專利名稱：：光刻設(shè)備和校準(zhǔn)方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及一種用于校準(zhǔn)臺系統(tǒng)的方法、臺系統(tǒng)和包括這種臺系統(tǒng)的光刻設(shè)備。
背景技術(shù)：
：光刻設(shè)備是一種將所需圖案應(yīng)用到襯底上，通常是襯底的目標(biāo)部分上的機(jī)器。例如，可以將光刻設(shè)備用在集成電路(IC)的制造中。在這種情況下，可以將可選地稱為掩模或掩模版(reticle)的圖案形成裝置用于生成在所述IC的單層上待形成的電路圖案?？梢詫⒃搱D案成像到襯底(例如，硅晶片)上的目標(biāo)部分(例如，包括一部分管芯、一個(gè)或多個(gè)管芯)上。通常，圖案的轉(zhuǎn)移是通過把圖案成像到提供到襯底上的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上進(jìn)行的。通常，單獨(dú)的襯底將包含被連續(xù)形成圖案的相鄰目標(biāo)部分的網(wǎng)絡(luò)。公知的光刻設(shè)備包括步進(jìn)機(jī)，在所述步進(jìn)機(jī)中，通過將全部圖案一次曝光到所述目標(biāo)部分上來輻射每一個(gè)目標(biāo)部分;以及掃描器，在所述掃描器中，通過輻射束沿給定方向("掃描"方向)掃描所述圖案、同時(shí)沿與該方向平行或反向平行的方向掃描所述襯底來輻射每一個(gè)目標(biāo)部分。也可能通過將圖案壓印(imprinting)到襯底的方式從圖案形成裝置將圖案轉(zhuǎn)移到襯底上。在臺系統(tǒng)中，例如在光刻設(shè)備臺系統(tǒng)中，位置傳感器可以用來測量臺的位置。編碼器型測量系統(tǒng)可以用于這種位置測量。另外，應(yīng)用中可以使用柵格(也稱為格柵)，例如一維或二維柵格、柵格板等，并且傳感器頭和柵格協(xié)同工作。由于格柵的制造過程，格柵可能并不理想，可能會引入偏差。通過所謂的"魚骨"技術(shù)校正在位置傳感系統(tǒng)中的柵格誤差，借此在不同的相互位置處將圖案重復(fù)地投影到襯底上，并且隨后測量圖案之間的間距以將它們與圖案之間的預(yù)定間距比較。所測的差值與測量系統(tǒng)在曝光位置處的誤差相關(guān)。通過確定在位置傳感器的整個(gè)工作范圍上的這些差值，可以確定測量系統(tǒng)上的大量位置的誤差補(bǔ)償值，這些誤差補(bǔ)償值在應(yīng)用時(shí)可以校正測量系統(tǒng)誤差。通常，但不是排他性地限定，應(yīng)用中可以用重疊或鄰近圖案，例如線條圖案，它在某些設(shè)置中形成類似魚骨的圖案。然而，應(yīng)該理解到，這種校準(zhǔn)技術(shù)也可以應(yīng)用任何其他類型的圖案。魚骨校準(zhǔn)技術(shù)僅能夠校準(zhǔn)柵格板中具有低空間頻率的誤差，也就是，當(dāng)臺和柵格板相對于彼此移動時(shí)相對地逐漸改變并具有在與根據(jù)魚骨技術(shù)的重復(fù)圖案相關(guān)的頻率范圍內(nèi)或以下的空間頻率的誤差。通過上述魚骨技術(shù)探測那些導(dǎo)致在高空間頻率的誤差的不精確性或其他影響可能是困難的。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明旨在提高臺位置測量的校準(zhǔn)精確度。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，提供一種臺系統(tǒng)校準(zhǔn)方法，包括a)響應(yīng)設(shè)定點(diǎn)信號，相對于編碼器柵格移動所述臺，所述臺的位置通過臺控制器進(jìn)行控制；b)在所述移動過程中，通過傳感器頭與所述編碼器柵格協(xié)作測量所述臺的位置；c)寄存表示設(shè)定點(diǎn)信號和由所述傳感器頭所測的臺的位置之間的差異的信號；和d)通過表示所述差異的寄存信號校準(zhǔn)所述臺系統(tǒng)。在本發(fā)明的另一實(shí)施例中，提供一種臺系統(tǒng)，其包括可移動臺；編碼器柵格和構(gòu)造成測量所述臺相對于所述編碼器柵格的位置的傳感器頭；和控制器，所述控制器構(gòu)造用于a)根據(jù)設(shè)定點(diǎn)信號，相對于所述編碼器柵格定位所述可移動臺；b)寄存表示所述設(shè)定點(diǎn)信號和由所述傳感器頭所測的可移動臺的位置之間的差異的信號；和c)通過表示所述差異的寄存信號校準(zhǔn)所述臺系統(tǒng)。根據(jù)本發(fā)明的還一實(shí)施例，提供一種光刻設(shè)備，其包括構(gòu)造用于調(diào)節(jié)輻射束的照射系統(tǒng)；構(gòu)造成保持圖案形成裝置的圖案形成裝置支撐結(jié)構(gòu)，所述圖案形成裝置構(gòu)造用于圖案化所述輻射束以形成圖案化的輻射束；構(gòu)造用于支撐襯底的襯底支撐結(jié)構(gòu)；構(gòu)造用于將所述圖案化的輻射束投影到所述襯底上的投影系統(tǒng)，以及構(gòu)造用于移動所述支撐結(jié)構(gòu)中的一個(gè)的臺系統(tǒng)，所述臺系統(tǒng)包括a)用于保持所述支撐結(jié)構(gòu)中的一個(gè)的可移動臺；b)編碼器柵格和構(gòu)造用于測量所述可移動臺相對于所述編碼器柵格的位置的傳感器頭；和C)控制器，所述控制器構(gòu)造用于i)根據(jù)設(shè)定點(diǎn)信號，相對于所述編碼器柵格定位所述可移動臺；iO寄存表示所述設(shè)定點(diǎn)信號和由所述傳感器頭所測的可移動臺的位置之間的差異的信號；和iii)通過表示所述差異的寄存信號校準(zhǔn)所述臺系統(tǒng)。