(qū)域53中沒有成組的分立鏡。根據(jù)圖18的場分面鏡13被分組，使得繼而由多個分立鏡(未示出)構(gòu)成的分立 鏡組19布置成列，這些列相對于彼此以圖7中示出的截面所示的方式偏移。在分立鏡組19 的該構(gòu)造中，中心的寬度增加的場分面鏡13的水平中心部分54沒有覆蓋成組的分立鏡21。 該部分54也由設(shè)置在根據(jù)圖18的場分面鏡13的上游的部件遮擋。在根據(jù)圖18的場分面鏡13中，分立鏡組19設(shè)置在超級組55中。一些相鄰超級 組的行相對于彼此偏移，以形成根據(jù)圖18的場分面鏡13的圓形包絡(luò)。
根據(jù)圖17和18的場分面鏡13的分立鏡組19具有的縱橫比x/y是13 1。因此 這些分立鏡組19可由13個相鄰的方形分立鏡21形成。圖19示出了多個弓形或環(huán)形分立鏡組50的構(gòu)造的例子，每個分立鏡組50與上文 中參考圖16所述的相應(yīng)。分立鏡組50，即根據(jù)圖19的場分面鏡13的分立面，布置為十個 分立鏡組50的超級組56，在圖19中每個分立鏡組疊置。超級組56繼而布置成五個超級組 列。超級組56對稱布置，這樣允許它們被列入圓形包絡(luò)57中。圖20示出了場分面鏡13的另一構(gòu)造，該場分面鏡13被劃分成弓形或環(huán)形分立鏡 組50。這些分立鏡組50繼而被分組為超級組58，超級組在每種情況下包括不同數(shù)量的分 立鏡組50。在圖20的左下方示出的超級組58a例如被劃分成九個分立鏡組50。其它的超 級組58具有或多或少的分立鏡組50。由于聚光器11形成的中心陰影，場分面鏡13的中心 部分59沒有設(shè)置分立鏡組13。根據(jù)圖19和20的實施例的分立鏡組50的縱橫比總計為x/y = 13 1，其中χ指 的是分立鏡組50之一沿χ方向的寬度，并且y指的是分立鏡組50之一沿y方向的廣度。圖21和22示出了光瞳分面鏡47劃分成分立鏡組60、61的各種劃分。另外，這些 圖僅示出了分立鏡組，沒有示出成組的分立鏡之間的分立鏡。根據(jù)圖21和22的劃分使用 同一光瞳分面鏡47就可以實現(xiàn)。在根據(jù)圖21的實施例中，光瞳分面鏡47被劃分成分立鏡組60，這些分立鏡組形成 多個繞中心區(qū)域62的同心圓。每個分立鏡組60繼而由光瞳分面鏡47的多個分立鏡21構(gòu) 成，如上文中參考圖8、14和15所述。光瞳分面鏡47總共包括多于100個分立鏡組60，在 根據(jù)圖21的實施例中，分立鏡21的數(shù)量總計多于1000。根據(jù)圖22的分立鏡21被分組，使得圓形的分立鏡組61布置為近似六邊形的封閉包。根據(jù)圖21和22的分組已經(jīng)被證實特別適合于形成具有給定照明角度分布的照明 設(shè)置。如果需要的話，一些分立鏡組60、61或其超級組可被阻擋掉，通過傾斜它們的物分面 鏡13的上游分立鏡組19，以界定特定照明設(shè)置。作為圖2的替換，圖23示出了覆蓋有分立鏡21的上述分面鏡之一的反射表面20 的平鋪。根據(jù)圖23的平鋪的分立鏡21也是方形。分立鏡21沒有布置為行和列的格柵圖 案，而是相鄰列相對于彼此偏移了分立鏡21的邊長的一半。根據(jù)圖23的平鋪允許弓形或環(huán)形分立鏡組(例如根據(jù)圖19和20的分立鏡組50) 被形成，從而鄰近包絡(luò)51有較小的損失，與布置為行和列的格柵圖案的平鋪相比，在給定 的最大允許損失，這需要更少的分立鏡或像素分辨率。圖24示出了包括替換的照明光學部件的投射曝光設(shè)備1。與上文中參考圖1至 23已經(jīng)描述的那些元件相應(yīng)的元件具有相同的附圖標記，并且不再詳細討論。輻射源3的下游的第一個元件是光束形成聚光器63，該光束形成聚光器在根據(jù)圖 1的布置中具有聚光器11的功能。聚光器63的下游設(shè)置有鏡面反射器64。鏡面反射器64 形成入射EUV輻射10，使得EUV輻射10照明物平面6中的物場5，這導致在圖24中沒有示 出的投射光學部件的光瞳面65中的給定的、例如具有圓形邊界的均勻照明的光瞳照明分 布，換句話說相應(yīng)的照明設(shè)置，所述光瞳面65設(shè)置在掩模母版的下游。鏡面反射器65的效 果在US 2006/0132747 Al中進行了描述。類似于上文描述的分面鏡，鏡面反射器64的反射表面劃分成分立鏡21。取決于照明需求，鏡面反射器64的這些分立鏡被分組為分立鏡 組，即被分組為鏡面反射器64的面。圖25示出了光瞳分面鏡14的替換照明，該照明與根據(jù)圖1的照明不同。與上文中 參考圖1至23已經(jīng)描述的那些元件相應(yīng)的元件具有相同的附圖標記，并且不再詳細討論。 在圖25中，照明系統(tǒng)2被示出并且包括光瞳分面鏡14。與根據(jù)圖1的照明系統(tǒng)2相對照，根據(jù)圖25的照明系統(tǒng)2沒有設(shè)置聚光器11和 場分面鏡13之間的中間焦平面。在圖25中沒有詳細示出的場分面鏡13的分立鏡組的反 射表面可以是平面表面。在上述場分面鏡13的分立鏡組的各種實施例的一個實施例中，一些分立鏡21的 驅(qū)動可單獨地與該組的剩余分立鏡21的驅(qū)動不同，換句話說它們可從分立鏡組中去除。因 此，由此形成的場分面鏡13的各個分立面能夠單獨地設(shè)置特定阻擋或遮蔽，這對于校正物 場5內(nèi)的照明強度的均勻性是有用的。相應(yīng)地，在光瞳分面鏡14、47的分立鏡組的上述各種實施例中的一個實施例內(nèi)， 一些分立鏡21的驅(qū)動可單獨地與該組的其它分立鏡21的驅(qū)動不同，換句話說它們可從分 立鏡組中去除。借助于特定的阻擋或遮蔽，光瞳分面鏡14、47上的各種源圖像(參看圖14 和15中的48)能夠被單獨地阻擋掉。這對于校正或設(shè)置在物場5上的照明角度的特定強 度分布是有用的。相應(yīng)地，結(jié)合在鏡面反射器64上的分立鏡組的分立面可單獨地從分立鏡組中去 除。圖26示出了照明光學部件的另一實施例。與上文中參考圖1至25已經(jīng)描述的那 些元件相應(yīng)的元件具有相同的附圖標記，并且不再詳細討論。輻射源3的下游的第一個元件是聚光器66，該聚光器66具有連續(xù)的鏡面，換句話 說沒有設(shè)置面。該鏡面例如可以是橢圓的鏡面。聚光器66可以由嵌套的聚光器替換。在中間焦平面12的下游，EUV輻射10照射在聚光器分面鏡67上。所述聚光器分 面鏡67具有平面載板68，該平面載板加入到固定在其上的橢圓體的分立鏡69的x/y陣列。 該橢圓體的分立鏡69緊鄰反射面，導致最大部分的EUV輻射10將被聚光器分面鏡67的橢 圓體分立鏡69反射。該橢圓體分立鏡69連接到驅(qū)動器(未示出)，該驅(qū)動器允許橢圓體分 立鏡69單獨地傾斜。橢圓體分立鏡69形成，使得它們都吸收相同立體角的EUV輻射10。輻射源3設(shè)置在橢圓體聚光器66的一個焦點中，然而中間焦平面12的中間焦點 設(shè)置在橢圓體聚光器66的其它焦點中。在聚光器分面鏡67的下游，鏡面反射器70設(shè)置在EUV輻射10的光束路徑中，該 鏡面反射器70包括分立鏡21的x/y陣列。由EUV輻射10照射的每個橢圓體分立鏡69被 分配到后續(xù)光束路徑中鏡面反射器70的分立鏡21之一，導致EUV輻射10將被劃分為大量 的輻射通道，這些輻射通道相應(yīng)于被照射的橢圓體分立鏡69的數(shù)量，并且這些輻射通道中 的每一個輻射通道達到橢圓體分立鏡69之一，然后分別地達到鏡面反射器70的分配的分 立鏡21。中間焦平面12的中間焦點設(shè)置在橢圓體分立鏡69之一的對應(yīng)的焦點中，同時在 橢圓體分立鏡69的第二焦點中設(shè)置鏡面反射器70的分立鏡21，其被分配到所述橢圓體分 立鏡69。換句話說，該鏡面反射器70設(shè)置在用于輻射源3的源圖像72的像平面71中。這些源圖像72離散地布置在像平面71中，換句話說它們布置成離彼此一定距離。這在圖28 中示出，該圖28是在鏡面反射器70的位置的源圖像72的平面圖。相應(yīng)于鏡面反射器的被 照明的分立面21的數(shù)量，提供了總共數(shù)百個這樣的源圖像72，這些源圖像設(shè)置為等距的χ/ y格柵圖案。所有的源圖像72的包絡(luò)基本上具有腎或豆的形狀。從鏡面反射器70上的源圖像72繼續(xù)，布置掩模母版的物平面6內(nèi)的物場5的物 場部分73經(jīng)由各個輻射通道被照明。該物場部分73以通常變形的矩形x/y格柵圖案的方 式覆蓋物場5。由于該物場部分73在每種情況下被分配到一個源圖像72，因此該物場部分73還 被稱為源斑點。該物場部分73的被照明形狀與橢圓體分立鏡69的邊界形狀相關(guān)聯(lián)。鏡面反射器70沒有布置在根據(jù)圖26的照明光學部件的光瞳面內(nèi)。物場5具有局部環(huán)形形狀，例如具有沿y方向8mm寬度并且沿χ方向104mm寬度 的槽。鏡面反射器70的分立鏡21形成EUV輻射的輻射通道，使得由物場部分73形成的物 場在物平面6內(nèi)被照明，并且在與下游投射光學裝置的光瞳面相一致的照明光學部件的下 游光瞳面中獲得期望的強度分布，由此確保在掩模母版上獲得期望的照明角度分布。圖26是逐個通道的照明的示意性輪廓，其中相鄰的橢圓體分立鏡69導致EUV輻 射10照射在鏡面反射器70的相鄰分立鏡21上。這樣的相鄰關(guān)系不是必須的。事實上，可 期望去除這樣的相鄰布置，使得例如一方面鄰近關(guān)系的橢圓體分立鏡69以及另一方面鏡 面反射器70的分立鏡21不會通過點反轉(zhuǎn)、鏡像或通過識別功能彼此轉(zhuǎn)換。