下面參照附加的示意性附圖，僅以實(shí)例的方式對本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)行描述，在附圖中相同的附圖標(biāo)記表示相應(yīng)的部分，在附圖中圖1示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的光刻設(shè)備；圖2示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的圖1中示出的光刻設(shè)備的臺系統(tǒng)的示意性視圖；禾口圖3示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的圖1中示出的光刻設(shè)備的臺系統(tǒng)的示意性視圖。具體實(shí)施方式圖1示意地示出了根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的一種光刻設(shè)備。所述光刻設(shè)備包括配置用于調(diào)節(jié)輻射束B(例如，紫外(UV)輻射或任何其他合適的輻射)的照射系統(tǒng)(照射器)IL，配置用于支撐圖案形成裝置(例如掩模)MA并與配置用于根據(jù)確定的參數(shù)精確地定位圖案形成裝置的第一定位裝置PM相連的圖案形成裝置支撐結(jié)構(gòu)(例如掩模臺)MT。所述設(shè)備還包括配置用于保持襯底(例如涂覆有抗蝕劑的晶片)W并與配置用于根據(jù)確定的參數(shù)精確地定位襯底的第二定位裝置PW相連的襯底臺(例如晶片臺)WT或"襯底支撐結(jié)構(gòu)"。所述設(shè)備還包括配置用于將由圖案形成裝置MA賦予輻射束B的圖案投影到襯底W的目標(biāo)部分C(例如包括一根或多根管芯)上的投影系統(tǒng)(例如折射式投影透鏡系統(tǒng))PS。所述照射系統(tǒng)可以包括各種類型的光學(xué)部件，例如折射型、反射型、磁性型、電磁型、靜電型或其它類型的光學(xué)部件、或其任意組合，以引導(dǎo)、成形、或控制輻射。7所述圖案形成裝置支撐結(jié)構(gòu)以依賴于圖案形成裝置的取向、光刻設(shè)備的設(shè)計(jì)以及諸如圖案形成裝置是否保持在真空環(huán)境中等其他條件的方式保持圖案形成裝置。所述圖案形成裝置支撐結(jié)構(gòu)可以采用機(jī)械的、真空的、靜電的或其他夾持技術(shù)保持圖案形成裝置。所述圖案形成裝置支撐結(jié)構(gòu)可以是框架或臺，例如，其可以根據(jù)需要成為固定的或可移動的。所述圖案形成裝置支撐結(jié)構(gòu)可以確保圖案形成裝置位于所需的位置上(例如相對于投影系統(tǒng))。在這里任何使用的術(shù)語"掩模版"或"掩模"都可以認(rèn)為與更上位的術(shù)語"圖案形成裝置"同義。這里所使用的術(shù)語"圖案形成裝置"應(yīng)該被廣義地理解為表示能夠用于將圖案在輻射束的橫截面上賦予輻射束、以便在襯底的目標(biāo)部分上形成圖案的任何裝置。應(yīng)當(dāng)注意，賦予輻射束的圖案可能不與在襯底的目標(biāo)部分上所需的圖案完全相符(例如如果該圖案包括相移特征或所謂輔助特征)。通常，賦予輻射束的圖案將與在目標(biāo)部分上形成的器件中的特定的功能層相對應(yīng)，例如集成電路。圖案形成裝置可以是透射式的或反射式的。圖案形成裝置的示例包括掩模、可編程反射鏡陣列以及可編程液晶顯示(LCD)面板。掩模在光刻中是公知的，并且包括諸如二元掩模類型、交替型相移掩模類型、衰減型相移掩模類型和各種混合掩模類型之類的掩模類型?？删幊谭瓷溏R陣列的示例采用小反射鏡的矩陣布置，可以獨(dú)立地傾斜每一個(gè)小反射鏡，以便沿不同方向反射入射的輻射束。所述已傾斜的反射鏡將圖案賦予由所述反射鏡矩陣反射的輻射束。應(yīng)該將這里使用的術(shù)語"投影系統(tǒng)"廣義地解釋為包括任意類型的投影系統(tǒng)，包括折射型、反射型、反射折射型、磁性型、電磁型和靜電型光學(xué)系統(tǒng)、或其任意組合，如對于所使用的曝光輻射所適合的、或?qū)τ谥T如使用浸沒液或使用真空之類的其他因素所適合的。這里使用的任何術(shù)語"投影透鏡"可以認(rèn)為是與更上位的術(shù)語"投影系統(tǒng)"同義。如這里所示的，所述設(shè)備是透射型的(例如，采用透射式掩模)。替代地，所述設(shè)備可以是反射型的(例如，采用如上所述類型的可編程反射鏡陣列，或采用反射式掩模)。所述光刻設(shè)備可以是具有兩個(gè)(雙臺)或更多襯底臺或"襯底支撐結(jié)構(gòu)"(和/或兩個(gè)或更多的掩模臺或"掩模支撐結(jié)構(gòu)")的類型。在這種"多臺"機(jī)器中，可以并行地使用附加的臺或支撐結(jié)構(gòu)，或可以在將一個(gè)或更多個(gè)其它臺或支撐結(jié)構(gòu)用于曝光的同時(shí)，在一個(gè)或更多個(gè)臺或支撐結(jié)構(gòu)上執(zhí)行預(yù)備步驟。光刻設(shè)備也可以是這種類型其中襯底的至少一部分被具有相對較高的折射率的液體覆蓋，例如水，以充滿投影系統(tǒng)和襯底之間的空隙。浸沒液體也可以應(yīng)用到光刻設(shè)備的其他空隙，例如在掩模和投影系統(tǒng)之間的空隙。浸沒技術(shù)能夠用于提高投影系統(tǒng)的數(shù)值孔徑。這里用到的術(shù)語"浸沒"并不意味著結(jié)構(gòu)(例如襯底)必須浸入到液體中，僅意味著曝光過程中液體位于投影系統(tǒng)和襯底之間。參照圖l，所述照射器IL接收從輻射源SO發(fā)出的輻射束。該源和所述光刻設(shè)備可以是分立的實(shí)體(例如當(dāng)該源為準(zhǔn)分子激光器時(shí))。在這種情況下，不會將該源考慮成光刻設(shè)備的組成部分，而是通過包括例如合適的定向反射鏡和/或擴(kuò)束器的束傳遞系統(tǒng)BD的幫助，將所述輻射從所述源SO傳到所述照射器IL。在其他情況下，所述源可以是所述光刻設(shè)備的組成部分(例如當(dāng)所述源是汞燈時(shí))?？梢詫⑺鲈碨O和所述照射器IL、以及如果需要時(shí)的所述束傳遞系統(tǒng)BD—起稱作輻射系統(tǒng)。所述照射器IL可以包括用于調(diào)整所述輻射束的角強(qiáng)度分布的調(diào)整器。通常，可以對所述照射器的光瞳平面中的強(qiáng)度分布的至少所述外部和/或內(nèi)部徑向范圍(一般分別稱為c-外部和cT-內(nèi)部)進(jìn)行調(diào)整。此外，所述照射器IL可以包括各種其他部件，例如積分器IN和聚光器CO。所述照射器可以用來調(diào)節(jié)所述輻射束，以在其橫截面中具有所需的均勻度和強(qiáng)度分布。所述輻射束B入射到保持在圖案形成裝置支撐結(jié)構(gòu)(例如，掩模臺)MT上的所述圖案形成裝置(例如，掩模)MA上，并且通過所述圖案形成裝置來形成圖案。已經(jīng)穿過圖案形成裝置MA之后，所述輻射束B通過投影系統(tǒng)PS，所述PS將輻射束聚焦到所述襯底W的目標(biāo)部分C上。通過第二定位裝置PW和位置傳感器IF(例如，干涉儀器件、線性編碼器或電容傳感器)的幫助，可以精確地移動所述襯底臺WT，例如以便將不同的目標(biāo)部分C定位于所述輻射束B的路徑中。類似地，例如在從掩模庫的機(jī)械獲取之后，或在掃描期間，可以將所述第一定位裝置PM和另一個(gè)位置傳感器IF1(在圖l中未明確地示出)用于將圖案形成裝置(例如掩模)MA相對于所述輻射束B的路徑精確地定位。通常，可以通過形成所述第一定位裝置PM的一部分的長行程模塊(粗定位)和短行程模塊(精定位)的幫助來實(shí)現(xiàn)圖案形成裝置支撐結(jié)構(gòu)(例如掩模臺)MT的移動。類似地，可以采用形成所述第二定位裝置PW的一部分的長行程模塊和短行程模塊來實(shí)現(xiàn)所述襯底臺WT或"襯底支撐結(jié)構(gòu)"的移動。在步進(jìn)機(jī)的情況下(與掃描器相反)，所述圖案形成裝置支撐結(jié)構(gòu)(例如，掩模臺)MT可以僅與短行程致動器相連，或可以是固定的?？梢允褂醚谀?zhǔn)標(biāo)記M1、M2和襯底對準(zhǔn)標(biāo)記P1、P2來對準(zhǔn)圖案形成裝置(例如掩模)MA和襯底W。盡管所示的襯底對準(zhǔn)標(biāo)記占據(jù)了專用的目標(biāo)部分，但是他們可以位于目標(biāo)部分之間的空間(這些公知為劃線對齊標(biāo)記)中。類似地，在將多于一個(gè)的管芯設(shè)置在掩模MA上的情況下，所述掩模對準(zhǔn)標(biāo)記可以位于所述管芯之間?？梢詫⑺鲈O(shè)備用于以下模式的至少一種1.在步進(jìn)模式中，在將賦予所述輻射束的整個(gè)圖案一次投影到目標(biāo)部分C上的同時(shí)，將圖案形成裝置支撐結(jié)構(gòu)(例如掩模臺)MT或"掩模支撐結(jié)構(gòu)"和襯底臺WT或"襯底支撐結(jié)構(gòu)"保持為基本靜止(即，單一的靜態(tài)曝光)。然后將所述襯底臺WT或"襯底支撐結(jié)構(gòu)"沿X和/或Y方向移動，使得可以對不同目標(biāo)部分C曝光。在步進(jìn)模式中，曝光場的最大尺寸限制了在單一的靜態(tài)曝光中成像的所述目標(biāo)部分C的尺寸。2.在掃描模式中，在將賦予所述輻射束的圖案投影到目標(biāo)部分C上的同時(shí)，對圖案形成裝置支撐結(jié)構(gòu)(例如掩模臺)MT或"掩模支撐結(jié)構(gòu)"和襯底臺WT或"襯底支撐結(jié)構(gòu)"同步地進(jìn)行掃描(即，單一的動態(tài)曝光)。襯底臺WT或"襯底支撐結(jié)構(gòu)"相對于圖案形成裝置支撐結(jié)構(gòu)(例如掩模臺)MT或"掩模支撐結(jié)構(gòu)"的速度和方向可以通過所述投影系統(tǒng)PS的(縮小)放大率和圖像反轉(zhuǎn)特征來確定。在掃描模式中，曝光場的最大尺寸限制了單一的動態(tài)曝光中的所述目標(biāo)部分的寬度(沿非掃描方向)，而所述掃描移動的長度確定了所述目標(biāo)部分的高度(沿所述掃描方向)。3.在另一個(gè)模式中，將用于保持可編程圖案形成裝置的圖案形成裝置(例如掩模臺)MT保持為基本靜止?fàn)顟B(tài)，并且在將賦予所述輻射束的圖案投影到目標(biāo)部分C上的同時(shí)，對所述襯底臺WT或"襯底支撐結(jié)構(gòu)"進(jìn)行移動或掃描。在這種模式中，通常采用脈沖輻射源，并且在所述襯底臺WT或"襯底支撐結(jié)構(gòu)"的每一次移動之后、或在掃描期間的連續(xù)輻射脈沖之間，根據(jù)需要更新所述可編程圖案形成裝置。這種操作模式可易于應(yīng)用于利用可編程圖案形成裝置(例如，如上所述類型的可編程反射鏡陣列)的無掩模光刻中。也可以采用上述使用模式的組合和/或變體，或完全不同的使用模式。圖2示意性地示出編碼器型位置測量系統(tǒng)1，包括編碼器型傳感器頭2和一維(1D)情況下的柵格板3。柵格板3是其上設(shè)置有一個(gè)或多個(gè)一維格柵的板。另外，在柵格板上可以設(shè)置與一維、二維(水平+水平、水平+垂直)或甚至三維傳感器協(xié)同工作的二維格柵。傳感器頭2安裝在傳感器物體4上，可以是例如襯底臺或圖案形成裝置臺等臺子。襯底臺構(gòu)造用于移動襯底臺或支撐結(jié)構(gòu)，而圖案形成裝置臺構(gòu)造用于移動圖案形成裝置支撐結(jié)構(gòu)。位置測量系統(tǒng)1構(gòu)造用于測量傳感器物體相對于柵格板在至少一個(gè)自由度上的位置。柵格板3的格柵僅能夠制造成具有一定的精確度。常規(guī)的柵格板的制造精確度不足以獲得所需的測量精確度。為了提高位置測量過程中獲得的精確度，對柵格板3進(jìn)行校準(zhǔn)。這種校準(zhǔn)可以通過所謂的魚骨技術(shù)來實(shí)現(xiàn)，在這種技術(shù)中，在柵格板上的每個(gè)校準(zhǔn)位置5的周圍區(qū)域進(jìn)行多次校準(zhǔn)測量，來測量例如加工誤差等任何干擾。在這種魚骨技術(shù)中，對兩個(gè)間隔分開的標(biāo)記形成圖像，然后在交錯(cuò)位置再次對標(biāo)記形成圖像，其中第一標(biāo)記的第一圖像和第二標(biāo)記的第二圖像原則上應(yīng)該間隔分開一個(gè)小的固定的間距。