這在下文中還 被稱為在圖27中示出的鄰近關(guān)系的混合，該圖27示出了橢圓體分立鏡69與鏡面反射器70 的分立鏡21的另一關(guān)系。當鄰近關(guān)系根據(jù)圖27被混合時，這導致通過鏡面反射器70產(chǎn)生的物場部分73的 相應(yīng)的混合照明，這允許物場5被照明并且具有較好的均勻性。這減小對物場照明的均勻 性的影響，這是由于輻射源3的發(fā)射特性的改變，或鏡面反射器70的上游布置的光學系統(tǒng) 的反射率(尤其在表面上)的改變，例如由于鏡面的選擇性的污染。例如使用US 6，438，199 Bl中公開的算法可以產(chǎn)生橢圓體分立鏡69到鏡面反射 器70的分立鏡21的混合分配。該分配例如可以是交叉方式，結(jié)果是鏡面反射器70的相鄰 分立鏡21被來自非相鄰橢圓體分立鏡69的光照射。鏡面反射器70的分立鏡21的數(shù)量超過聚光器分面鏡67的橢圓體分立鏡69的數(shù) 量。以此方式，橢圓體分立鏡69的驅(qū)動器能夠被驅(qū)動，使得鏡面反射器70的分立鏡21的 各個子組被調(diào)整以實現(xiàn)物場5的各種期望照明。每個源圖像72可在分立鏡21中的恰好一 個分立鏡上生成。鏡面反射器70的分立鏡21在每種情況下也連接到驅(qū)動器，這允許它們相對于像 平面71單獨地傾斜。在調(diào)整橢圓體分立鏡69之后，這使得能夠相應(yīng)地重新調(diào)整鏡面反射 器70的分立鏡21。圖26和27示出了橢圓體分立鏡69的組74的示意圖，該橢圓體分立鏡69的組74 沿y方向延伸，并且分配到鏡面反射器70的分立鏡21的組75以及分配到物場點73的組、 分立鏡21的組75和沿y方向延伸的物場點73的組。一方面聚光器分面鏡67以及另一方面鏡面反射器70的驅(qū)動器可被驅(qū)動，使得橢 圓體分立鏡69或鏡面反射器70的分立鏡21能夠成組地被驅(qū)動。然而，這樣的特定組的驅(qū)動不是必須的。聚光器分面鏡67可由分開預(yù)制的橢圓體分立鏡69組裝。制造聚光器分面鏡67的 另一方法允許所述聚光器分面鏡67單片地形成，例如通過單鉆石加工。然后聚光器分面鏡 67借助于HSQ或聚酰胺旋轉(zhuǎn)涂層而變平滑。該HSQ方法在Farhad Salmassi等，Applied Optics,45 卷，no. 11,2404 至 2408 頁中進行了描述。制造聚光器分面鏡67的另一方法允許聚光器分面鏡67借助于電鍍而由基體電化 學地形成。輻射源3、聚光器66和聚光器分面鏡67可以集成為多源陣列。該類型的多源陣列 在德國專利申請No. 10 2007 008 702. 2中進行了描述，該申請被認為是完全結(jié)合到本申 請中。在將被照明的區(qū)域中，換句話說在物場中，多源陣列的每個輻射源僅能夠照明局部區(qū) 域，換句話說物場部分。橢圓體分立鏡69，或如果分立鏡21是彎曲的，甚至上述實施例的分立鏡21可繼 而由多個平面微鏡配置，并且所述多個平面表面以類似多面體的方式近似橢圓體分立鏡69 或彎曲的分立鏡21的各個彎曲表面。一般地，這些微鏡可繼而借助于驅(qū)動器而可位移，這些微鏡近似橢圓體分立鏡69 或彎曲的分立鏡21的彎曲表面。在此情況下，這些微鏡可用于影響分立鏡69、21的成像特 性。該類型的微鏡例如可以被設(shè)計成類似于微鏡陣列(MMA)，在微鏡陣列中使用橫向 連接的彈簧接頭，可移動地安裝分立鏡，并且微鏡陣列靜電地可被驅(qū)動。該類型的微鏡陣 列對于本領(lǐng)域技術(shù)人員公知為“MEMS”(微機電系統(tǒng))，該類型的微型陣列例如在EP 1 289 273 Al中公開。在上述實施例中，分立鏡21和69提供了照明通道，用于在投射曝光設(shè)備1的物場 5中交疊EUV輻射10，換句話說照明光。這樣的照明通道AK示例性地在圖26和27中示出。 相應(yīng)的照明通道還在根據(jù)圖1至25的實施例中找到。這些分立鏡21和69具有這樣的廣 度的鏡面，使得這些分立鏡照明通道照明物場5中的比物場5小的物部分。這示意性地在 鏡面反射器70的圖26和27中示出。通過組裝分配給不同的分立鏡照明通道的物場部分， 物場5的該照明還通常地應(yīng)用于根據(jù)圖1至25的實施例中。圖29是示例性物場5的示意圖，該物場由總共22個照明通道照明，并且所述照明 通道照明相應(yīng)的22個物場部分76。物場部分76之間的邊界77、78分別沿χ方向或沿y方 向延伸。掃描方不是嚴格地平行于y方向，換句話說該掃描方向不是垂直于物場5 的長場軸X，而是相對于所述場軸X傾斜角度α，其中在使用具有根據(jù)圖29的物場照明的 投射曝光設(shè)備1的投射曝光期間，晶片夾具和掩模母版夾具同步地沿該掃描方向位移。因 此，當掃描通過物場5時，僅僅在一部分掃描處理期間，掩模母版上的點看見，沿y方向延伸 且在兩物場部分76之間的邊界78中的一個(甚至看不到)。這防止在通過物場5的整個 掃描處理期間，掩模母版上的將被成像的點沿邊界78之一總是移動，這改善了掩模母版上 將被成像的點的強度的均勻性，當物場被局部照明時該掩模母版上的點被暴露。替換地，物場部分能夠被布置，使得沿掃描方向在物場點之間沒有連續(xù)的邊界。如 果相應(yīng)于根據(jù)圖23的旋轉(zhuǎn)90°的布置的物場5使用相應(yīng)于根據(jù)圖23的分立面21的物場部分而被照明，那么獲得例如相對于彼此偏移的交疊的物場部分的這種布置。在此情況下， 存在相對于彼此偏移且垂直于掃描方向的物場部分的行，結(jié)果是即使掃描方嚴格地 與y方向一致，在掩模母版上也沒有一個這樣的點，即在掃描通過物場5時總是沿物場部分 之間的邊界移動的點。因此，該類型的偏移布置還有助于避免不期望的在掃描處理期間暴 露于該場點的強度的不均勻性。如果物場部分具有邊緣不平行于掃描方向的邊界形狀時，可以獲得相應(yīng)的均勻 性。這例如可以通過梯形的或棱形的分立鏡21而實現(xiàn)，該分立鏡21的形狀界定物場部分 的形狀。為了防止分立鏡21、69的鋒利邊緣被成像到像場，這將導致像場8內(nèi)不期望的強 度非均勻性，使用傳輸光學部件15可以實現(xiàn)分立鏡21、69的圖像的特定散焦，或鏡像的特 定像差。為此目的，傳輸光學部件15可以被配置，使得在物平面6的上游或下游生成分立 鏡21、69的圖像的鋒利邊緣。分立鏡21、69可具有多層涂層，該多層涂層包括鉬和硅的分立層，以優(yōu)化分立鏡 21、69對于使用的EUV波長的反射率。在光瞳分面鏡包括沒有劃分成分立鏡的光瞳面的情況下，分立鏡照明通道可通過 同一個光瞳面而被成組地傳輸?shù)轿飯?。這些光瞳面中的每一個都界定組照明通道，其結(jié)合 分配到該光瞳面的分立鏡照明通道。于是，該組照明通道的數(shù)量相應(yīng)于沒有劃分成分立鏡 的光瞳面的數(shù)量。相應(yīng)于組照明通道劃分成分立鏡照明通道，這些光瞳面中的每一個以及 每個組照明通道則被分配到場分面鏡的大量的分立鏡。為了修改照明角度分布，光瞳面的 數(shù)量可超過組照明通道的數(shù)量。在場分面鏡和光瞳分面鏡都劃分成分立鏡21的實施例中，場分面鏡的相鄰分立 鏡21不需要經(jīng)由相鄰光瞳面分立鏡而被傳輸(與根據(jù)圖26和27的鏡面反射器的上述描 述相比較)；事實上，可提供成組的場面分立鏡和光瞳面分立鏡，這些分立鏡在空間任意混 合，用于整個物場5的結(jié)合照明。下文是分立鏡的實施例的更加詳細的描述，例如借助于圖30至34，形成根據(jù)圖2 的場分面鏡13的分立鏡21之一。與上文中參考圖1至29已經(jīng)進行解釋的元件相應(yīng)的元 件具有相同的附圖標記，并且不再詳細討論。根據(jù)圖31至34的分立鏡21具有鏡板形式的鏡體79。該鏡體79由硅組成。鏡體 79具有矩形的反射表面80，在根據(jù)圖30至34的實施例中為大致方形形狀，用于反射EUV 輻射10。反射表面80可設(shè)置有多層反射涂層，用于優(yōu)化分立鏡21對于EUV輻射10的反射率。分立鏡21的鏡體79相對于由硅組成的堅硬載體主體可繞兩個傾斜軸傾斜。這兩 個傾斜軸在圖30至34中用W1和W2表示。這兩個傾斜軸wi、w2中的每一個是傾斜接頭82、 83的一部分，在每種情況下該傾斜接頭是固體接頭。這兩個傾斜軸Wl、W2彼此垂直。傾斜 軸W1平行于χ軸，而傾斜軸W2平行于y軸。鏡體70和載體主體81可由FiO2或Fi3N4形成。 傾斜軸W2設(shè)置在鏡體79的延伸平面內(nèi)。鄰近鏡體79的實際反射表面80，存在不能傾斜的 較小的死表面區(qū)域83a，該死表面區(qū)域83a在圖30中示出在傾斜軸W2的上方。這兩個傾斜 軸W1^2平行于反射表面80的平面延伸。替換地，傾斜接頭82、83也可以被布置，使得兩個 傾斜軸WpW2中的至少一個設(shè)置在反射表面80的平面內(nèi)。