通過比較被成像標(biāo)記的位置和比較它們之間的已經(jīng)預(yù)定的小間距，可以確定第一和第二曝光位置之間的臺的位置測量的偏差。校準(zhǔn)數(shù)據(jù)可以合并形成一個(gè)校正圖，所謂的量測圖，它可以在實(shí)際測量時(shí)用來將擾動考慮進(jìn)去。然而，校準(zhǔn)位置的密度可能受限，因?yàn)橄Ｍ幸欢ǖ膮^(qū)域圍繞著校準(zhǔn)位置。例如，當(dāng)期望0.1nm的精確度，那么期望的柵格間隔(也就是相鄰的校準(zhǔn)位置之間的間距)就是大約l-5mm。此外，隨著對測量精確度的需求的不斷提高，在實(shí)際位置測量過程中該校準(zhǔn)柵格間隔可能不足以獲得所需的精確度。例如，在實(shí)際位置測量過程中為了獲得0.1nm的精確度，需要校準(zhǔn)相同的具有大約0.4mm柵格間隔的柵格板3。因而，高空間頻率(也就是相對于魚骨校準(zhǔn)位置之間的間距具有短的空間周期性)的柵格板誤差可能不能完全地探測到并且可能不能通過上面的魚骨校準(zhǔn)技術(shù)而被考慮。雖然上面已經(jīng)提到魚骨校準(zhǔn)技術(shù)，但是應(yīng)該認(rèn)識到，任何合適的校準(zhǔn)技術(shù)都可以應(yīng)用。在本發(fā)明的實(shí)施例中，用到一種校準(zhǔn)方法，其中校準(zhǔn)位置的密度可以進(jìn)一步提高。根據(jù)該實(shí)施例，用編碼器型傳感器頭2在多個(gè)位置進(jìn)行測量，例如在兩個(gè)校準(zhǔn)位置5之間，隨后在柵格板上面沿所示的方向(箭頭A)以一定的速度移動傳感器物體4。所述速度可以選擇成使得柵格板3中基本上在比兩個(gè)校準(zhǔn)位置5之間的間距更小的間距上延伸的擾動不能或僅部分地被傳感器物體4跟隨。這樣，就可以如隨后將要介紹的那樣獲得校準(zhǔn)數(shù)據(jù)。通過包括被提供以(位置)設(shè)定點(diǎn)信號SETP和傳感器頭2的傳感器輸出信號之間的差值的控制器CON的控制系統(tǒng)CS控制傳感器物體4。控制器CON的輸出信號作為驅(qū)動信號提供給致動器ACT,以驅(qū)動傳感器物體4相對于柵格板3移動，以此提供閉環(huán)控制系統(tǒng)。在圖3中，示出了圖2的包括兩個(gè)校準(zhǔn)位置5的一部分柵格板3。通過僅能夠測量低空間頻率(也就是相對較大的校準(zhǔn)柵格間隔)的校準(zhǔn)方法獲得校準(zhǔn)位置5。正如上面介紹的，可以期望增加校準(zhǔn)位置的數(shù)量。當(dāng)控制傳感器物體4相對于柵格板3移動時(shí)，傳感器可以在兩個(gè)校準(zhǔn)位置之間的多個(gè)位置6處測量傳感器頭2相對于柵格板3的位置。傳感器物體的速度和用于控制傳感器物體4的位置的控制器8的帶寬被選擇成使得傳感器物體基本上不能跟隨柵格板中的基本上在比兩個(gè)校準(zhǔn)位置5之間的間距更小的間距上延伸的擾動。不能跟隨具有相對小的空間間隔(或高的空間頻率)的擾動還可能是由傳感器物體的慣性引起。因而，相對重的圖案形成裝置臺或襯底臺可能適于作為傳感器物體。在那種情形中，控制器可以由(圖案形成裝置或襯底)臺控制器形成。因?yàn)閭鞲衅魑矬w4的控制器8不能適應(yīng)傳感器物體的位置以跟隨擾動，因此，當(dāng)在一個(gè)或多個(gè)校準(zhǔn)位置6處存在擾動7(例如柵格圖案的不規(guī)則)，傳感器頭2測量和真實(shí)位置(在此處傳感器物體沿柵格板3移過)不一致的位置。由傳感器頭2提供的測量位置和由設(shè)定點(diǎn)信號SETP提供的預(yù)定位置之間的差可以從控制系統(tǒng)中的適當(dāng)信號中取得(例如控制器CON的輸入信號和/或輸出信號)，以用來提供表示設(shè)定點(diǎn)信號和由編碼器測量系統(tǒng)的傳感器頭測量的臺的位置之間的差異的信號。這個(gè)差異提供能夠在合適存儲器中寄存的數(shù)據(jù)。這樣，相對于魚骨技術(shù)，對于多個(gè)校準(zhǔn)位置6(隨之增大了校準(zhǔn)位置的密度)，沿著傳感器物體的移動獲得校準(zhǔn)數(shù)據(jù)。相對比，如果擾動在大量校準(zhǔn)位置5上延伸，控制系統(tǒng)中的控制器適配傳感器物體的位置，使得測量的位置和控制器設(shè)定點(diǎn)將會是相同的，這導(dǎo)致差值消失。在實(shí)施例中，傳感器物體的速度選擇成是控制器帶寬乘以兩個(gè)相鄰校準(zhǔn)位置5之間的間距的最小得數(shù)。當(dāng)以這種方式確定所述速度時(shí)，傳感器物體可能基本上不跟隨柵格板中的所述擾動。通常，傳感器物體的速度可以選擇盡可能的高，同時(shí)還能允許傳感器頭2測量所需的校準(zhǔn)位置6處的位置。在實(shí)際應(yīng)用中，臺的控制回路的帶寬可以是(例如)200Hz。假定在校準(zhǔn)位置5之間的間距為5mm，當(dāng)傳感器物體的速度為lm/s，則傳感器物體4可能不能跟隨任何小于5mm的擾動。當(dāng)傳感器的采樣頻率是20kHz，傳感器可以每0.05mm獲得一個(gè)測量值。與感測將要被校準(zhǔn)的不規(guī)則性所用的速度相比，臺控制器的帶寬以及臺控制系統(tǒng)的帶寬可能較低，以便設(shè)置成將為了跟隨柵格中的不規(guī)則性而產(chǎn)生的臺的任何可能的移動至少抑制在與控制器控制的傳感器物體的動態(tài)特性相比不規(guī)則性較小的時(shí)間段內(nèi)的某個(gè)程度。傳感器物體的控制回路的帶寬是可以調(diào)整的。在實(shí)施例中，可以減小帶寬，以降低傳感器物體跟隨柵格板中的基本上在比兩個(gè)校準(zhǔn)位置之間的間距更小的間距上延伸的擾動的能力。通過減小傳感器物體的控制回路的帶寬，傳感器物體可能不能跟隨柵格板中的擾動。這樣，傳感器物體的所需速度可以減小，并隨之使得形成具有相同的傳感器頭2的采樣頻率的更低校準(zhǔn)柵格間隔成為可能。