適合于形成分立鏡21的可適應(yīng)EUV和高真空材料的其它例子包括CVD (化學氣相 沉積)金剛石、SiC (碳化硅)、SiO2 (二氧化硅)、Al2O3、銅、鎳、鋁合金和鉬。圖32示出了傾斜軸W1的傾斜接頭82的放大視圖。傾斜接頭83相應(yīng)地形成。垂直于傾斜軸W1,換句話說沿圖32的ζ方向，傾斜接頭82具有接頭厚度S。沿該 傾斜軸巧，換句話說沿圖32的χ方向，傾斜接頭82具有接頭長度L(參看圖33)。接頭長 度L的尺寸與鏡體79的橫向延伸可比較。在根據(jù)圖30至34的分立鏡21中，接頭長度L等于大約1mm。在圖中過大的接頭 厚度S等于1 μ m。因此，在根據(jù)圖30至34的分立鏡21中，L/S的商大致等于1000。鏡體79經(jīng)由傾斜接頭83與中間載體主體84連接為一體，該傾斜接頭83的尺度， 特別是其接頭厚度S和接頭長度L相應(yīng)于傾斜接頭82的接頭厚度和接頭長度。該中間載 體主體84也由硅組成。根據(jù)圖33的橫截面，中間載體主體84是L形狀，并且具有緊鄰傾 斜接頭83的接頭部分85，以及設(shè)置在鏡體79下方的板部分86，換句話說在鏡體79的遠離 反射表面80的一側(cè)。在傾斜接頭83的區(qū)域中，在鏡體79和中間載體主體84的接頭部分 85之間存在距離B，該距離B也被稱為傾斜接頭83的寬度。中間載體主體84的板部分86經(jīng)由傾斜接頭82與載體主體81的接頭部分87連 接為一體。該接頭部分87固定到載體主體81的板部分88。載體主體81的板部分88設(shè)置 在中間載體主體84的板部分86下方。在圖31和33中所示的中性位置處，中間載體主體 84的板部分86、載體主體81的板部分88彼此平行。兩個電極驅(qū)動器89、90被設(shè)置用于鏡體79關(guān)于兩個傾斜軸Xl、x2的受控傾斜(參 看圖34)。電極驅(qū)動器89分配給傾斜接頭82，并因此也被稱為W1驅(qū)動器90。電極驅(qū)動器 90分配給傾斜接頭83，并因此也被稱為W2驅(qū)動器。W2驅(qū)動器的第一電極是鏡體79，該鏡體 自身是導電的。W2驅(qū)動器90的相對電極91是導電的涂層，該涂層施加于中間載體主體84 的板部分86，并且該涂層面對鏡體79。在分立鏡21的中性位置中，相對電極79離鏡體79 具有大約100 μ m的距離。W2驅(qū)動器90的兩個電極90、91經(jīng)由信號線92連接到可驅(qū)動的電壓源93。該電 壓源93經(jīng)由信號線94連接到驅(qū)動器控制裝置95。相對電極91同時是W1驅(qū)動器89的電極。W1驅(qū)動器89的相對電極96由導電涂 層形成，該導電涂層施加于載體主體81的板部分88。W1驅(qū)動器89的相對電極96設(shè)置在載 體主體81的板部分88的面對中間載體主體84的板部分86的一側(cè)上。在該中性位置，換 句話說在未受力的狀態(tài)中，W1驅(qū)動器89的相對電極96離中間載體主體84的板部分86的 距離等于100 μ m。電極91、96經(jīng)由信號線92電連接到另一電壓源97。電壓源97經(jīng)由另一控制線 98連接到驅(qū)動器控制裝置95。當施加直流電壓Vl和V2 (參看圖34)時，中間載體主體84的板部分86可控地關(guān) 于傾斜軸W1朝向載體主體81的板部分88可傾斜，并且鏡體79可控地關(guān)于傾斜軸W2相對 于中間載體主體84的板部分86可傾斜，在每種情況下可傾斜給定的傾斜角度。關(guān)于各自 的傾斜軸Wp W2的傾斜角度的模尤其取決于傾斜接頭82、83的尺度、取決于電極90、91、96 的表面面積、取決于彼此離開的距離，并且當然取決于施加的電壓V1、V2的量。施加的電壓 VI、V2允許關(guān)于兩個傾斜軸Wl、W2連續(xù)地調(diào)整傾斜角度。
圖34示出了傾斜的位置，在該位置，在施加電壓VI、V2之后，一方面，中間載體主 體84的板部分86關(guān)于傾斜軸W1已經(jīng)相對于并且朝向載體主體81的板部分88傾斜，并且 另一方面，鏡體79關(guān)于傾斜軸W2已經(jīng)相對于且朝向中間載體主體84的板部分86傾斜。入 射EUV輻射10由鏡體79的反射表面80以確定的方式偏轉(zhuǎn)，如圖34所述。圖35是圖32的替換視圖，示出了傾斜接頭82的實施例中的尺度關(guān)系。在該實施 例中，接頭厚度S也等于大約1 μ m,接頭寬度B等于大約20 μ m,并且與圖35的繪圖平面垂 直的接頭長度L等于大約1mm。圖36和37示出了驅(qū)動器119的另一實施例，用于例如單個鏡子21的反射表面80 關(guān)于至少一個傾斜軸Wl、W2的受控傾斜。與上文中參考圖30至35已經(jīng)進行解釋的元件相 應(yīng)的元件具有相同的附圖標記，并且不再詳細討論。驅(qū)動器119具有可動電極120，該電極的自由端121 (參看圖36和37)設(shè)置有分配 給驅(qū)動器119的傾斜接頭，以與圖36和37中沒有示出的接頭主體建立可動連接?？蓜与?極120是平坦的，并且在圖36和37的截面圖中示出。在根據(jù)圖36和37的橫截面視圖中， 可動電極120是彎曲的。驅(qū)動器119的相對電極22剛性連接載體主體81的板部分88。相對電極122例如 是施加到載體主體81的板部分88上的涂層。