在實(shí)際應(yīng)用中，帶寬可以選擇成至少為發(fā)生在柵格誤差中的最低頻率的1/10，以確保受控制的傳感器物體的響應(yīng)足夠小13而能夠確保控制設(shè)定點(diǎn)和測量位置之間的偏差較好地表示測量柵格誤差。在實(shí)施例中，在根據(jù)本發(fā)明的方法之前，進(jìn)行在所述方法之前的低空間頻率校準(zhǔn)過程。這種低空間頻率校準(zhǔn)方法可以是如上所述的類似魚骨的方法或任何其他合適的校準(zhǔn)方法。在完成低空間頻率校準(zhǔn)過程后，相鄰校準(zhǔn)位置之間的間隔可以用根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的方法進(jìn)行校準(zhǔn)。低空間頻率校準(zhǔn)過程和實(shí)施例中執(zhí)行的高空間頻率校準(zhǔn)過程的校準(zhǔn)數(shù)據(jù)合并在分開的量測圖中或在共同的量測圖中。然后，以通常的方法用這些圖補(bǔ)償位置測量誤差?？蛇x擇地，低空間頻率校準(zhǔn)過程可以在根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的方法之后進(jìn)行。在那種情況下，根據(jù)實(shí)施例的方法也記錄在柵格板中應(yīng)該通過高通過濾或通帶過濾被去除的低頻率誤差。為了考慮到測量中的任何噪音，可以進(jìn)行多次測量，測量結(jié)果可以進(jìn)行平均。在傳感器物體沿柵格板在相同方向或其他方向上移動時(shí)，可以進(jìn)行多次測量。通常，應(yīng)當(dāng)注意到，雖然在圖2和3中只顯示在一個(gè)方向上的校準(zhǔn)移動，但是所述方法可以用在整個(gè)柵格板，其中對于在x和y方向上的每個(gè)位置，可以確定柵格板中x、y和z誤差值并存儲在量測圖中。本方法還可以用來尋找并校正由于柵格板中的缺陷帶來的擾動。在這種應(yīng)用中，需要應(yīng)用具有例如0.1mm或更小的柵格間隔的密集校準(zhǔn)柵格。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的校準(zhǔn)方法的優(yōu)點(diǎn)在于，所述方法可以通過光刻設(shè)備的位置測量系統(tǒng)來執(zhí)行(臺系統(tǒng)和包括臺系統(tǒng)的光刻設(shè)備通過例如合適的程序指令被編程，以便執(zhí)行所述方法)。結(jié)果，柵格板的校準(zhǔn)可以在將柵格板安裝在光刻設(shè)備之后來實(shí)施。因而，在安裝過程中的任何誤差(例如在光刻設(shè)備中配置柵格板的過程中帶來的破壞)都可以在校準(zhǔn)過程中進(jìn)行考慮。而且，柵格板可以周期性地(再)校準(zhǔn)，而不需要將柵格板從光刻設(shè)備中拿出來在單獨(dú)的校準(zhǔn)裝置中進(jìn)行校準(zhǔn)。因?yàn)橛捎跓峄驒C(jī)械原因在柵格板上可能存在誤差并且例如塵粒等顆?？赡軙Ａ粼跂鸥癜迳希虼?，周期性地校準(zhǔn)柵格板是有益的。通過周期性地再校準(zhǔn)柵格板，可以考慮到這些改變并且將它們存儲在柵格板量測圖中。在由于塵?；蛉魏纹渌廴疚飵淼臄_動的情形中，測量信息還可以用作清潔處理的輸入。上面的校準(zhǔn)可以沿直線執(zhí)行。也可以沿著多條直線執(zhí)行(例如為了掃描并校準(zhǔn)平面)。隨之，可以形成數(shù)據(jù)的2維場。可以將二維濾波器應(yīng)用到這些數(shù)據(jù)，以便去除將要校準(zhǔn)的空間頻率范圍外的誤差、假信號(低頻干擾)的不期望的影響。濾波器(在一維情形和二維情形中)可以包括在將要校準(zhǔn)的空間頻率范圍內(nèi)的空間帶寬。因此，其中所述將要校準(zhǔn)的偏差可能被發(fā)現(xiàn)的帶寬的外部的影響可以被去除或至少被減小、以降低在校準(zhǔn)過程中的影響。因此，作為示例，當(dāng)測量包括編碼器柵格板誤差的高頻率圖時(shí)，襯底臺在柵格圖下面以高速移動。通過利用低的控制器帶寬，在柵格圖中的高頻率分量不能被所述臺跟蹤。來自設(shè)定點(diǎn)的編碼器位置的所測偏差隨后被假定為由柵格板誤差引起。通過在Y方向上以變化的X位置掃描多次，并且在X方向上以變化的Y位置掃描，建立完整的誤差圖。X方向和Y方向限定基本上平行于晶片表面的平面，如上面關(guān)于圖l所述。通過應(yīng)用二維濾波技術(shù)，僅通過大約1到10mm之間的空間頻率；波長大于10mm和波長小于lmm的波被閉鎖。最后的結(jié)果是僅包括這些頻率的柵格板的誤差圖。低控制器帶寬確保柵格板中的相關(guān)頻率不被跟蹤。但是，由于許多可能的擾動因素，例如臺的緩慢的設(shè)置和調(diào)整行為(settlingbehavior)(在實(shí)際的示例中，當(dāng)帶寬從200減小到10Hz時(shí)設(shè)置和調(diào)整誤差(settlingbehavior)由10nm變成10pm)，低帶寬會導(dǎo)致控制系統(tǒng)的敏感性。此外，設(shè)置和調(diào)整行為可能變得更緩慢，以至于在臺移動的恒速運(yùn)動部分過程中，完全沒有發(fā)生設(shè)置和調(diào)整。還有，因?yàn)?例如)放大器或電機(jī)特性，或者臺的長行程電機(jī)的嵌齒效應(yīng)影響短形成定位、而導(dǎo)致在相反方向上的掃描之間存在差異，使得在正和負(fù)方向上的掃描給出不同的結(jié)果?？傊?，用于柵格板誤差的精確測量的低的所需帶寬引入了大量的、當(dāng)使用高帶寬時(shí)被抑制的新誤差。這些影響可以在獲得完整的測量誤差圖后通過二維通帶濾波被部分過濾掉，但是，可能不足以形成足夠精確的HF圖。在光刻設(shè)備運(yùn)行過程中(例如晶片曝光)，上面的現(xiàn)象通過控制系統(tǒng)的高伺服系統(tǒng)帶寬進(jìn)行補(bǔ)償。下面描述多個(gè)可能的解決方法，它們幫助至少減小上面提到的影響中的一個(gè)或多個(gè)。首先，當(dāng)測量完整的二維柵格板時(shí)，在X和Y方向上進(jìn)行掃描。在15多個(gè)X位置上執(zhí)行Y方向上的掃描，反之亦然。