在可動電極120和相對電極122之間設(shè)置有 層，該層是電介質(zhì)123的形式。電介質(zhì)123可以是相對電極122上的平坦的涂層。相對電極122在接觸區(qū)域124內(nèi)與可動電極120直接接觸。可動電極120的遠離 區(qū)域125與相對電極122隔開，并且與電介質(zhì)123隔開?？蓜与姌O120的自由端121是遠 離區(qū)域125的一部分。圖36和37示出了可動電極120的兩個位置。圖36示出了中性位置，在該位置， 在兩個電極120、122之間沒有施加電壓?？蓜与姌O120的自由端121于是設(shè)置在離板部分 88最大距離處。圖37示出了這樣的位置，在該位置中，在電極120、122之間施加大約80V 的傾斜電壓。在根據(jù)圖37的該傾斜位置中，可動電極120的鄰近接觸區(qū)域124的區(qū)域也開始與 電介質(zhì)123接觸，導致自由端121離載體主體81的板部分88的距離相應(yīng)地減小。根據(jù)圖36和37的這樣的驅(qū)動器119也稱為微型卷軸驅(qū)動器。傾斜接頭的其它實施例可以具有接頭長度L比接頭厚度S的不同尺度關(guān)系。L/S 可以大于50、大于100、大于250或甚至大于500。大于1000的L/S關(guān)系也是可能的。上文解釋的用于使鏡體79傾斜的驅(qū)動器可包括集成的傳感器，該傳感器用于測 量關(guān)于傾斜軸巧、W2的各個傾斜角度。該傳感器可尤其用于監(jiān)控預(yù)設(shè)傾斜角度。圖38和39示出了上述包括分立鏡21的分面鏡之一的反射表面20上的平鋪的另 一實施例。在根據(jù)圖38的平鋪中，相鄰列的分立鏡21沿y方向相對于彼此偏移。這在圖38 中借助于兩列Sl和S2示出。布置在這些列S1、S2中的分立鏡組19的相鄰分立鏡21在每 種情況下沿y方向相對于彼此偏移了分立鏡21的y范圍的一半。在其它相鄰列中，比較列 S3和S4，在這些列中彼此相鄰布置的分立鏡組19的分立鏡21在每種情況下沿y方向相對 于彼此偏移了分立鏡21的整個y范圍。該偏移允許實現(xiàn)分立鏡組19的曲率的給定較大半 徑，盡管各個分立鏡21的y范圍較大。以此方式，例如分立鏡組19可適合于彎曲的物場形狀。在圖38的邊緣的分立鏡組19之一被突出，以更加容易地被辨認。圖39示出了分立鏡21的布置以及這些分立鏡21分組為分立鏡組19的替換分組 的另一實施例。僅在圖39的χ方向上局部示出的分立鏡組19具有x/y縱橫比，該縱橫比 相應(yīng)于根據(jù)圖38的分立鏡組19的縱橫比。與根據(jù)圖38的分立鏡組19相對照，根據(jù)圖39 的分立鏡組19是矩形形狀。根據(jù)圖39的這些分立鏡組19中的每一個可照明矩形的物場。 還可能的是使用根據(jù)圖39的矩形分立鏡組19來照明弓形的物場；在此情況下，例如掠入射 鏡18(參看圖1)于是將確保形成相應(yīng)的場。用分立鏡21平鋪分面鏡13的方式類似于用木板瓦平鋪房屋墻壁。每個分立鏡組 19包括七行相鄰的分立鏡21，這些分立鏡疊置。這些行之間的接頭140是連續(xù)水平的，換 句話說它們沿χ方向延伸。在其中一行中的相鄰分立鏡21之間的接頭141相對于y方向 以角度T設(shè)置，即相對于分立鏡21的列布置的方向。在示出的實施例中，角度T等于大約 12°。其它接頭角度T也是可能的，例如5°、8°、15°、19°或20°的接頭角度T。每個分立鏡21具有的x/y縱橫比，其相應(yīng)于分立鏡19的x/y縱橫比。根據(jù)圖39， 這似乎不是這種情況，這是由于當沿X方向觀看時分立鏡21以壓縮視圖示出。投射曝光設(shè)備1用于將物場5中的至少一部分掩模母版成像到像場8內(nèi)的晶片上 的光敏層區(qū)域，用于微結(jié)構(gòu)或納米結(jié)構(gòu)元件的光刻制造，尤其諸如微芯片的半導體元件。取 決于投射曝光設(shè)備1是否被設(shè)計為掃描曝光機或步進曝光機，掩模母版和晶片以時間上同 步的方式沿y方向位移，即當以掃描器模式操作時連續(xù)地位移或當以步進模式操作時遞增 地位移。如果這些分立鏡21和69不是布置在照明光學部件的場平面內(nèi)時，那么對于分立 鏡21和69的傾斜角度的經(jīng)界定的設(shè)置允許沿y方向在像場8上界定成像光10的強度掃 描分布，即強度分布。該類型的掃描分布可以是類似于高斯分布的y坐標的函數(shù)。替換地， 該類型的掃描分布可以是梯形形狀的y坐標的函數(shù)。該類型的替換掃描分布也可以通過用 高斯函數(shù)對矩形函數(shù)進行卷積而獲得。
權(quán)利要求