由于低的控制器帶寬而被新引入的誤差傾向于在所有的Y掃描中復(fù)制。類似地，對于所有X掃描的新引入的誤差也是類似的。相反，將要被測量的柵格板誤差對于所有X掃描和所有Y掃描都不會復(fù)制(如果它們可能，則它們將具有非常低的已經(jīng)通過"魚骨"技術(shù)補(bǔ)償?shù)目臻g頻率)。因而，通過平均所有Y掃描，得到一個(gè)"公共"的不是通過柵格板引起而是通過由低帶寬導(dǎo)致的控制器誤差引入的Y誤差信號。通過從所有單個(gè)Y掃描中減去這個(gè)平均誤差，剩余的單個(gè)掃描僅包括柵格板誤差，而不再有控制器誤差。對于所有X掃描可以應(yīng)用相同的技術(shù)。因而，對于臺相對于編碼器柵格的不同位置可以重復(fù)臺的移動，其中對于不同位置平均在c)處寄存的信號以獲得平均信號曲線，并且其中從表示所述差異的寄存信號中減去所述平均信號曲線，在相減的結(jié)果上執(zhí)行校準(zhǔn)。當(dāng)真實(shí)的柵格圖誤差沒有在沿著柵格的方向上復(fù)制，這種技術(shù)是有益的。而且，寄存信號的峰值可以彼此進(jìn)行比較，通過對比得到可能的波動參數(shù)，在從表示所述差異的寄存信號中減去平均信號曲線前，所述波動參數(shù)應(yīng)用到平均信號曲線。因而，在峰值中的漸次的波動(例如斜率)可以被考慮。其次，為了提供臺的移動的更快的設(shè)置和調(diào)整，當(dāng)將所述臺加速朝向恒定速度時(shí)，控制器的帶寬可以增大，在設(shè)置和調(diào)整所述臺使其速度接近移動的恒定速度時(shí)減小控制器的帶寬。在所述臺加速到恒定速度的過程中，產(chǎn)生大部分的控制器誤差。在加速階段通過設(shè)定高的帶寬，使誤差保持較小。在達(dá)到恒定速度后，可以減小帶寬，允許柵格板誤差的測量。因此，在實(shí)際示例中IO微米的設(shè)置和調(diào)整行為可以減小到IO納米。第三，可以執(zhí)行臺相對于編碼器柵格的多次移動，這些移動在速度、方向、臺移動的開始位置、臺的長行程電機(jī)的開始位置以及移動的方位中的至少一方面是彼此不同的，每次移動的寄存信號被平均。通過速度變化的掃描(移動)，不是所有的掃描都是以相同的速度來執(zhí)行的。通過應(yīng)用(例如)兩個(gè)速度，所尋求的柵格板誤差將在時(shí)域(timedomain)中被看到為具有兩個(gè)不同頻率的傳感器信號。換句話說，在空間域中，時(shí)間相關(guān)的控制器誘發(fā)的誤差(例如，設(shè)置和調(diào)整)將是不同的，而柵格板誤差是相同的。通過開始位置變化的掃描(例如通過稍微改變掃描開始位置)，時(shí)間相關(guān)的控制器誘發(fā)的誤差將會在空間圖的另一部分中看到，因而允許在這兩個(gè)掃描之間出現(xiàn)差別。通過變化平衡質(zhì)量(balance-mass)位置(例如通過從掃描到掃描地變化平衡質(zhì)量位置)，可以改變依賴于相對于平衡質(zhì)量的長行程電機(jī)位置的嵌齒效應(yīng)。平均這些每次以不同的平衡質(zhì)量位置執(zhí)行的掃描，可以減小嵌齒效應(yīng)對于校準(zhǔn)的影響。因此，長行程電機(jī)可能帶來的影響(例如由于電機(jī)的磁體相對于線圈的位置)可以通過對應(yīng)不同的掃描改變長行程電機(jī)的位置來找到，以能夠區(qū)分由長行程電機(jī)的這種影響引起的所述臺的位置誤差。第四，迭代學(xué)習(xí)控制可以用來學(xué)習(xí)將要校準(zhǔn)的空間頻率范圍外部的空間頻率范圍內(nèi)的誤差。因而，可以從掃描(即，移動)到掃描地執(zhí)行迭代學(xué)習(xí)控制(簡稱為ILC)，以重復(fù)地學(xué)習(xí)誤差校正次數(shù)表(errorcorrectiontimetable)。ILC表可以被濾波，使得在柵格板中的所關(guān)心的頻率從ILC表中被濾除。相反，具有高空間頻率的誤差(那些將要通過校準(zhǔn)去除的頻率)也將會被補(bǔ)償。第五，在雙臺光刻設(shè)備中在交換臺后，可以重復(fù)所述臺相對于編碼器柵格的移動。因此，在測量結(jié)果中與臺相關(guān)的差異可以從其他影響中區(qū)分，這就可以允許以上面簡述的相同的方法減小它們。第六，所述移動可以包括恒定速度移動部分和加速移動部分，在加速移動部分期間臺的加速相對于控制器的帶寬是較慢的。通過應(yīng)用(例如)對應(yīng)臺的移動的平滑多項(xiàng)加速度曲線，在加速階段過程中也可以進(jìn)行測量，這允許測量柵格圖的更大部分，因?yàn)闇y量可以從更加接近柵格板的邊緣的位置處開始。因而，需要考慮圍繞柵格邊緣的更小的邊界。加速移動部分可以包括恒定作用力階段?？梢酝ㄟ^非恒定的、增大的速度提供復(fù)雜性(complication),這可以具有柵格圖誤差中的空間誤差導(dǎo)致傳感器數(shù)據(jù)中的非恒定頻率的影響。因此，一旦通過特定的速度閥值，測量就變得有效。第七，通過對臺的相同的移動重復(fù)上面所述的校準(zhǔn)過程可以提供重復(fù)校準(zhǔn)。在實(shí)際的實(shí)施例中，每次掃描可以執(zhí)行(例如)20-30次。在完成所有的掃描后，可以計(jì)算并更新校準(zhǔn)圖?？商鎿Q地，校準(zhǔn)圖可以在更小的掃描次數(shù)基礎(chǔ)上產(chǎn)生(例如5次)，然后在機(jī)器中更新，再次測量等。這樣，迭代過程可以使用而整個(gè)地不需要更多次掃描，但是，在這個(gè)過程的后面階段中，剩余的柵格圖誤差較小，允許更加可復(fù)制的伺服誤差。在每次迭代中，可以應(yīng)用可能不同的二維濾波，例如在損害更大的無用的邊緣的情況下應(yīng)用更加精確的濾波。此外，迭代的開始點(diǎn)可以通過"平均柵格板"形成，因?yàn)樗械陌宥际菓?yīng)用相同的原料制造的。第八，在臺移動的過程中，通過加速計(jì)可以測量臺的加速，由此從測量的加速度得出校正信號，在校準(zhǔn)前校正信號被用于校正表示設(shè)定點(diǎn)信號和臺的位置之間的差異的信號。