在EUV微光刻的投射曝光設(shè)備(1)中用作光學元件的分面鏡(13，14；47；64；67，70)， 所述分面鏡(13，14；47；64；67，70)包括分立鏡(21；69)，所述分立鏡提供分立鏡照明通道(AK)，用于將照明光(10)引導到所述投射曝光設(shè)備(1)的物場(5)， 所述分立鏡(21；69)具有鏡面，使得所述分立鏡照明通道(AK)照明所述物場(5)內(nèi)比所述物場(5)小的物場部分(73；76)；和 所述分立鏡(21；69)經(jīng)由驅(qū)動器(24)能夠傾斜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的分面鏡，其特征在于，所述分立鏡(21；69)具有這樣的鏡面， 使得需要至少兩個分立鏡照明通道(AK)用于照明整個物場(5)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的分面鏡，其特征在于，至少一個分立鏡組(19；31 ；32，33 ；34 至37 ；38至45 ；46 ；48 ；50 ；60 ；61)被設(shè)計成照明整個物場(5)。
4.在微光刻的投射曝光設(shè)備(1)中用作光學元件的分面鏡(13,14；47；64；67，70)，-包括多個分立鏡(21 ；69)，-對于入射照明光(10)的單獨偏轉(zhuǎn)，在每種情況下所述多個分立鏡被連接到至少一個 驅(qū)動器(24)，-使得所述多個分立鏡通過分離的驅(qū)動能夠關(guān)于至少一個傾斜軸(x，y)傾斜，-連接到所述驅(qū)動器(24)的控制裝置(28)，被配置使得允許將分立鏡(21 ；69)分組為 給定的分立鏡組(19 ；31 ;32，33 ;34至37 ;38至45 ；46 ；48 ；50 ；60 ；61)，所述分立鏡組在每 種情況下設(shè)置至少兩個分立鏡。
5.根據(jù)權(quán)利要求3至4中任一項所述的分面鏡，其特征在于，所述分立鏡組形成分立 面(19 ；31 ；32，33 ；34至37 ；38至45 ；46 ；50)，所述分立面具有的面形狀，其相應(yīng)于所述投 射曝光設(shè)備(1)中將被照明的物場(5)的場形狀。
6.根據(jù)權(quán)利要求3至5中任一項所述的分面鏡，其特征在于，所述分立鏡組(19；31 ； 32，33 ；34至37 ；38至45 ；46)具有矩形包絡(luò)。
7.根據(jù)權(quán)利要求3至6中任一項所述的分面鏡，其特征在于，所述分立鏡組(48；49 ； 50)具有弓形的、環(huán)形的或圓形的包絡(luò)(51)。
8.根據(jù)權(quán)利要求3至7中任一項所述的分面鏡，其特征在于，所述分立鏡組形成鏡區(qū) 域(48 ；49 ；60 ；61)，所述鏡區(qū)域具有相應(yīng)于所述投射曝光設(shè)備(1)內(nèi)被照明的物場(5)中 的照明角度分布的布置。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項所述的分面鏡，其特征在于，所述分立鏡(21)是多邊 形，并且以平鋪的方式覆蓋所述分立面或鏡區(qū)域。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項所述的分面鏡，其特征在于，所述分立鏡(21)中的每 一個分立鏡具有平坦的反射表面。
11.根據(jù)權(quán)利要求1至10中任一項所述的分面鏡，其特征在于，所述分立鏡(21)能夠 單獨地被驅(qū)動，用于沿所述分面鏡的反射表面(20)的法線(ζ)位移。
12.根據(jù)權(quán)利要求1至11中任一項所述的分面鏡，其特征在于，鏡區(qū)域(48；49 ；60 ；61) 或分立面(19 ；31 ；32，33 ；34至37 ；38至45 ；46 ；50)的分立鏡以行和列布置。
13.根據(jù)權(quán)利要求1至12中任一項所述的分面鏡，其特征在于，所述控制裝置(28)經(jīng) 由信號總線(26，27)連接到所述驅(qū)動器(24)。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的分面鏡，其特征在于，所述控制裝置(28)被配置用于成行 的分立鏡(21)的集體驅(qū)動。
15.根據(jù)權(quán)利要求3至14中任一項所述的分面鏡，其特征在于，所述控制裝置(28)被 配置，使得一個分立鏡組(19 ；31 ；32，33 ；34至37 ；38至45 ；46 ；50 ；60 ；61)的各個分立鏡 (21)的驅(qū)動能夠分別地不同于所述分立鏡組的剩余分立鏡(21)的驅(qū)動。
16.根據(jù)權(quán)利要求1至15中任一項所述的分面鏡，其特征在于，所有的分立鏡(21；69) 布置在共同的平面載體(68)上。