因而，加速計(jì)可以加入到臺中用來測量(例如)X和Y(以及可能的Rz)加速，并且通過(例如)加速計(jì)數(shù)據(jù)(在HF圖頻率范圍內(nèi))的二重積分(doubleintegration)計(jì)算臺的絕對位置值，以用作對柵格板系統(tǒng)測量數(shù)據(jù)進(jìn)行比較的參考。因而，加速計(jì)作為獨(dú)立的位置傳感器起作用，依靠它對柵格板傳感器數(shù)據(jù)進(jìn)行比較。第九，在臺移動過程中，臺的加速度可以通過加速計(jì)測量，將加速度反饋提供給控制器，因而在如上述那樣保持低的帶寬位置控制器的同時(shí)，設(shè)置臺的額外(實(shí)際)的質(zhì)量，使其對作用力擾動的敏感性更低。第十，表示設(shè)定點(diǎn)信號和臺的位置之間的差異的信號可以乘以控制器的(帶通濾波)反控制敏感度(inversecontrolsensitivity),相乘的結(jié)果用來校準(zhǔn)。如上述，可以使用低的臺控制帶寬，以實(shí)現(xiàn)臺在所關(guān)心的頻率范圍內(nèi)不響應(yīng)于柵格板誤差。對柵格板誤差的臺響應(yīng)等于1/(1+PC)，其中P表示臺的級間傳遞函數(shù)(stagetransferfunction),C表示控制器的控制器傳遞函數(shù)。在低帶寬的情況下，在更高的空間頻率范圍內(nèi)C趨于零，并因此在臺誤差和柵格板誤差之間存在一對一關(guān)系(onetoonerelation)。當(dāng)考慮控制敏感度時(shí)，應(yīng)用更大的臺控制器帶寬是可能的。然后，所測的傳感器輸出乘以(1+PC)以補(bǔ)償臺響應(yīng)。通常，這樣的乘法很困難，因?yàn)閷τ诘皖l來說(1+PC)趨近于無窮大。但是，可以使用(1+PC)的修改形式(modifiedversion),所述(1+PC)的修改形式可以在所關(guān)心的頻率中被校正，但是，對于其他頻率趨近于零，也就是(1+PC)乘以通帶濾波B。雖然上面的每個(gè)原理都可以應(yīng)用，但也可以應(yīng)用上面原理的兩個(gè)或多個(gè)的結(jié)合體，并且每個(gè)原理都可以提供上面所述的效果。應(yīng)該理解到，這里所述的校準(zhǔn)技術(shù)以及對這些校準(zhǔn)技術(shù)的進(jìn)一步細(xì)化可以用于如通過傳感器頭探測的那樣在任何所需的自由度上的校準(zhǔn)。傳感器頭可以包括任何合適的傳感器，例如編碼器型傳感器、干涉計(jì)型傳感器(例如測量從傳感器頭朝向編碼器柵格的間距)、以及編碼器/干涉計(jì)的結(jié)合等。雖然在本文中詳述了光刻設(shè)備用在制造ICs(集成電路)，但是應(yīng)該理解到這里所述的光刻設(shè)備可以有其他的應(yīng)用，制造集成光學(xué)系統(tǒng)、磁疇存儲器的引導(dǎo)和檢測圖案、平板顯示器、液晶顯示器(LCDS)、薄膜磁頭等。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該看到，在這種替代應(yīng)用的情況中，可以將其中使用的任意術(shù)語"晶片"或"管芯"分別認(rèn)為是與更上位的術(shù)語"襯底"或"目標(biāo)部分"同義。這里所指的襯底可以在曝光之前或之后進(jìn)行處理，例如在軌道(一種典型地將抗蝕劑層涂到襯底上，并且對已曝光的抗蝕劑進(jìn)行顯影的工具)、量測工具和/或檢驗(yàn)工具中。在可應(yīng)用的情況下，可以將所述公開內(nèi)容應(yīng)用于這種和其他襯底處理工具中。另外，所述襯底可以處理一次以上，例如為產(chǎn)生多層IC，使得這里使用的所述術(shù)語"襯底"也可以表示已經(jīng)包含多個(gè)已處理層的襯底。盡管以上已經(jīng)做出了具體的參考，在光學(xué)光刻的情況中使用本發(fā)明的實(shí)施例，但應(yīng)該理解的是，本發(fā)明的實(shí)施例可以有其它的應(yīng)用，例如壓印光刻，并且只要情況允許，不局限于光學(xué)光刻。在壓印光刻中，圖案形成裝置中的拓?fù)湎薅嗽谝r底上產(chǎn)生的圖案?？梢詫⑺鰣D案形成裝置的拓?fù)溆∷⒌教峁┙o所述襯底的抗蝕劑層中，在其上通過施加電磁輻射、熱、壓力或其組合來使所述抗蝕劑固化。在所述抗蝕劑固化之后，所述圖案形成裝置從所述抗蝕劑上移走，并在抗蝕劑中留下圖案。這里使用的術(shù)語"輻射"和"束"包含全部類型的電磁輻射，包括紫外(UV)輻射(例如具有約365、248、193、157或126nm的波長)和深紫外(EUV)輻射(例如具有5-20nm范圍的波長)以及粒子束，例如離子束或電子束。這里使用的術(shù)語"透鏡"可以認(rèn)為是一個(gè)或多種類型的光學(xué)元件的組合體，包括折射型、反射型、磁學(xué)型、電磁型和靜電型光學(xué)部件。上面已經(jīng)描述了本發(fā)明的特定的實(shí)施例，但應(yīng)該理解本發(fā)明可以應(yīng)用到除上面所述以外的情形。例如，本發(fā)明可以采用包含至少一個(gè)可機(jī)讀的19指令序列的計(jì)算機(jī)程序的形式描述一種如上面公開的方法，或具有存儲其中的所述的計(jì)算機(jī)程序的數(shù)據(jù)存儲媒介(例如半導(dǎo)體存儲器、磁盤或光盤)。上面描述的內(nèi)容是例證性的，而不是限定的。因而，應(yīng)該認(rèn)識到，本領(lǐng)域的技術(shù)人員在不脫離給出本發(fā)明的權(quán)利要求的范圍，可以對上述本發(fā)明進(jìn)行更改。權(quán)利要求1.一種臺系統(tǒng)校準(zhǔn)方法，其包括步驟a)響應(yīng)設(shè)定點(diǎn)信號，相對于編碼器柵格移動臺，所述臺的位置通過臺控制器進(jìn)行控制；b)在所述移動過程中，通過傳感器頭與所述編碼器柵格協(xié)作操作來測量所述臺的位置；c)寄存表示設(shè)定點(diǎn)信號和由所述傳感器頭所測的臺的位置之間的差異的信號；和d)通過表示所述差異的寄存信號校準(zhǔn)所述臺系統(tǒng)。