17.微光刻的投射曝光設(shè)備(1)使用的照明光學部件(4)，包括至少一個根據(jù)權(quán)利要求 1至16中任一項所述的分面鏡。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的照明光學部件，其特征在于根據(jù)權(quán)利要求1至16中任一項 所述的兩個分面鏡(13，14)。
19.根據(jù)權(quán)利要求17或18所述的照明光學部件，其特征在于，分立鏡組(74，75)被分 配給分立鏡照明通道，所述分立鏡照明通道照明物場(5)中的相鄰物場部分(73 ；76)，并組 合以形成整個物場。
20.根據(jù)權(quán)利要求17至19中任一項所述的照明光學部件，其特征在于，所述分面鏡 (13)布置在所述照明光學部件(4)的物平面內(nèi)。
21.投射曝光設(shè)備，包括根據(jù)權(quán)利要求17至20中任一項所述的照明光學部件(4)、生 成照明和成像光(10)的輻射源(3)以及投射光學部件(7)，所述投射光學部件將所述投射 曝光設(shè)備的物場(5)成像到像場(8)。
22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的投射曝光設(shè)備，其特征在于，所述輻射源(3)是EUV輻射源。
23.根據(jù)權(quán)利要求21或22所述的投射曝光設(shè)備，其特征在于，所述分面鏡是在所述 輻射源(3)和所述物場(5)之間設(shè)置在所述照明光(10)的光束路徑中的鏡面反射器(64 ； 70)。
24.根據(jù)權(quán)利要求23所述的投射曝光設(shè)備，其特征在于，在所述鏡面反射器(70)的上 游形成照明光(10)的光束，使得所述鏡面反射器(70)用分配給所述鏡面反射器(70)的分 立鏡(21)的所述輻射源(3)的多個圖像(72)離散地進行照明。
25.根據(jù)權(quán)利要求21至24中任一項所述的投射曝光設(shè)備，其特征在于，所述分面鏡 (67)布置在所述輻射源(3)和鏡面反射器(64 ；70)之間。
26.根據(jù)權(quán)利要求24和25所述的投射曝光設(shè)備，其特征在于，與所述鏡面反射器(70) 相比，布置在所述輻射源(3)和所述鏡面反射器(70)之間的所述分面鏡(67)包括更少量 的分立鏡(69)。
27.根據(jù)權(quán)利要求21至26中任一項所述的投射曝光設(shè)備，其特征在于，照明光(10)的 聚光器(66)布置在所述輻射源(3)和至少一個分面鏡(67)之間。
28.根據(jù)權(quán)利要求27所述的投射曝光設(shè)備，其特征在于，所述聚光器(66)具有連續(xù)的 即非分面的鏡面。
29.根據(jù)權(quán)利要求21至28中任一項所述的投射曝光設(shè)備，在投射曝光期間，掃描方向 (yscJ以對于所述投射曝光設(shè)備(1)的像場(8)和物場(5)的長場軸(χ)的垂線(y)的角 度(α)延伸，在掃描方向用于保持圖案將投射到其上的晶片的晶片夾具與用于保持掩模母版的掩模母版夾具同步地位移，其中所述掩模母版包括將被投射的圖案。
30.制造微結(jié)構(gòu)或納米結(jié)構(gòu)元件的方法，所述方法包括下列步驟 -提供晶片，所述晶片的至少一部分被涂敷有光敏材料的涂層；-提供包括將被成像的結(jié)構(gòu)的掩模母版；-提供根據(jù)權(quán)利要求21至29中任一項所述的投射曝光設(shè)備(1)； -借助于所述投射曝光設(shè)備(1)的投射光學部件(7)，將所述掩模母版的至少一部分投 射到所述涂層的區(qū)域上。
31.一種用根據(jù)權(quán)利要求30所述的方法制造的微結(jié)構(gòu)元件。
全文摘要
分面鏡用作微光刻的投射曝光設(shè)備中的光束引導元件。該分面鏡具有多個分立鏡(21)。對于入射照明光的單獨偏轉(zhuǎn)，在每種情況下這些分立鏡(21)被連接到驅(qū)動器，使得這些分立鏡關(guān)于至少一個傾斜軸(x，y)分別地可傾斜。連接到驅(qū)動器的控制裝置被配置，使得給定組的分立鏡(21)能夠組合成分立鏡組(19)，該分立鏡組在每種情況下包括至少兩個分立鏡(21)。結(jié)果是當分立鏡安裝在投射曝光設(shè)備中時，分立鏡增加用于設(shè)置由投射曝光設(shè)備照明物場的各種照明幾何形狀的變化性。用于形成分面鏡的分立鏡的各種實施例被描述。
文檔編號G02B5/09GK101946190SQ200980105364
公開日2011年1月12日 申請日期2009年2月6日 優(yōu)先權(quán)日2008年2月15日
發(fā)明者烏多·丁格, 弗洛里安·巴赫, 諾伯特·米爾伯格, 阿明·沃伯, 馬丁·恩德雷斯 申請人:卡爾蔡司Smt股份公司