2.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，與感測柵格中將要被校準(zhǔn)的不規(guī)則性所用的速度相比，所述臺控制器的帶寬較低。3.如權(quán)利要求1所述的方法，其包括對于臺相對于所述編碼器柵格的至少兩次不同的移動，重復(fù)a)-c)，并且在d)之前，通過應(yīng)用二維濾波器過濾所述寄存的表示所述差異的信號。4.如權(quán)利要求3所述的方法，其中，所述濾波器包括在將要校準(zhǔn)的空間頻率范圍內(nèi)的空間帶寬。5.如權(quán)利要求l所述的方法，其包括，在d)之前，通過應(yīng)用在將要校準(zhǔn)的空間頻率范圍內(nèi)的空間帶寬過濾表示所述差異的所述寄存信號。6.如權(quán)利要求1所述的方法，其包括對于所述臺相對于所述編碼器柵格的不同位置重復(fù)所述臺的移動；對于所述不同位置平均在c)步驟寄存的所述信號，以獲得平均信號曲線；禾口從所述寄存的表示所述差異的信號減去所述平均信號曲線，在所減去后的結(jié)果的基礎(chǔ)上進(jìn)行所述校準(zhǔn)。7.如權(quán)利要求6所述的方法，其包括對比在c)步驟寄存的信號的峰值，通過對比得到可能的波動參數(shù)，在從所述寄存的表示所述差異的信號中減去平均信號曲線之前將所述波動參數(shù)應(yīng)用到所述平均信號曲線。8.如權(quán)利要求1所述的方法，其包括在步驟a)中，當(dāng)朝向恒定速度加速所述臺時(shí)增大所述臺控制器的帶寬，以及設(shè)置和調(diào)整臺使其速度接近移動的恒定速度時(shí)減小所述臺控制器的所述帶寬。9.如權(quán)利要求1所述的方法，其包括執(zhí)行多次所述臺相對于所述編碼器柵格的移動，所述移動在速度、方向、臺移動的開始位置、臺的長行程電機(jī)的開始位置和移動方位中至少一方面彼此不同，每個(gè)所述移動的所述寄存信號被平均。10.如權(quán)利要求1所述的方法，其包括應(yīng)用迭代學(xué)習(xí)控制以學(xué)習(xí)在將要校準(zhǔn)的空間頻率范圍外的空間頻率范圍內(nèi)的誤差。11.如權(quán)利要求l所述的方法，其包括在雙臺光刻設(shè)備中交換臺之后重復(fù)所述臺相對于所述編碼器柵格的移動。12.如權(quán)利要求l所述的方法，其中，所述移動包括恒定速度移動部分和加速移動部分，在所述加速移動部分過程中所述臺的加速相對于所述臺控制器的帶寬是較慢的。13.如權(quán)利要求l所述的方法，其中對于所述臺的相同移動，通過重復(fù)a)-d)提供迭代校準(zhǔn)。14.如權(quán)利要求1所述的方法，其包括在所述臺的所述移動過程中，通過加速計(jì)測量所述臺的加速度；從所測的加速度得到校正信號，并且在用所述校正信號校準(zhǔn)之前校正表示設(shè)定點(diǎn)信號與臺的位置之間的差異的信號。15.如權(quán)利要求1所述的方法，其包括在所述臺移動過程中，通過加速計(jì)測量所述臺的加速度，將加速度反饋提供給所述臺控制器。16.如權(quán)利要求1所述的方法，其包括用所述臺控制器的帶通濾波反控制靈敏度乘以表示所述設(shè)定點(diǎn)信號和所述臺的位置之間的差異的信號，將相乘的結(jié)果用來校準(zhǔn)。17.—種臺系統(tǒng)，其包括-可移動臺；編碼器柵格和傳感器頭，所述傳感器頭構(gòu)造成測量所述臺相對于所述編碼器柵格的位置；和控制器，所述控制器構(gòu)造用于a)響應(yīng)設(shè)定點(diǎn)信號，相對于所述編碼器柵格定位所述可移動臺；b)寄存表示所述設(shè)定點(diǎn)信號和由所述傳感器頭測量的所述可移動臺的位置之間的差異的信號；和c)通過表示所述差異的所述寄存信號校準(zhǔn)所述臺系統(tǒng)。18.—種光刻設(shè)備，其包括.-照射系統(tǒng)，所述照射系統(tǒng)構(gòu)造用于調(diào)節(jié)輻射束；圖案形成裝置支撐結(jié)構(gòu)，所述圖案形成裝置支撐結(jié)構(gòu)構(gòu)造成保持圖案形成裝置，所述圖案形成裝置構(gòu)造用于圖案化所述輻射束以形成圖案化的輻射束；襯底支撐結(jié)構(gòu)，所述襯底支撐結(jié)構(gòu)構(gòu)造用于支撐襯底；投影系統(tǒng)，所述投影系統(tǒng)構(gòu)造用于將所述圖案化的輻射束投影到所述襯底上，和臺系統(tǒng)，所述臺系統(tǒng)構(gòu)造用于移動所述支撐結(jié)構(gòu)中的一個(gè)，所述臺系統(tǒng)包括a)用于保持所述支撐結(jié)構(gòu)中的一個(gè)的可移動臺；b)編碼器柵格和傳感器頭，所述傳感器頭構(gòu)造用于測量所述可移動臺相對于所述編碼器柵格的位置；和c)控制器，所述控制器構(gòu)造用于0響應(yīng)設(shè)定點(diǎn)信號，相對于所述編碼器柵格定位所述可移動臺.ii)寄存表示所述設(shè)定點(diǎn)信號和由所述傳感器頭測量的所述可移動臺的位置之間的差異的信號；和iii)通過表示所述差異的寄存信號校準(zhǔn)所述臺系統(tǒng)。全文摘要本發(fā)明提供一種臺系統(tǒng)校準(zhǔn)方法，其包括響應(yīng)設(shè)定點(diǎn)信號相對于編碼器柵格移動所述臺，并且通過傳感器頭與所述編碼器柵格協(xié)作操作測量所述臺的位置。臺的位置通過臺控制器進(jìn)行控制。寄存表示設(shè)定點(diǎn)信號和由所述傳感器頭所測的臺的位置之間的差異的信號。通過表示所述差異的寄存信號校準(zhǔn)所述臺系統(tǒng)。文檔編號G03F9/00GK101504511SQ20091000381公開日2009年8月12日申請日期2009年2月6日優(yōu)先權(quán)日2008年2月8日發(fā)明者B·T·沃哈爾,G·安格利斯,M·R·漢姆爾斯,M·W·M·范德維基斯特,P·霍?？怂棺?R·G·克拉沃爾申請人:Asml荷蘭有限公司